【課題】良好な感度を有し、かつ、感光性樹脂組成物が遮光剤を含んだり、露光量が不足したりするような状況にあっても、現像後のパターンにアンダーカットが生じることを抑制することのできる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）光重合性化合物、及び（Ｂ）下記一般式（１）で表されるオキシム系光重合開始剤を含み、さらに（Ｃ）前記（Ｂ）成分と異なる光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を使用する。
（もっと読む）

【課題】化合物の製造方法、および新規化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｉ）と、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物（ＩＩ）とを反応させることを特徴とする下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物（Ｂ１）の製造方法。［下記式中、Ｘは二価の連結基又は単結合であり；Ｒは水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基であり；Ｒ’は脂肪族基であり；ｎは１〜１０の整数であり；Ｍ^＋は、アルカリ金属イオンである。Ａ^＋は有機カチオンであり、Ｚ⁻は臭素イオン、塩素イオン、化合物（Ｉ）よりも酸性度が低い酸になりうるイオン、ＢＦ_４⁻、ＡｓＦ_６⁻、ＳｂＦ_６⁻、ＰＦ_６⁻またはＣｌＯ_４⁻である。］
（もっと読む）

【課題】ウエハの反りの発生を防止する。
【解決手段】ウエハ１１が貼り付けられている支持体１３を支持する支持方法であって、支持体１３におけるウエハ１１が貼り付けられている面とは反対側の被支持面１３ａの内周部における少なくとも三点を支持点１４として、重力に抗して支持する。 （もっと読む）

【課題】吐出ノズル式塗布法に好適に用いることができるポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】吐出ノズルと基板とを相対的に移動させることによって基板の塗布面全体にレジスト組成物を塗布する工程を有する吐出ノズル式塗布法に用いられるポジ型レジスト組成物であって、アルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ａ）及びナフトキノンジアジド基含有化合物（Ｃ）を、炭素数６以上のジオール（Ｓ１）を含む有機溶剤（Ｓ）に溶解してなることを特徴とするポジ型レジスト組成物；吐出ノズルと支持体とを相対的に移動させることによって支持体の塗布面全面に前記ポジ型レジスト組成物を塗布する工程、前記支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】側鎖に極性基を持たないシロキサンポリマーを含有する組成物の親水性基板に対する密着性を向上させる。
【解決手段】実施の形態に係るケイ素含有膜形成組成物は、側鎖に環構造を持つシロキサンポリマー（Ａ）と、極性低分子化合物（Ｂ）と、溶剤（Ｃ）と、を含有する。シロキサンポリマ−（Ａ）は、下記式（ａ−２）で表される構成単位を有する。極性低分子化合物（Ｂ）として、２級または３級のアルコールアミンまたはアルキルアミンなどの塩基性を有するアミン類が挙げられる。溶剤（Ｃ）は、シロキサンポリマー（Ａ）を溶解できるものであればよい。
【化１】
（もっと読む）

【課題】より簡便な、かつ高温の焼成を必要としない条件で、基板の所望の位置に複合酸化物の薄膜を形成させることのできる塗布液及びそれを使用した方法を提供すること。
【解決手段】インジウム（Ｉｎ）のキレート化合物（Ｉ）、亜鉛（Ｚｎ）のキレート化合物又は酢酸塩（Ｚ）、及び有機溶媒（Ａ）を含む複合酸化物膜形成用の塗布液を塗布して基材の表面に塗膜を形成し、次いでこの塗膜を焼成することにより複合酸化物膜に転換させる。 （もっと読む）

【課題】他のレジストパターンへの影響、及び、塗布欠陥を低減できるレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を、有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）が、プロピレングリコールエーテル（但し、プロピレングリコールアルキルエーテルの場合、アルキル基の炭素数は３以上）、及び、炭素数３以上の水酸基を有するアルカンから選ばれる１種以上の溶剤（Ｓ１）と、プロピレングリコールアルキルエーテルカルボキシレート（Ｓ２）と、酢酸アルキルエステル及びジアルキルエーテルから選ばれる1種以上の溶剤（Ｓ３）とを含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、パターン形成方法及び高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、側鎖にＯＨ基を含む基を有する環状の飽和炭化水素基を有する（メタ）アクリレート単位を有し、且つ特定の酸不安定性基を側鎖に有する（メタ）アクリレート単位の少なくとも１種を有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、樹脂成分（Ａ１）の全構成単位の合計に対し構成単位（ａ１１）の割合が３５モル％を超える。 （もっと読む）

【課題】基板に対する前処理後、塗布までの間に基板の表面の状態が変化するのを抑えること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記液状体が塗布される前の前記基板に対して前処理を行う前処理部と、前記塗布部によって前記液状体が塗布される塗布空間と前記前処理部によって前記前処理が行われる前処理空間とを接続する接続空間を有し、前記接続空間の雰囲気が不活性ガスの雰囲気となるように調整可能に設けられた接続部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ用またはＥＢ用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（ａ０−０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する樹脂成分（Ａ）を含有し、露光により発生した酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するＥＵＶ用またはＥＢ用レジスト組成物。［化１］
（もっと読む）