説明

東京応化工業株式会社により出願された特許

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【目的】 基板に搬送装置の熱を直接伝えることなく且つ大型基板でも撓むことのない搬送装置を提供する。
【構成】 アーム1の先端部に円形状ハンド2が取り付けられ、このハンド2の底面5にはピン6が固定されている。またピン6の高さはピンに基板Wを載置した状態で、基板Wが起立壁4の上端から食み出さない程度、即ち基板Wの厚さ分程度、起立壁4の上端よりもピン6の上端を低く設定している。 (もっと読む)


【課題】上面に銅が存在する支持体を用いたときに、レジストパターンに与えられる銅の影響を低減することができるとともに、製造時の管理、制御が容易であり、ミキシングの問題が生じにくいレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】(a)上面に銅が存在する支持体と、(b)無機物供給源より供給される無機物からなる無機物層と、(c)化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物からなるホトレジスト層とを積層してホトレジスト積層体を得る積層工程と、前記ホトレジスト積層体に選択的に活性光線又は放射線を照射する露光工程と、前記(c)層とともに前記(b)層を現像することにより、レジストパターンを形成する現像工程とを含むことを特徴とするレジストパターンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 レジスト組成物自体の組成を変えることなく、しかも使用することによって得られるレジストパターンの品質低下を伴わずに、効率よくディフェクトを減少させうる新規なリソグラフィー用現像前処理剤を提供する。
【解決手段】 分子構造中に窒素原子を有する水溶性若しくはアルカリ可溶性ポリマーの溶液からなるリソグラフィー用現像前処理剤とする。 (もっと読む)


【課題】 半導体ウェーハ等の基板とサポートプレートの間に挟まったガスを容易に除去しつつ圧着できる貼り付け方法を提供する。
【解決手段】 半導体ウェーハ等の基板Wの回路形成面に接着剤を塗布して回路形成面の上に接着剤層1を形成し、次いでこの接着剤層1を加熱して乾燥固化せしめ、この後、前記接着剤層1の上に厚み方向の貫通孔3をプレートの全域に亘って設けたサポートプレート2を重ね、この状態で減圧雰囲気且つ加熱下においてサポートプレート2を接着剤層1に押し付けて圧着する。 (もっと読む)


【課題】 半導体ウェーハやガラス基板などの基板表面に供給された塗布液をエッジビードのない均一な厚さに簡単に均すことができる塗布装置を提供する。
【解決手段】 塗布装置はトレイ1と塗布液供給ノズル2と塗布液を押し広げるアプリケータとしてのスキージ3を備え、トレイ1には基板Wを嵌め込むための凹部11が形成され、この凹部11にはスピンナーチャック12が設けられている。このスピンナーチャック12は昇降自在とされたスピンナー軸13の上端部に基板Wを吸引するチャック14が取り付けられ、スピンナー軸13が最下位まで下がった状態でチャック14上面と凹部11の底面とが面一になるように設定されている。 (もっと読む)


【課題】 2系列の現像液配管を擁する現像装置に適用して効果的な温度調整機構を提供する。
【解決手段】 温度調整機構6のジャケット10内は一端が開放された仕切板14によって内部を2つの流路10a、10bに分割し、これら流路10a、10bは仕切板14の開放された端部の箇所でつながっている。仕切板14の開放されていない側の一方のジャケット10端部には温調水流入口15が、また同じ端部の下側には温調水排出口16が設けられている。そして、仕切板14によって2分割されて形成された夫々の流路10a、10bには、前記薬液配管11,12が貫通している。 (もっと読む)


【課題】 下層に密パターンを形成し、上層に疎パターンを形成するレジストパターンの形成方法において、ミキシングを抑制できるネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記(i)〜(ii)の工程;(i)基板上に第1のレジスト組成物を用いて第1のレジスト層を形成し、該第1のレジスト層に密パターンを形成する選択的露光を施す工程;(ii)該第1のレジスト層の上に第2のレジスト組成物を用いて第2のレジスト層を形成し、該第2のレジスト層にパターンを形成する選択的露光を施す工程;を含むレジストパターンの形成において、前記第1又は第2のレジスト層に用いられるネガ型レジスト組成物であって、当該ネガ型レジスト組成物から形成されるレジスト層と接触する前記第1又は第2のレジスト層を溶解しない有機溶剤(D)として、アルコール系有機溶剤に溶解したことを特徴とするネガ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】 リソグラフィー技術によりレジストパターンを形成させる際、レジストパターンの表面を接触角70度以上に改質してパターン倒れを迅速かつ効果的に防止して、高品質の製品を製造するための新規なリンス液を提供する。
【解決手段】 (A)水溶性含フッ素化合物及び(B)オルガノシラン化合物を含有する溶液からなるリソグラフィー用リンス液とする。 (もっと読む)


【課題】 あらゆる方向からの力に対抗してロール製品を確実に固定することができ、収納、取り出しが容易であり、かつ、ロール支軸の径が変更されても受け台の交換不要なロール製品用コンテナを提供する。
【解決手段】 円筒形支軸R1にシート状物を巻き付けてなるロール製品Rを収納するためのコンテナであって、このコンテナは前記支軸を保持する一対の保持機構7を備え、この保持機構は、支軸の両端部近辺が載置される受け台8と、支軸端部に近接して配置され支軸端部を挟持してロール製品を固定するための取っ手付き挟持部9を主要部とし、この挟持部は台座9bを有し、この台座の前記受け台側には、支軸の円筒孔内部に差込んでロール製品を懸架させるためのディスク9c、台座と受け台とを連結するための受け台を貫通するロッド12とその貫通側に巻回させたスプリング13が設けられていて、前記台座と受け台とが蝶ネジ14によって随時固定可能とされている。 (もっと読む)


ラインエッジラフネスが小さく、レジストパターンプロファイル形状に優れる、イマージョンリソグラフィー工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるホトレジスト組成物が提供される。このホトレジストは、樹脂成分(A)と、酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)と、下記一般式(1)で表される含窒素有機化合物(D)とを含む。


[式中、X、Y、Zは、それぞれ独立して、末端に芳香族環が結合してもよいアルキル基(当該X、Y、およびZのうちの2つの末端が結合して環状構造を形成していてもよい。)であって、かつX、Y、Zのうちの1つ以上が極性基を含み、さらに化合物(D)の分子量が200以上である。]
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