【目的】 プラズマ処理装置の処理速度に合わせて、他の処理装置における処理速度も速くすることができる基板処理装置を提供する。
【構成】 基板処理装置は、一対のカセット１，１、搬入搬出装置２、一対の洗浄装置（液体供給装置）３，３、ハンドリングロボット４、冷却装置５、一対のロードロック室６，６及び一対のアッシング装置（プラズマ処理装置）７，７が配置されている。冷却装置５は、冷媒が循環するクールプレート５１とこのクールプレート５１に基板Ｗを載置する昇降ピン５２を備えている。特にクールプレート５１は上下２段とされ、各クールプレート５１に形成した貫通穴５３に昇降ピン５２を挿通するとともに、各昇降ピン５２を共通の支持部材５４に取り付け、シリンダユニットを駆動して支持部材５４を昇降せしめることで、２枚の基板Ｗを同時に昇降動せしめるようにしている。また、カップ３１とチャック２からなる洗浄装置３も冷却装置５と同様に多段式となっている。 （もっと読む）

【課題】 イマージョンリソグラフィー工程において用いられる液浸媒体中への物質溶出を低減できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 浸漬露光する工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物であって、酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、２−ヘプタノンおよび乳酸エチルからなる群から選択される少なくとも１種の溶剤（ｃ１）を主成分とする有機溶剤（Ｃ）とを含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高解像性、高感度であって、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成できる高分子化合物および該高分子化合物を含むポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】脱保護エネルギーが３級エステルの保護基に比べて低い特定の構造単位（ａ１）、ラクトン含有環式基を含む（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される単位（ａ２）及び、単位（ａ１）と単位（ａ２）以外の単位であって、脂肪族環式基含有非酸解離性溶解抑制基を含み、かつ極性基を含まない、（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される単位（ａ３）を含む高分子化合物を用いてレジスト組成物とする。 （もっと読む）

【課題】 高解像性を有するとともに、レジストパターンの矩形性、ＬＥＲ、ＤＯＦ、およびＥＬマージンの少なくとも１つを改善できるようにする。
【解決手段】フェノール性水酸基を有する構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環又は多環式基を有する構成単位（ａ２）と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ３）とを有する共重合体。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性であり、倒れマージン、ＰＥＢマージンに優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記（Ａ）成分が、酸解離性溶解抑制基を含むコア部と、該コア部に結合したアーム部を有するスターポリマーであることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 ＤＯＦの広いポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分が、相互に構造が異なるｎ［ｎは４〜６の整数］種の構成単位からなる共重合体であり、該共重合体中の各構成単位の割合がいずれも０モル％超１００／（ｎ−１）モル％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 高解像性を有するとともに、レジストパターンの矩形性、ＬＥＲ、ＤＯＦ、およびＥＬマージンの少なくとも１つを改善できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むポジ型レジスト組成物において、前記樹脂成分（Ａ）が、フェノール性水酸基を有する構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環又は多環式基を有する構成単位（ａ２）と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ３）とを有する共重合体（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】
メッキ高さが高く多段段差形状を有するメッキ形成物の形成を可能にする。
【解決手段】
ネガ型ホトレジスト組成物を、（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）酸発生剤、（ｃ）その他の成分を含有するネガ型ホトレジスト組成物とし、
（Ａ）ネガ型ホトレジスト組成物の層を形成し、加熱後、露光する。
（Ｂ）前記工程（Ａ）を２回以上繰り返してネガ型ホトレジスト層を積み重ねた後、全ての層を同時に現像することで多層レジストパターンを形成する。
（Ｃ）多層レジストパターンにメッキ処理を行うことによりメッキ形成物を形成する。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性であり、倒れマージン、ＰＥＢマージンに優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】
（Ａ）樹脂成分、および（Ｂ）酸発生剤成分を含有し、前記（Ａ）成分が、酸解離性溶解抑制基を含むモノ（α−低級アルキル）アクリルレート系構成単位（ａ１）、ラクトン環を有するモノ（α−低級アルキル）アクリルレート系構成単位（ｂ１）、及び下記一般式（１）で表されるポリ（α−低級アルキル）アクリルレート系構成単位（ｃ１）を有する共重合体であるポジ型レジスト組成物。
【化１】


（式中、Ｒは低級アルキル基または水素原子であり、Ｒ^１１、Ｒ^１２はそれぞれ独立して低級アルキル基であり、ｎは１〜５の整数であり、Ａは２〜６価の有機基である。） （もっと読む）

【課題】 微細解像性に優れ、レジストパターンのＬＥＲおよびＳＷの少なくとも一方を改善できる化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むレジスト組成物であって、沸点が２２０℃以上の高沸点溶剤成分（Ｘ）を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）