【課題】 高解像性を有するとともに、レジストパターンの矩形性、ＬＥＲ、ＤＯＦ、およびＥＬマージンの少なくとも１つを改善できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むポジ型レジスト組成物において、前記樹脂成分（Ａ）が、フェノール性水酸基を有する構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環又は多環式基を有する構成単位（ａ２）と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ３）とを有する共重合体（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 塗布液の飛散を有効に防止し得る回転カップ式塗布装置を提供する。
【解決手段】 インナーカップ３上にはトレイ７を固定し、このトレイ７の各隅部からはドレイン誘導管１０が導出されている。ドレイン誘導管１０は先部１１が前記ドレイン回収通路３ａの底部に向かうように外側に向かって斜め下方に傾斜している。そして、先部１１の下端１１ａはインナーカップ３の底面３ｂよりも低くなっている。このためインナーカップ３とトレイ７を一体的に回転することで、板状被処理物Ｗの表面に供給された塗布液は遠心力で、庇状壁部９に形成した穴、ドレイン誘導管１０内の流路およびドレイン誘導管１０の先部１１を通って排出される際に、インナーカップ３の内周壁に直接衝突することがない。 （もっと読む）

【課題】無機粉末の分散性が高く、均一な膜厚の塗膜を形成することができ、かつ、焼成後のシュリンクを抑制することができるシート形成用組成物、該シート形成用組成物の製造方法、およびディスプレイパネル製造用シート状未焼成体を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）少なくとも、（i）水酸基を有する重合性モノマーと、（ii）ＣＨ₂＝ＣＲ−ＣＯＯＣ_mＨ_2m+1（Ｒは水素原子またはアルキル基、ｍは６以上の整数を表す。）で示される重合性モノマーと、（iii）ＣＨ₂＝ＣＲ−ＣＯＯＣ_nＨ_2n+1（Ｒは水素原子またはアルキル基、ｎは４以下の整数を表す。）で示される重合性モノマーとの共重合体であるバインダー樹脂と、（Ｂ）無機粉末と、（Ｃ）溶剤とを含有してなるシート形成用組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】 ディフェクトを低減することができるポジ型レジスト組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、及び（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、
前記（Ａ）成分が、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、ラクトン環を有するα−低級アルキルアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）、及び極性基含有多環式基を含む（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）を有する共重合体（Ａ１）であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 サーマルフロープロセスにおいて、パターン制御性が良好な技術を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大するベース樹脂成分、及び（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記（Ａ）成分は、１９３ｎｍにおける吸光度が１．０（１／μｍ）以下であり、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５以下である樹脂を含み、かつ
当該ポジ型レジスト組成物が、サーマルフロープロセス用であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】各種印刷液に対する耐性を持ち、優れた印刷適性を有する印刷版製造用感光性組成物、並びに、これを用いた感光性印刷原版積層体および印刷版を提供する。
【解決手段】少なくとも、バインダー樹脂、光重合性モノマー、および、光重合開始剤を含有する印刷版製造用感光性組成物において、バインダー樹脂として、エラストマー樹脂とテルペン樹脂とを併用することによって、各種印刷液、特に、ＵＶ硬化性インキ、油性インキ等のインキ成分や、配向膜液等の印刷液に対して、優れた耐性を有する感光性組成物を得る。 （もっと読む）

【課題】半導体配線形成に用いられる被膜を形成するに好適な被膜形成用組成物と、該組成物を用いて得た被膜を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
【化１】


（ここで、Ｒ₁、Ｒ₂は、それぞれ独立して水素または炭素数１〜２０のアルキル基であり、ｍは０〜２０の整数である。）
で表される繰り返し単位を有するカルボシラン系ポリマー（Ａ）と、溶剤（Ｂ）とを少なくとも用いて被膜形成用組成物を構成する。また、この被膜形成用組成物から形成された塗膜を硬化して被膜を得る。 （もっと読む）

【課題】 優れた解像性を有するとともに、発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（II）で表される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物。
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子又は低級アルキル基である。Ｒ^３は炭素原子数１〜１５のアルキル基又は脂肪族環式基であって、エーテル結合、水酸基、カルボニル基、エステル基、およびアミノ基からなる群から選ばれる１種以上の置換基を有していてもよい。ｎ_２は０又は１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 解像度が高く、かつＬＥＲが小さいレジストパターンを形成できるようにする。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を含有するモノ(α−低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(ａ1)、ラクトン含有単環又は多環式基を有するモノ（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)、水酸基又はカルボキシル基を含有する多環の脂環式炭化水素基を有する(α−低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される前駆単位の、水酸基又はカルボキシル基の水素原子が下記一般式(I)で表される架橋基で置換され、分子内または分子間で架橋されているポリ(α−低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a4)を有する共重合体(A1)を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
【化１】


（Ａは２価又は３価の有機基、ｐは１〜３の整数、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立して、水素原子又は直鎖又は分岐状の低級アルキル基である。） （もっと読む）

【課題】 常に一定の紫外線強度をもって処理基板を処理できる熱安定化装置を提供する。
【解決手段】 処理基板Ｗに照射する紫外線強度については予め決めておき、この値とセンサ１６で検出した紫外線強度とが異なる場合には、昇降部材１５によってランプハウジング１２を昇降動させ、所定の強度の紫外線を処理基板Ｗに照射する。このようにして、処理基板Ｗの表面に形成したレジスト膜に、減圧下で、加熱と紫外線照射を施すことで、熱安定化処理が終了し、この後は通路６を介して処理空間Ｓ内に不活性ガスを充填し、処理基板Ｗを払い出し、この後例えばエッチングにてパターンを形成するとともにパターン間にめっき液を供給する。 （もっと読む）