説明

東京応化工業株式会社により出願された特許

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【課題】塗膜を減圧乾燥したときの塗膜の表面欠陥や表面荒れを効果的に抑制することが可能な着色感光性樹脂組成物、その着色感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターンを有するカラーフィルター、及びそのカラーフィルターを有する液晶表示ディスプレイを提供する。
【解決手段】本発明に係る着色感光性樹脂組成物は、光重合性化合物(A)、光重合開始剤(B)、着色剤(C)、及び溶剤(S)を含有する。溶剤(S)は、大気圧における沸点が170℃未満である1種以上の低沸点溶剤(L)と、大気圧における沸点が170℃以上180℃未満である1種以上の第1の高沸点溶剤(H1)と、大気圧における沸点が180℃以上である1種以上の第2の高沸点溶剤(H2)とからなり、溶剤(S)中の前記第1の高沸点溶剤(H1)の割合は60質量%以上であり、前記溶剤(S)中の前記第2の高沸点溶剤(H2)の割合は0.1〜8質量%である。 (もっと読む)


【課題】ディフェクトの発生が低減され、リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の製造方法、並びに当該高分子化合物を含有するレジスト組成物、及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、−SO−含有環式基を含むモノマーと、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含むモノマーとを共重合して高分子化合物(但し、該高分子化合物は露光により酸を発生するモノマーから誘導される構成単位を含まない)を製造する方法であって、前記共重合を、前記−SO−含有環式基を含むモノマーに対して、0.001〜1.0モル%の塩基性化合物の存在下で行うことを特徴とする高分子化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】小型化及びコスト低減を実現した紫外線照射装置及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に対する紫外線照射を行う処理室と、少なくとも処理室内の基板を加熱する加熱機構と、処理室内を脱酸素及び脱水分状態に保持するように処理室内に気体を供給する気体供給部と、紫外線照射装置内に基板の搬入を行うための基板搬入口と処理室との間に少なくとも設けられ、処理室に連通されることで処理室内を所定雰囲気に維持する予備室と、を備えた紫外線照射装置に関する。 (もっと読む)


【課題】環境影響が低減されたネガ型パターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分と、酸性化合物成分とを含有するレジスト組成物を、支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程(1)と、レジスト膜上に保護膜形成用組成物を塗布して保護膜を形成する工程(2)と、レジスト膜及び保護膜を露光する工程(3)と、工程(3)の後にベークを行い、露光部において、露光により光塩基発生剤成分から発生した塩基と、酸性化合物成分とを中和させ、未露光部において、酸性化合物成分の作用により、基材成分のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程(4)と、レジスト膜をアルカリ現像し、未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程(5)とを含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】保管や輸送においてピンホールやエッジ切れにより破袋を起こすおそれがなく、内容物に対するクリーン度にも優れる、注出口付き包装袋を提供する。
【解決手段】外装容器の内袋として使用される注出口付き包装袋1は、包装袋本体3に合成樹脂製の注出口4が接合されており、注出口係合部41は外装容器の開口部に着脱可能に係合する。注出口4の一部である注出口取付部40が、包装袋本体3の上辺シール面間に熱接合されており、注出口取付部40は、全体として断面形状が凸レンズ状の柱体をなしており、柱体の両側端下方の両隅部が面取りされている。 (もっと読む)


【課題】組み立て時の調整時間を短縮できる基板搬送装置及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】駆動部と、基板に当接することで搬送力を付与する搬送用コロを有する第1シャフトと、駆動部による駆動力を第1シャフトに伝達する第2シャフトと、第1シャフトを着脱可能に支持する支持部材と、第2シャフトに対して第1シャフトを着脱可能に連結する連結部材と、を備えた基板搬送装置に関する。連結部材は、第1シャフト及び第2シャフトにおける径方向に対する位置ズレを許容可能に構成される。 (もっと読む)


【課題】均一なグラフェン層を有するグラフェン基板を提供する。
【解決手段】本発明に係るグラフェン基板の製造方法は、導電性又は半導体基板上においてグラフェン炭素源を電解重合し、グラフェン層を形成する形成工程を包含する。 (もっと読む)


【課題】微細なネガ型パターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と光塩基発生剤成分とを含有するレジスト組成物を支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程(1)と、レジスト膜を露光する工程(2)と、工程(2)の後にベークを行い、露光部において露光により発生した塩基と予め供給された酸とを中和させ、未露光部において予め供給された酸の作用により基材成分の現像液に対する溶解性を増大させる工程(3)と、アルカリ現像しレジスト膜の未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程(4)と、レジストパターン上に被覆形成剤を塗布して被覆膜を形成する工程(5)と、熱処理を行い被覆膜を熱収縮させてパターン間の間隔を狭める工程(6)と、被覆膜を除去する工程(7)とを含む。 (もっと読む)


【課題】EUV用又はEB用として有用なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式(a5−0−1)又は式(a5−0−2)で表される基を含む構成単位(a5)と式(a6−1)で表される構成単位とを有する樹脂成分を含有し、構成単位(a5)を誘導するモノマー量が、該構成単位(a5)を有する重合体に対して100ppm以下のレジスト組成物。式中、Q、Q、Qは単結合又は連結基;R、R、Rは有機基であり、RとRとは環を形成してもよい。式中の基−R−S(R)(R)は全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。Vは対アニオン、Aはアニオンを含む基;Mm+は芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない有機カチオン;mは1〜3の整数;Rは水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基;Pは芳香族炭化水素基である。
[化1]
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【課題】露光余裕度が大きく、かつラフネスが低減されたレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む下記構成単位(a10)と、−SO−含有環式基を含む構成単位と、アクリル酸エステルから誘導され極性基含有脂肪族炭化水素基を含む構成単位と、を有する樹脂成分(A1)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物。(式中、Rは一般式(a10−1)又は下記一般式(a10−2)で表される基であり、Xは酸素原子又はCHである)
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