説明

東京応化工業株式会社により出願された特許

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【課題】塗膜を減圧乾燥したときの塗膜の表面欠陥や表面荒れを効果的に抑制することが可能な着色感光性樹脂組成物、その着色感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターンを有するカラーフィルター、及びそのカラーフィルターを有する液晶表示ディスプレイを提供する。
【解決手段】本発明に係る着色感光性樹脂組成物は、光重合性化合物(A)、光重合開始剤(B)、着色剤(C)、及び溶剤(S)を含有する。溶剤(S)は、沸点が170℃未満である1種以上の低沸点溶剤(L)と、沸点が170℃以上180℃未満である1種以上の第1の高沸点溶剤(H1)と、沸点が180℃以上である1種以上の第2の高沸点溶剤(H2)とからなり、溶剤(S)中の低沸点溶剤(L)の割合は15質量%以上35質量%未満、第1の高沸点溶剤(H1)の割合は60〜85質量%、第2の高沸点溶剤(H2)の割合は0.1〜10質量%である。 (もっと読む)


【課題】感度、解像性、リソグラフィー特性及びエッチング耐性に優れる高分子化合物、レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化し、(a5−0)で表される構成単位を有する高分子化合物を含む基材成分(A)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物。(式(a5−0)中、Rは水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基である。Rは硫黄原子又は酸素原子である。Rは単結合又は2価の連結基である。Yは芳香族炭化水素基、又は多環式基を有する脂肪族炭化水素基である。)
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【課題】製造プロセス中のウエハの反りを防止する。
【解決手段】基板処理装置は、ウエハにおける、サポートプレートが貼り付けられている面とは反対側の被支持面の内周部を支持する支持ピンにより支持された積層体を減圧環境下において搬送する搬送ユニット20とを備え、製造プロセス中のウエハの反りを防止することを可能とした。 (もっと読む)


【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式(b1−11)で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b1−11)中、R”〜R”のうち少なくとも1つは、置換基として式(I)で表される基を有する置換アリール基であり、式(I)中のWは2価の連結基である。Xは、式(b−3)または(b−4)で表されるアニオンである。
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【課題】EUV用またはEB用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するEUV用又はEB用レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0−1)又は(a0−2)で表される基を含む構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含有し、前記基材成分(A)に加えて、光反応型クエンチャー(C)を含有することを特徴とするEUV用又はEB用レジスト組成物。式中の基−R−S(R)(R)は、全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。Mm+は、芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物の基材成分として有用であり、且つ、使用するモノマーの種類に関わらず製造が可能である、露光により分解して酸を発生する高分子化合物の製造方法、並びに当該高分子化合物を含有するレジスト組成物、及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】アニオン基と、スルホニウム又はヨードニウムカチオンとを有するモノマーを重合して前駆体ポリマーを合成し、洗浄した後、当該前駆体ポリマーをスルホニウム又はヨードニウムカチオンと塩交換させる、高分子化合化合物の製造方法であって、塩交換に用いるスルホニウム又はヨードニウムカチオンが、前記モノマー中のスルホニウム又はヨードニウムカチオンよりも疎水性が高いことを特徴とする、露光により分解して酸を発生する構成単位を有する高分子化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ディフェクトの発生を低減できるレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、及び該レジスト組成物の添加剤として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、及び含フッ素化合物成分(F)を含有するレジスト組成物。前記含フッ素化合物成分(F)は、一般式(f1−1)で表される構成単位及び一般式(f1−2)で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも1種の構成単位(f1)と、フッ素原子を含む構成単位(f2)とを有する高分子化合物(F1)を含有する[式中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又はハロゲン化アルキル基;R、Rは2価の連結基;Rfはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜10の炭化水素基又は炭素数3〜20の環含有炭化水素基である]。
[化1]
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【課題】フォトレジストパターンの残渣物及びエッチング残渣物を効果的に剥離除去することができ、金属に対する防食性に優れ、さらには長時間の継続使用も可能なフォトリソグラフィ用剥離液、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フォトリソグラフィ用剥離液は、(A)フッ化水素酸、(B)一般式(b−1)で表される塩基性化合物、及び(C)水を含有する。式中、R1bからR5bは、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基等を示し、R1bからR5bの少なくとも1つは水素原子である。R1bからR4bのうちいずれか1つとR5bとが相互に結合して環構造を形成してもよい。Y1b及びY2bは炭素数1〜3のアルキレン基を示し、nは0〜5の整数を示す。nが2以上のとき、複数のR5b同士及び複数のY1b同士は互いに同一であっても異なっていてもよく、R5b同士が相互に結合して環構造を形成してもよい。
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【課題】所望の厚さの塗布膜を形成でき、且つ粘度上昇が抑制された水溶性塗布膜材料を提供すること。また、水溶性樹脂と溶媒とを含む水溶性塗布膜材料の粘度調整方法と、当該粘度調整方法において用いられる粘度調整剤とを提供すること。
【解決手段】水溶性樹脂と溶媒とを含む水溶性塗布膜材料に、下式(1)で表される化合物、五炭糖、及び六炭糖からなる群より選択される1以上のメチロール基を有する化合物1を配合する。式(1)中、Aは、式(2)、又は式(3)で表される2価の基である。式(2)及び式(3)中、*は結合手の末端を表す。式(2)中、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基、メチロール基、及び水酸基からなる群より選択される基である。
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【課題】高解像のパターンを良好な形状で形成でき、PEB温度のパターン寸法への影響も少ないレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0−1)又は(a0−2)で表される基を含む構成単位(a0)と、酸の作用により極性が増大し且つ多環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a11)と、酸の作用により極性が増大し且つ単環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a12)と、を有する共重合体(A1)を含有するレジスト組成物。式中の基−R−S(R)(R)、Mm+はそれぞれ、全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
[化1]
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