【課題】レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、新規な化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有し、基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基］。
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【課題】不飽和カルボン酸（ａ１）とエポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）とを重合させた共重合体（Ａ１）の分子量の増大を抑制できる樹脂組成物、当該樹脂組成物を含有する感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物から形成されたスペーサ、及び当該スペーサを備える表示装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも不飽和カルボン酸（ａ１）とエポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）とを重合させた共重合体（Ａ１）を含むアルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含む溶剤（Ｓ）とを含有する樹脂組成物に、下記式（１）で評される化合物を配合する。
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【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有する［Ｚ^＋は有機カチオン；Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１〜６のフッ素化アルキル基；Ｘは−（ＣＨ_２）_ｍ１−；Ｙは単結合、−Ｏ−（ＣＨ_２）_Ｌ１−又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_Ｌ１−；Ｌ１、ｍ１は１〜６の整数；ＲｘはＣ＝Ｃ不飽和結合を有し、置換基を有していてもよい炭素数２〜３６の２価の脂肪族炭化水素基；Ｒｙは酸解離性基である。］。
［化１］
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【課題】レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）とフッ素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも１種と塩基の作用により分解して極性が増大する極性変換基とを有する樹脂成分（Ｃ）とを含有するＥＵＶ用又はＥＢ用レジスト組成物であって、（Ａ）は式（ａ０−１）又は（ａ０−２）で表される基を有する構成単位（ａ０）を有する成分（Ａ１）を含有し、（Ｃ）を（Ａ）１００質量部に対して１〜１５質量部含有する［Ｑ^１、Ｑ^２は単結合又は２価の連結基、Ｒ^３〜Ｒ^５は有機基であり、−Ｒ^３−Ｓ^＋（Ｒ^４）（Ｒ^５）は全体で芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない］。
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【課題】ＥＵＶ用又はＥＢ用として有用なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ａ５−０−１）又は（ａ５−０−２）で表される基を含む構成単位（ａ５）を有する重合体（Ａ１）を含有し、該構成単位（ａ５）を誘導するモノマー量が、該重合体（Ａ１）に対して１００ｐｐｍ以下であるレジスト組成物。式中、Ｑ^１及びＱ^２は単結合又は２価の連結基である。Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は有機基であり、Ｒ^４とＲ^５とは相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。ただし、式中の基−Ｒ^３−Ｓ^＋（Ｒ^４）（Ｒ^５）は全体で芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】熱サイクルナノインプリント リソグラフィによるパターン形成に要する時間を短縮する。
【解決手段】硬化性を有するケイ素化合物と酸発生剤を含むナノインプリント用組成物３０を基板２０に塗布して膜を形成し、ＵＶ照射により当該膜中に酸を発生させ、当該膜にローラ５０を押圧し、ローラ５０によって膜が押圧されている間に、ケイ素化合物の熱硬化温度以上に膜を加熱し、ローラ５０を剥離し、硬化パターンを得る。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ露光装置を用いてスペーサを形成する場合でも、小径のスペーサを形成しやすいスペーサ形成用感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物から形成されたスペーサ、当該スペーサを備える表示装置、及び当該感光性樹脂組成物を用いるスペーサの形成方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）、及び下記式（１）で表される化合物を含有する、スペーサ形成用感光性樹脂組成物を用いる。式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示すが、少なくとも一方は有機基を示す。Ｒ^１及びＲ^２は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Ｒ^３は、単結合又は有機基を示す。Ｒ^４〜Ｒ^９は、それぞれ独立に水素原子、有機基等を示すが、Ｒ^６及びＲ^７が水酸基となることはない。Ｒ^１０は、水素原子又は有機基を示す。
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【課題】アンチモン系、リン系よりも弱い酸発生剤で硬化が可能となる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】実施の形態に係る感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、１以上の架橋形成性部位を有するアクリル系モノマーと、末端ビニル系シランカップリング剤と、光重合開始剤と、光酸発生剤とを含有する。たとえば、エポキシ樹脂は、加水分解によりシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を与えるアルコキシ基（Ｓｉ−ＯＲ）を有する。アクリル系モノマーは、末端ビニル基を１〜６個持つ分子である。末端ビニル系シランカップリング剤は、分子の一端に加水分解でシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を与えるアルコキシ基（Ｓｉ−ＯＲ）を有し、他端に有機官能基としてビニル基を有する。また、光重合開始剤は、カルバゾール骨格を有するオキシム系ラジカル重合開始剤である。 （もっと読む）

【課題】柔軟性を有するとともに、基板界面への接着性に優れた接着剤組成物、接着フィルムおよび、当該接着剤組成物を用いた基板の処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る接着剤組成物は、炭化水素樹脂と、官能基含有原子団が少なくとも１個結合している変性エラストマーと、溶剤と、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物に有用な酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）が、一般式（ｂ１−１１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。式（ｂ１−１１）中、Ｒ^１０１〜Ｒ^１０４はそれぞれ独立にアルキル基またはアルコキシ基であり、ｎ１は１〜５の整数であり、ｎ３およびｎ４はそれぞれ独立に０〜３の整数である。Ｘ⁻はアニオンである。
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