説明

東京応化工業株式会社により出願された特許

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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)は、一般式(I)[式中、Rは水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の有機基であり、Qは単結合又は2価の連結基である。]で表される基をカチオン部に有する化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
[化1]
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【課題】現像後のレジストパターンのディフェクトの発生を抑制できるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。また、異物経時特性(保存安定性)に優れるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。そして、さらに好ましくは、処理前後で感度やレジストパターンサイズの変化が起こりにくいホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。
【解決手段】樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むホトレジスト組成物を、孔径が0.04μm以下のナイロン膜からなる第1の膜を備えた第1のフィルタを通過させる工程を有し、且つ前記第1のフィルタを通過させる工程の前後の一方又は両方に、さらに、該ホトレジスト組成物を、ポリオレフィン樹脂またはフッ素樹脂製の第2の膜を備えた第2のフィルタを通過させる工程を有することを特徴とするホトレジスト組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1−1)で表される化合物を含むレジスト組成物。[式中、R51〜R53はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、R51〜R53のうち少なくとも1つは水素原子の一部が下記一般式(b10−1)で表される基で置換された置換アリール基であり、R51〜R53のうち、いずれか2つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。]
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【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、側鎖に、環骨格中に−SO−を含む環式基を2価の連結基で結合した(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a0)およびラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)を有し、かつその構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分および添加剤として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、さらに、側鎖に、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基であるエステル基を有する炭素原子が第3級炭素原子である置換基を有する2価の脂肪族炭化水素基を有する(メタ)アクリレート単位を有する。 (もっと読む)


【課題】解像性を向上させることができるレジスト組成物に関わる技術を提供する。
【解決手段】一般式(K−1)で示されることを特徴とする化合物;テトラシクロドデセンアルコールに、塩基触媒下、R−SO−Cl(Rは炭素数1〜5のアルキル基、または炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基である。)を反応させ、一般式(K−1)で示される化合物を得ることを特徴とする化合物の製造方法;前記化合物を構成単位として含む高分子化合物[式中、R〜Rはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基をし、aは1を示し、tは0又は1〜3の整数を示す。]。
[化1]
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【課題】遮光剤として銀錫合金を主成分とする微粒子を使用しながらも感度が高く、硬化樹脂パターンの剥がれや直進性の低下といった問題が生じない感光性樹脂組成物、及びこの感光性樹脂組成物を用いて形成された遮光膜を有する基材を提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、(A)光重合性化合物、(B)オキシム系光重合開始剤、及び(C)遮光剤を含有し、特に(C)遮光剤が銀錫合金を主成分とする微粒子である。また、本発明に係る基材は、本発明に係る感光性樹脂組成物を用いて形成された遮光膜を有する。 (もっと読む)


【課題】ポジ型レジスト組成物の成分として有用な新規な高分子化合物、そのモノマー、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式(a0−1)で表される構成単位、および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物(A1)を含有する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】近年のパターンの更なる微細化要求に対応しうるパターン微細化用被覆剤及びこれを用いた微細パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】基板上に形成されたレジストパターンを被覆し、微細パターンを形成するために用いられるパターン微細化用被覆剤であって、水溶性ペプチドと、水溶性樹脂と、を含有するパターン微細化用被覆剤。本発明のパターン微細化用被覆剤は水溶性ペプチドを含有するので、パターン微細化用被覆剤による処理の後にディフェクトが発生することなく、従来のパターン微細化用被覆剤に比べて大きな狭小化量により、パターンの狭小化を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、酸発生剤成分(B)は、一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むレジスト組成物[式中、R”〜R”は、それぞれ独立に、アリール基またはアルキル基を表し;R”〜R”のうち、いずれか2つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよく;R”〜R”のうち少なくとも1つは、水素原子の一部または全部が下記一般式(b1−01)で表される基で置換された置換アリール基であり;Xはアニオンであり;R20は塩基解離性部位を有する二価の基であり;R30は2価の連結基であり;R40は酸解離性基を有する基である。]。
[化1]
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