説明

東京応化工業株式会社により出願された特許

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【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光によりpKaが0以上である酸を発生する酸発生剤成分(C)(但し、前記基材成分(A)を除く)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)(但し、前記基材成分(A)及び前記酸発生剤成分(C)を除く)と、を含み、前記基材成分(A)が、主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有する重合体(A1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】レジスト組成物に有用な酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分(B)が、一般式(b1−11)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b1−11)中、R101〜R104はそれぞれ独立にアルキル基またはアルコキシ基であり、n1は1〜5の整数であり、n3およびn4はそれぞれ独立に0〜3の整数である。Xはアニオンである。
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【課題】遮光剤を含有しながらも、低露光量で直進性・密着性に優れたパターンを形成可能な感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、該感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルタ、及び該カラーフィルタが使用された表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、光重合性化合物、光重合開始剤、下記式(1)で表される化合物、及び遮光剤を含有する。式中、R及びRは、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示すが、少なくとも一方は有機基を示す。R及びRは、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Rは、単結合又は有機基を示す。R〜Rは、それぞれ独立に水素原子、有機基等を示すが、R及びRが水酸基となることはない。R10は、水素原子又は有機基を示す。
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【課題】アウトディフュージョンの発生と、含有するホウ素化合物の凝集とを抑制可能な拡散剤組成物、不純物拡散層の形成方法、および太陽電池を提供する。
【解決手段】半導体基板への不純物拡散剤層の形成に用いられる拡散剤組成物は、ホウ酸エステル(A)と、下記一般式(1)で表される多価アルコール(B)と、アルコキシシラン化合物(C)と、を含有する。


[一般式(1)中、kは0〜3の整数。mは1以上の整数。RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、炭素原子数1〜5のアルキル基、または炭素原子数1〜5のヒドロキシアルキル基。RおよびRが複数の場合は複数のRおよびRはそれぞれ同じでも異なってもよい。またkが2以上である場合、複数のRおよびRは必ず一つ以上の水酸基または炭素原子数1〜5のヒドロキシアルキル基を含む。RおよびRは、それぞれ独立に水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基。] (もっと読む)


【課題】溶出が抑制された高解像性のネガ型パターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分とを含有するレジスト組成物を、支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程(1)と、液浸媒体を介して浸漬露光する工程(2)と、工程(2)の後にベークを行い、露光部において露光により光塩基発生剤成分から発生した塩基と、レジスト膜に予め供給された酸とを中和させ、未露光部において、レジスト膜に予め供給された酸の作用により、基材成分のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程(3)と、アルカリ現像し、未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程(4)とを含むレジストパターン形成方法であって、レジスト膜の水に対する後退角が65°以上であることを特徴とするレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性、塗布性及び引き置き安定性に優れたレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】構成単位(a0−1)と、酸分解性基を含む構成単位(a1)とを有し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するる樹脂成分(A1)を含有する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、及び含窒素有機溶剤成分(S)を含有するレジスト組成物。
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【課題】ネガ型パターンを高解像性で、かつ、良好な形状で形成できるレジストパターン形成方法及びレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、一般式(C1)で表される化合物とを含有するレジスト組成物を、支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程(1)と、前記レジスト膜を露光する工程(2)と、前記工程(2)の後にベークを行う工程(3)と、前記レジスト膜をアルカリ現像し、前記レジスト膜の未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程(4)とを含むレジストパターン形成方法、及び前記工程(1)で用いる前記レジスト組成物。式中、R、Rの少なくともいずれか一方はアルキル基又はフェニル基である。
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【課題】粘度及びパターニング特性の経時安定性に優れた着色感光性樹脂組成物、該着色感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルタ、及びカラーフィルタを備える表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る着色感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、無機顔料、及び溶剤を含有し、上記溶剤がアミド構造を有する溶剤を含む。アミド構造を有する溶剤は下記式で表されるものが好ましい。式中、R,R,Rはそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を示し、nは1〜3の整数を示す。
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【課題】高解像性で、且つ溶出が抑制されたのネガ型パターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】基材成分、光塩基発生剤成分及び酸供給成分を含有するレジスト組成物を支持体上にスピンコート法により塗布してレジスト膜を形成する工程(1)、レジスト膜にプレベークを行わず、レジスト膜を露光する工程(2)、工程(2)の後にベークを行い、レジスト膜の露光部において、露光により光塩基発生剤成分から発生した塩基と、酸供給成分に由来する酸とを中和させ、レジスト膜の未露光部において、酸供給成分に由来する酸の作用により、基材成分のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程(3)及びレジスト膜をアルカリ現像し、ネガ型レジストパターンを形成する工程(4)とを含み、工程(1)の塗布工程において、レジスト液を基板に供給後の回転時間が50秒以上であることを特徴とするレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】アルカリ現像プロセスで高解像かつ高感度にネガ型レジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、光塩基発生剤成分とを含有するレジスト組成物を、支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程(1)と、前記レジスト膜を露光する工程(2)と、前記工程(2)の後にベークを行い、前記レジスト膜の露光部において前記光塩基発生剤成分から発生した塩基と、前記レジスト膜に予め供給された酸とを中和させ、前記レジスト膜の未露光部において前記酸の作用により前記基材成分のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程(3)と、前記レジスト膜をアルカリ現像してネガ型レジストパターンを形成する工程(4)とを含み、前記工程(3)における前記ベークを100℃以下で行うことを特徴とするレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


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