説明

東京応化工業株式会社により出願された特許

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【課題】基板上に塗布された接着剤を溶剤に溶解させて除去するときに、接着剤の濾過とは異なる手法により、基板上に溶解残渣物が残存することを抑制する技術を提供すること。
【解決手段】本発明の基板の処理方法は、基板1上に塗布された接着剤2を溶剤5に溶解させて除去する洗浄工程の前10分以内に、接着剤2を接着剤2のガラス転移温度以上に加熱する加熱工程を包含する。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れ、ディフェクトを低減可能なレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつフッ素原子を含む構成単位(f1)を有する重合体;該重合体は主鎖の少なくとも一方の末端に式(I−1)で表される基を有することが好ましい;該重合体を含有するレジスト組成物;該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法
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【課題】基板を清浄な状態に保持しつつ基板にパターンを形成すること。
【解決手段】第一面に薄膜が形成された基板を保持して移動可能な基板保持部と、前記基板を透過可能な波長を有するレーザー光を射出する光射出部と、前記基板のうち前記第一面の裏面である第二面に対して前記レーザー光が射出されるように、かつ、前記レーザー光が前記基板を透過して前記薄膜に到達し当該レーザー光によって前記薄膜のうち前記基板との界面側の一部が変形してパターンが形成されるように、前記基板保持部及び前記光射出部を制御する制御部とを備える。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)は、式(a0−1)で表される構成単位(a0−1)、及び露光により酸を発生する構成単位(a0−2)を有する樹脂成分(A1)を含有することを特徴とするレジスト組成物[式中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基であり、Rは2価の連結基である。]。
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【課題】気体充填工程を行なう場合に、所定量の液体を確実に包装袋に充填できる液体容器への液体充填方法を提供する。
【解決手段】この液体容器1は、内部が中空で上方に開口部24を有する外装容器20と、この開口部24を介して外装容器20内に収容可能な、注出入口11付の包装袋10とを備える。包装袋10の袋部12は初期状態において幅Wmm、高さHmmの略平面形状であり、Wと平行な線であり、Hの下方からの距離Hの位置を基線Wとし、H<Hとなる前記高さHの下方からの距離Hの位置を基線Wとし、初期状態から、基線Wで上辺側に折り返した後に再度基線Wで下方に折り返した状態で、袋部12を外装容器20の内側へ装着し、その後に気体を導入する。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な重合体、該重合体の製造に用いるラジカル重合開始剤として有用な化合物、該化合物の製造方法、該化合物からなるラジカル重合開始剤、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物。式(I)中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基であり、Zは炭素数1〜10の炭化水素基又はシアノ基であり、RとZとは相互に結合して環を形成していてもよい。Xは単結合、又は−O−C(=O)−、−NH−C(=O)−若しくは−NH−C(=NH)−を含んでいてもよい2価の連結基である。Rは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基である(但し、当該炭化水素基を構成する炭素原子の一部が、炭素原子以外の原子又は原子団で置換されていてもよい)。
[化1]
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【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れ、ディフェクトの低減が可能なポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A)は、式(a0−1)で表される構成単位(a0−1)と、式(a0−2)で表される構成単位(a0−2)とを有する樹脂成分(A1)を含有する。
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【課題】ディフェクトの発生を低減することができ、且つ保存安定性に優れたレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、末端にフッ素化アルキルエステル基を有するフッ素含有有機基を側鎖に有する化合物成分(F)とを含有することを特徴とするレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】高温焼成で形成される膜厚の厚いシリカ系樹脂膜におけるクラック耐性の向上を図ることができる技術を提供する。
【解決手段】500℃以上の高温焼成で形成される厚さ2.0μm以上のシリカ系樹脂膜用の組成物の製造方法であって、下記一般式(1)で表される第1アルコキシシランの加水分解反応、および、当該加水分解反応で生成される第1アルコキシシランの加水分解生成物の脱水縮合反応を進行させる第1工程と、第1アルコキシシランの加水分解生成物が残存する第1工程の反応系に下記一般式(2)で表される第2アルコキシシランを混合し、第2アルコキシシランの加水分解反応、および、当該加水分解反応で生成された第2アルコキシシランの加水分解生成物と第1工程の脱水縮合反応生成物と残存する第1アルコキシシランの加水分解生成物との脱水縮合反応を進行させる第2工程と、を含む。(RSi(OR(1)Si(OR(2) (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性に優れ、形状が良好でディフェクトの少ないレジストパターンを形成できるレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有する重合体と、γ−ブチロラクトンと、を含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


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