説明

東芝電子エンジニアリング株式会社により出願された特許

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【課題】基板上に成膜したW膜の膜厚面内均一性を向上させることが可能であり、さらにはパーティクルの発生を減少させることが可能なWスパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Wスパッタリングターゲットは、スパッタリングされる面のX線回折により求められた結晶面(110)及び(200)の結晶方位比率(110)/(200)が0.1〜6.5であることを特徴とする。また、本発明の高純度Wスパッタリングターゲットの製造方法は、高純度W粉末を加圧焼結後、得られた焼結体をターゲット形状に加工後、ロータリー研磨およびポリッシングの少なくとも1種の研磨を施し、さらにエッチングおよび逆スパッタリングの少なくとも1種の研磨を施すことにより仕上げ加工することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板上に成膜したW膜の膜厚面内均一性を向上させることが可能であり、さらにはパーティクルの発生を減少させることが可能なWスパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Wスパッタリングターゲットは、スパッタリングされる面のX線回折により得られた結晶面(110)のピークの半値幅が0.35以下であることを特徴とする。また、本発明の高純度Wスパッタリングターゲットの製造方法は、高純度W粉末を加圧焼結後、得られた焼結体をターゲット形状に加工後、ロータリー研磨およびポリッシングの少なくとも1種の研磨を施し、さらにエッチングおよび逆スパッタリングの少なくとも1種の研磨を施すことにより仕上げ加工することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板上に成膜したW膜の膜厚面内均一性を向上させることが可能であり、さらにはパーティクルの発生を減少させることが可能なWスパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Wスパッタリングターゲットは、スパッタリングされる面のX線回折により得られた結晶面(110)のピークの半値幅が0.35以下であることを特徴とする。また、本発明の高純度Wスパッタリングターゲットの製造方法は、高純度W粉末を加圧焼結後、得られた焼結体をターゲット形状に加工後、ロータリー研磨およびポリッシングの少なくとも1種の研磨を施し、さらにエッチングおよび逆スパッタリングの少なくとも1種の研磨を施すことにより仕上げ加工することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】真空成膜装置で内部応力が大きい薄膜を成膜する際に、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止し、装置クリーニングや部品の交換などに伴う生産性の低下や成膜コストの増加を抑える。
【解決手段】Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、W、Ru、Pd、Ir、Pt、Ag、AuおよびInから選ばれる金属元素の単体、もしくは前記金属元素を含む合金または化合物の薄膜を成膜する真空成膜装置の構成部品の製造方法であって、部品本体の表面にCuの含有比率が65〜95質量%の範囲のCu−Al合金からなるCu−Al合金膜を形成する工程と、前記Cu−Al合金膜に1.33×10−3Pa以下の真空雰囲気中で300〜800℃の温度でアニール処理を行う工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】液体燃料を収容する燃料タンクの姿勢に応じて、燃料タンク内に残存する液体燃料の残存量を出力する燃料電池を提供する。
【解決手段】 発電部と、前記発電部に供給される液体燃料を収容する燃料タンクと、前記燃料タンクに収容された液体燃料の液面を検出し、検出した液面に対応した液面検出値を出力する液面検出手段と、前記燃料タンクが所定の検出姿勢であるか否かを検出し、検出した姿勢に対応した姿勢検出信号を出力する姿勢検出手段と、を具備したことを特徴とする燃料電池。 (もっと読む)


【課題】真空成膜装置で内部応力が大きい薄膜を成膜する際に、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止し、装置クリーニングや部品の交換などに伴う生産性の低下や成膜コストの増加を抑える。
【解決手段】Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、W、Ru、Pd、Ir、Pt、Ag、AuおよびInから選ばれる金属元素の単体、もしくは前記金属元素を含む合金または化合物の薄膜を成膜する真空成膜装置の構成部品1を製造する方法であって、部品本体2の表面に膜厚が300μm以上のCu溶射膜3を形成する工程と、表面に前記Cu溶射膜3が形成された部品を、真空雰囲気中で加熱するアニーリング工程と、前記アニーリング工程後、水素雰囲気中にて前記加熱温度より低い温度で前記部品を還元する還元処理工程とを具備する。 (もっと読む)


【課題】Cuのセルフイオンスパッタ法を適用する場合において、プラズマ状態を安定させて長時間にわたって自己維持放電を持続させることを可能にしたCuスパッタリングターゲットが求められている。
【解決手段】高純度Cuからなるスパッタリングターゲットを用い、Cuのセルフイオンスパッタ法によりCu膜を製造するCu膜の製造方法であって、前記高純度CuはAgおよびAuから選ばれる少なくとも1種の元素を含有し、かつ前記AgおよびAuの合計含有量が0.005〜500ppmの範囲であり、前記AgおよびAuから選ばれる少なくとも1種の元素の含有量のバラツキがターゲット全体として±30%以内である。 (もっと読む)


【課題】流路の閉塞を抑制し、且つ、シール性に優れたジョイント部材及び燃料電池を提供する。
【解決手段】燃料を収容するとともに燃料を排出するための燃料排出口を有する燃料タンクと、アノード、カソード、及び、アノードとカソードとの間に挟持された電解質膜を含んだ膜電極接合体と、燃料タンクから供給された燃料を注入するための燃料注入口と、を有する燃料電池本体と、燃料排出口と燃料注入口とにそれぞれ挿入されたジョイント部材と、を備え、ジョイント部材は、管状の剛体によって形成された連通管と、連通管よりも弾性を有する管状の弾性体によって形成され連通管の外周面をカバーするとともに連通管の外周面における一端部から外側に向かって突出し且つ燃料排出口の内面に密着したリング状の第1リップ部と、連通管の外周面における他端部から外側に向かって突出し且つ燃料注入口の内面に密着したリング状の第2リップ部と、を有するカバー部材と、を備えたことを特徴とする燃料電池。 (もっと読む)


【課題】安定して高い出力を得ることが可能な燃料電池を提供することを目的とする。
【解決手段】 電解質膜をアノードとカソードとで挟持した膜電極接合体と、前記膜電極接合体のアノード側に配置されアノードに向けて燃料を供給する燃料供給機構と、複数の開口部が形成されるとともに前記膜電極接合体のカソード側に配置され前記燃料供給機構との間に前記膜電極接合体を保持するカバープレートと、を有する燃料電池本体と、複数の貫通孔が形成され、前記燃料電池本体のカソード側の少なくとも一部を覆うとともに前記カバープレートから離間した放熱体と、を備えたことを特徴とする燃料電池。 (もっと読む)


【課題】出力性能に優れた燃料電池を提供する。
【解決手段】アノード触媒層8、及び、前記アノード触媒層8の一方の面に面して設けられたアノードガス拡散層9を含むアノード5と、カソード触媒層11、及び、前記カソード触媒層11の一方の面に面して設けられたカソードガス拡散層12を含むカソード6と、前記アノード触媒層8及び前記カソード触媒層11の間に配置された電解質膜7とを含む膜電極接合体1を備え、前記アノード5及び前記カソード6は、下記(1)〜(3)式を満たす。0.19≦(Wc/Wa)≦1.2(1)0.1≦(Tc/Cd)≦0.5(2)0.1≦(Ta/Ad)≦0.6(3)但し、Wcは前記カソード触媒層11の貴金属目付け量、Waは前記アノード触媒層8の貴金属目付け量で、Cdは前記カソード6の厚さで、Tcは前記カソード触媒層11の厚さで、Adは前記アノード5の厚さで、Taは前記アノード触媒層8の厚さを示す。 (もっと読む)


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