説明

東洋炭素株式会社により出願された特許

71 - 80 / 198


【課題】使用寿命が延長すると共に信頼性が向上し、試験装置等に適用することのできる接触通電装置を提供する。
【解決手段】載置台11aに被試験デバイス13が載置され、炭素材で構成されたコンタクト部12gが、載置台11aに対向配置され、載置台11a上の被試験デバイス13の、電極端子13eが配置された表面を圧接し、電極端子13eと通電して被試験デバイス13の電気特性が試験される。コンタクト部12gは、繰り返し試験されてもスパーク、溶融等による損傷が抑制されるため、使用寿命が延長し、被試験デバイス13の商品価値の劣化を防止できる。 (もっと読む)


【課題】炭素基材に炭化金属層が形成されていない部分が生じるのを抑制することにより、被膜にむらが生じたり、被膜の密着性が低下するのを抑えることができる炭素材を提供する。
【解決手段】結着剤であるポリビニルアルコールと金属粉末とを含むスラリーを、炭素基材に塗布することにより炭素基材に金属粉末を付着させる第1ステップと、上記金属粉末が付着された炭素基材を、塩化水素ガスの雰囲気となっている容器内で熱処理する第2ステップと、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ハロゲンガスを用いて処理した場合に、処理後の不純物の放出が抑制された炭素材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】炭素材料を、1Pa以上10000Pa以下の減圧下におけるHガス雰囲気中において、500℃以上1200℃以下で、アニール処理を行う。アニール処理時間は1分以上20時間以下である。これにより、塩素等のハロゲンの放出される濃度を5ppb以下にすることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】メラミンを直接の原料として製造することができ、電気二重層キャパシタ用電極材料として優れた特性を示す窒素含有多孔質炭素材料の提供。
【解決手段】メラミンとクエン酸マグネシウムを混合し、不活性雰囲気下で700℃以上に加熱したのち、冷却し酸洗浄して得られる窒素含有炭素多孔質材料であり、窒素含有量が0.5〜30質量%、比表面積が200〜3000m/gである。 (もっと読む)


【課題】極めて短時間で緻密な炭素材料が得られるというSPS法の利点を十分に発揮しつつ、硬さと物性値の向上を図ることができる炭素材料及びその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】型内に炭素骨材及びバインダーを混合した混合粉を充填する第1ステップと、上記混合粉を加圧しつつ、放電プラズマ焼結法にて焼結する第2ステップと、により作製される炭素材料であって、ショア硬さのHSD値が60以上で、熱膨張率の異方比、電気抵抗率の異方比、又は熱伝導率の異方比が1.5以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高強度な支持構造とすることにより、引張り、曲げ、せん断等の応力が加わった場合であっても各制御棒要素間の連結状態を損なうことが無く、且つ、耐熱性を向上させることにより、高温ガス炉の安全性を飛躍的に向上させることができる高温ガス炉用制御棒を提供することを目的としている。
【解決手段】二重円筒状を成す外筒9と内筒8との間に中性子吸収体7が配置された制御棒要素1を複数備え、この制御棒要素1が鉛直方向に連結される構造の高温ガス炉用制御棒であって、上記内筒8内には、少なくとも上記中性子吸収体7を支持する柱状の支持体2が配置され、この支持体2の上下両端部には、他の制御棒要素1と連結する連結手段が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電解槽の温度調整を十分に行うことができる熱容量を確保できるとともに、電位差に起因する電気腐食を確実に防止することが可能な電解装置を提供する。
【解決手段】電解装置は、電解浴12を収容する電解槽11、加熱器21および送風機21bを備える。加熱器21aおよび送風機21bが電解浴12を収容する電解槽11から電気的に絶縁された状態で電解槽11に設けられる。電解槽11は、加熱器21aにより加熱され、送風機21bにより冷却される。 (もっと読む)


【課題】任意の箇所に折離用凹部を形成することにより、破壊荷重を掛けた際に該凹部において応力集中を起こし、従来よりも小さな負荷で折ることを可能にする。また、該凹部に沿って割れを伝播させることにより、意図せぬシード保持部材の箇所に割れが伝播することの防止を図り、シード保持部材と多結晶シリコンの分離作業の手間の軽減を図ることができるシード保持部材及びそのシード保持部材を用いた多結晶シリコン製造方法を提供する。
【解決手段】シーメンス法で多結晶シリコンを製造する炉の底部に設置され、種棒となるシード4の下端部を保持する黒鉛製シード保持部材6の外周面に、折離用溝16が形成されている。シード保持部材6は、電極部5が差し込まれる第1の嵌合孔10を有する円柱状台座部6a、台座部6aよりも小径な円柱状胴部6b、胴部6bに連なりシード4の下端部が差し込まれる第2の嵌合孔13を有する截頭円錐台状先端部6cを有する。 (もっと読む)


【課題】不具合が発生した部位の特定が容易になることにより異常発生時のメンテナンスの効率が向上されるとともに気体を用いた処理の効率の低下が防止された気体供給システムを提供する。
【解決手段】フッ素ガス発生システム100は、複数のフッ素ガス供給系100aおよび制御装置90を備える。各フッ素ガス供給系100aは、フッ素ガス発生装置50を含む。各フッ素ガス供給系100aは、CVD装置群100bに接続される。フッ素ガス発生装置50はフッ素ガス発生部1およびバッファタンク2を含む。配管4には、開閉バルブ3bが介挿される。配管4の他端部は、複数の配管7に分岐する。各配管7がCVD装置8に接続される。隣り合うフッ素ガス供給系100aの配管4は、配管4aにより互いに接続される。各配管4aには、開閉バルブ3cが介挿される。 (もっと読む)


【課題】黒鉛などの炭素基材の表面に炭化ケイ素被膜が緻密にかつ均一に被覆された炭化ケイ素被覆炭素基材を製造する。
【解決手段】未結合手を有しないSP炭素構造からなるベース部と、未結合手を有するSP炭素構造からなるエッジ部とを表面に有する炭素基材を準備する工程と、温度1400〜1600℃、圧力1〜150Paの雰囲気中で、炭素基材の表面と、SiOガスとを反応させて炭化ケイ素を形成することにより、炭化ケイ素で被覆された炭素基材を製造する工程とを備えることを特徴としている。 (もっと読む)


71 - 80 / 198