説明

キヤノンアネルバ株式会社により出願された特許

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【課題】 基板ごとに処理条件の指定を可能にする。
【解決手段】 基板に対する処理を実行するプロセスモジュールを制御するプロセスモジュール制御装置を備え、プロセスモジュール制御装置は、処理すべき基板がプロセスモジュールに搬送される搬送タイミングを取得する搬送タイミング取得手段と、プロセスモジュールにおける基板の処理条件に関する処理条件基本情報を取得する基本情報取得手段と、プロセスモジュールにおける基板の処理条件の一部であって、基板ごとに設定される処理条件に関する処理条件差分情報を取得する差分情報取得手段と、搬送タイミング取得手段により取得される基板の搬送タイミングに応じ、基本情報取得手段及び差分情報取得手段により取得される処理条件に基づいて、プロセスモジュールに対し搬送される基板の処理条件を設定する制御手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】高温で成膜される低融点金属の凝集を防止し、十分なバリア性及びぬれ性を有するバリア層を形成して、凹部に低融点金属を付け回り良く充填する。
【解決手段】電子部品の製造方法が、4Pa以上20Pa以下の圧力下で、被処理体306と接する電極301に第1のバイアス電力を印加し、プラズマ処理により被処理体306の上にTiNxからなる第1のバリア層404を成膜する手順と、4Pa以上20Pa以下の圧力下で、電極301に第1のバイアス電力よりも小さいイオン入射エネルギーを与える第2のバイアス電力を印加し、またはバイアス電力を印加しないで、プラズマ処理により第1のバリア層の上にTiNxからなる第2のバリア層405を成膜する手順と、第2のバリア層405の上に、Tiからなる第3のバリア層409を成膜する手順と、第3のバリア層409の上に低融点金属406を充填する手順と、を有する。 (もっと読む)


【課題】冷却性能に優れたスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】ターゲット電極と、基板Wを載置することが可能な載置部と当該載置部に載置される基板との間に空間を形成する凹部を有する基板保持台107と、前記凹部内に冷却ガスを供給する供給源と、前記基板保持台との間に押し付け力を発生させて、前記基板を前記基板保持台に固定する保持部材と、前記基板保持台に接続される冷凍機108と、前記基板保持台を冷凍機と共に回転させる回転駆動手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】IBEにおいてイオンビームの斜め入射を行って基板上に凹凸構造を形成する際に、入射方向ごとに入射量が異なることによる影響を低減し、基板面内において、作製された素子間の特性のバラつきを低減させる。
【解決手段】基板がイオン引き出し用グリッド電極の斜向かいにある場合に、イオンビームエッチングによって形成される被処理面に平行であり且つ基板面に平行である第1の方向側に前記グリッド電極が位置する状態を第1の状態とし、該第1の方向と垂直であり且つ基板面に平行である第2の方向側に前記グリッド電極が位置する状態を第2の状態としたとき、前記第1の状態における基板の回転速度を前記第2の状態における基板の回転速度よりも速くする。 (もっと読む)


【課題】本発明は,別途のプラズマ着火手段を設けることなく、プラズマ着火が可能であり、高周波アンテナとプラズマが容量結合することを抑制し,かつ誘電体壁が導電性のエッチング生成物に覆われた場合に生じる放電空間へのRF電力の伝達効率の悪化を抑えるための防着シールドを備えたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生室の誘電体壁内側に2重以上の防着シールドを配置し,この防着シールドは、真空容器の誘電体壁のすぐ真空側に設けられ,誘電体壁を覆うように形成された誘電体製の防着シールドと前記防着シールドの内側に設けられる,遮蔽電極として作用し,かつエッチング生成物の形成膜のつながりをきることでRF電力伝達の低下を防ぐためのスリット状の形状を持つ金属性の防着シールドとを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 (もっと読む)


【課題】電圧印加手段から電圧が印加される給電部材の弾性の劣化やヘタリを評価することができる。
【解決手段】基板処理装置は、搬入口と搬出口を有するチャンバ85と、チャンバ内にガスを供給するガス供給手段12と、ガスをプラズマにするためのプラズマ発生手段と、基板を保持する基板ホルダ20と、搬入口から搬入され、搬出口へと基板ホルダを保持しながら搬送するキャリア2と、基板ホルダ20に電圧を印加するための電圧印加手段16と、給電部材13を可動して、該給電部材を基板ホルダ20に接触又は非接触させることにより、電圧印加手段16からの電圧を供給するための駆動手段18と、給電部材13に流れる電流を測定する電流測定手段17と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】複数のターゲットの同時放電による反応性スパッタリングにおいて、堆積された膜の組成をコントロールすることを目的とする。
【解決手段】各ターゲットへの反応性ガスの供給量を異ならせることで、一方のターゲットからは反応性ガスとの反応生成物がスパッタされ、他のターゲットからはターゲット材質がスパッタリングされる。これにより、堆積される膜の組成をコントロールすることが可能となる。また、一方のターゲットをポイズンモードとし、他のターゲットをメタルモードとしてスパッタリングを行うことで、反応生成物と金属からなる化合物が成膜される。 (もっと読む)


【課題】螺旋状磁石を冷却して減磁を防ぐことができる搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置Tの磁気ネジ駆動機構9は、表面に螺旋状に着磁された螺旋状磁石11aを有し、ハウジングに軸支された螺旋状磁石軸11を、モータに連結された駆動軸13によって回転させるものであり、螺旋状磁石軸11はケース23内に格納されてチャンバ内の雰囲気とは隔離された状態で配置されている。ケース23内に冷媒を導入することで螺旋状磁石11aを効果的に冷却することができる。 (もっと読む)


【課題】ステータ表面と永久磁石表面の間隔を縮小してリニアモータ効率を向上することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】永久磁石42と駆動磁石41の間に配置され、永久磁石42が配置されている空間を真空雰囲気に、駆動磁石41が配置されている空間を大気圧雰囲気に隔てる真空隔壁45は、永久磁石42と対向する部分が大気圧雰囲気側に凸に湾曲した断面形状を有し、永久磁石42及び駆動磁石41はいずれも、真空隔壁45と所定の距離を保つように真空隔壁45と対向する部分が湾曲している。このため、真空隔壁45の最大たわみ量を小さくすることができ、永久磁石42と駆動磁石41の距離を縮めることができる。 (もっと読む)


【課題】使用する長尺基板の種類によらず、膜物性を簡便に測定するために有利なロール・ツー・ロール方式を用いた成膜装置を提供する。
【解決手段】長尺基板に膜を形成する成膜装置は、成膜ユニットと、前記長尺基板を搬送する搬送ユニットと、検査基板を前記長尺基板の上に供給する供給部と、前記成膜ユニットにより膜が形成された前記検査基板を前記長尺基板の上から回収する回収部と、を有する。 (もっと読む)


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