【課題】所望の実効仕事関数（例えば、高い実効仕事関数）を実現し、かつ、ＥＯＴが変化しない、またはＥＯＴの変化を低減した金属窒化膜、金属窒化膜を用いた半導体装置、および半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る金属窒化膜は、ＴｉとＡｌとＮを含有し、該金属窒化膜のＴｉとＡｌとＮのモル比率（Ｎ／（Ｔｉ＋Ａｌ＋Ｎ））が０．５３以上であり、かつ、上記金属窒化物層のＴｉとＡｌとＮのモル比率（Ｔｉ／（Ｔｉ＋Ａｌ＋Ｎ））が０．３２以下であり、かつ上記金属窒化物層のＴｉとＡｌとＮのモル比率（Ａｌ／（Ｔｉ＋Ａｌ＋Ｎ））が０．１５以下である。 （もっと読む）

【課題】キャリアの数が少数であってもプロセスチャンバの稼働率の向上を図ることができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置１は、２つのプロセスチャンバＰＣ１，ＰＣ２と３つのロードロックチャンバＬＬ１，ＬＬ２，ＬＬ３が交互に直列に連結されており、隣り合うプロセスチャンバＰＣ１（ＰＣ２）とロードロックチャンバＬＬ１（ＬＬ２，ＬＬ３）との間でだけ複数のキャリアを搬送する搬送装置を備えている。搬送装置によってキャリアがプロセスチャンバＰＣ１（ＰＣ２）内に位置するとき被成膜材は成膜処理され、ロードロックチャンバＬＬ１（ＬＬ２，ＬＬ３）内に位置するとき被成膜材が交換される。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダの基板以外の領域の表面に成膜材料が付着するのを防止することができ、基板上に成膜される膜の品質及び生産性を向上させることができるスパッタリング装置を提供する
【解決手段】真空排気可能な真空容器１と、真空容器１の内部に配設され、基板８をその処理面を下方へ臨ませて保持する保持機構３０、３１を備えた基板ホルダ４０と、基板ホルダ４０の直下に基板８に対向させて配置され、放電用電力が供給されるカソード電極１０と、カソード電極１０の基板側に支持されたターゲット１６と、を備え、基板ホルダ４０は、基板以外の領域の表面温度を基板８上に成膜する成膜材料の分解または蒸発温度以上に加熱する加熱機構６０、６１を有する。 （もっと読む）

【課題】ロータのステータに対する位置決め精度を向上するとともに、モータ効率や組み立て性を向上する。
【解決手段】真空アクチュエータは、内側を真空排気できる真空隔壁と、真空隔壁に回転自在に支持されたロータと、ロータの外周面に設けられた永久磁石と、永久磁石に対向して設けられたコイルと、コイルを設けるステータと、を有する。ステータと真空隔壁は、一体として形成されている。 （もっと読む）

【課題】多くの電子ビームを引き出すことが可能であると共に、長期間に渡って安定して稼動する小型のニュートラライザ及びこれを備えたイオンビーム装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを引出し可能な開口を一方の端部に有する放電管と、放電管内にガスを導入するガス導入管と、放電管内に配設されたカソード電極と、放電管の前記開口側に配設されたキーパ電極と、カソード電極よりも正電位となるようにキーパ電極に電圧を印加する引出し電源と、を備え、引出し電源に、カソード電極とキーパ電極の電圧極性を反転させる反転機構を設けたことを特徴とするニュートラライザ。 （もっと読む）

【課題】容易にターゲット表面側の磁場形状や磁場強度を変更でき、装置の製造コストを低減できるマグネトロンスパッタ装置を提供する。
【解決手段】ターゲット３が取り付けられるカソードの裏面側に磁石ユニット１０を配置したマグネトロンスパッタリング装置であって、磁石ユニット１０は、内側磁石１１と、外側磁石１２と、それらを固定する非磁性体と、内側磁石と外側磁石の磁極を接続するヨーク１４とで形成され、さらに、そのヨークは、矩形状に配列した外側磁石の長辺方向と直交する面で複数個に分割可能であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明における課題は、開閉動作時の遮蔽範囲の偏りを低減できるＩＢＥのシャッター装置を提供することにある。
【解決手段】本発明における解決手段として、ＩＢＥ１と基板Ｗとの間を遮蔽するシャッター板１１を備えるシャッター装置９は、ＩＢＳ５を囲んで回転可能に配置された回転リンク部材の回転に同期して、ＩＢＥ５を挟んで対称位置に配置された２枚のシャッター板１１が開閉動作することができるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ローラー搬送方式で基板をトレイ等に搭載することなく直接搬送させる場合、搬送用ローラーと基板の接触面積が大きく、搬送用ローラーの基板接触面への異物の付着を防ぐことは困難であるが、この付着した異物との接触による基板へのダメージを抑制することを可能にした基板搬送装置を提供するものである。
【解決手段】基板の搬送方向に配列し、駆動系と連結して複数のローラーシャフトを回転させて基板を搬送する基板搬送装置において、複数のローラーシャフトに、それぞれ幅の細い複数個の半径の異なるリングローラーを交互に連結させて一体のローラーを形成し、かつ、ローラーがローラーシャフトに複数個配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の処理室を有しかつラダープログラムで工程が制御される真空処理装置で、工程管理、各種機器の進捗確認について可視性を向上させ、工程管理と進捗確認を容易に行える真空処理装置とその制御方法等を提供する。
【解決手段】この真空処理装置１１１は、制御用コンピュータ１１０と処理室１１４を備え、処理室の動作が制御コンピュータに用意されたラダープログラム５１に従って制御され、処理室はＰＬＣ５４を備え、制御データは制御用コンピュータから通信手段を経由してＰＬＣに与えられ、ラダープログラムは予め制御用コンピュータ上でテーブル化され、テーブル化された制御データはＰＬＣの記憶領域に書き込まれ、ＰＬＣは、記憶領域に書き込まれた制御データを分解し、処理室が必要とする入力および状態に係るデータを取り込み、取り込んだデータに基づいて処理動作に関係する進行条件の判定を実行し、処理室での処理動作を実行する。 （もっと読む）

【課題】装置内の残留作業者を不可視状態、無応答状態でも検知することを可能にし、ロックアウトタグアウトに代表する安全防護の手順を作業者が怠った際にも安全確保ができる真空処理装置を提供することを課題とする。
【解決手段】内部で被処理物を処理する真空容器と、該真空容器に配設されて該真空容器の重量を計測する重量検知センサと、該重量検知センサからの重量情報を受信し、該重量情報に基づき装置普及のための安全確認動作を行う制御装置と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）