説明

株式会社フェローテックにより出願された特許

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【課題】接着対象を適切な位置関係で接着できなくなったり、接着対象周辺の美観を損ねてしまったりすることを防止する。
【解決手段】超常磁性粒子それぞれが分散されているため、接着に際して外部から磁場を印加することで、接着剤そのものを磁場の印加領域に保持させたり、磁場の印加領域を変位させることで接着剤そのものを移動させることができる。これにより、接着剤としての粘度を下げても、接着時に外部から磁場を印加しておくことで、重力により接着剤自体が流れる『液だれ』を防止できるため、接着対象を適切な位置関係で接着できなくなったり、接着対象周辺の美観を損ねてしまうことを防止できる。また、接着剤そのものを磁場が印加されている領域と共に移動させることができるため、微細な隙間において接着剤を浸透させるべき方向に磁場を印加することにより、その浸透をより適切かつ迅速に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】プラズマの輸送効率及びドロップレットの除去効率が高く、比較的安価に製造することができるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】本発明はカソードターゲット3からプラズマを発生させるプラズマ発生部2と、前記プラズマが進行する第1プラズマ進行路7と第2プラズマ進行路9を有するプラズマ進行路4から構成され、ドロップレット30を付着する遮蔽板12が内壁に複数設けられるプラズマ生成装置1において、前記第1プラズマ進行路7の終端にその直進方向に対向する終端反射壁31が設けられ、前記終端反射壁31に沿って前記第2プラズマ進行路9が前記第1プラズマ進行路7に対し屈曲して接続され、前記終端反射壁31に前記遮蔽板を複数配設して前記ドロップレットを反射及び/又は吸着させるプラズマ生成装置1である。 (もっと読む)


【課題】回転プラズマによるプラズマ処理を安定且つ制御可能にして、プラズマ処理の品質を向上させることのできるプラズマ流生成方法、プラズマ処理方法、プラズマ発生装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】4象限Z1〜Z4における各周波数は7、15、6、20Hzに設定されている。この周波数可変により、4分割された回転角領域におけるプラズマの回転速度を異ならせることができる。プラズマP2とP4の周回速度がプラズマP1とP3よりも速くなっているため、円軌道Cを描きながらプラズマP1からP2、P3、P4に周期的に変速回転する回転プラズマを照射して、第1象限Z1〜第4象限Z4において均一な成膜処理を施す。 (もっと読む)


【課題】ストライカによる接触作用を長期に亘って安定的に行わせて、ターゲット材料を最大限に利用可能にし、且つ生成プラズマの高品質化を実現することのできるストライカ式プラズマ発生装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供することである。
【解決手段】プラズマ処理の開始により、ストライカアームの回動動作に移り(ステップS2、S3)、陰極2にストライカチップ35が当接した後もサーボモータ40が駆動し続けて回動動作が継続していく。ストライカアームに加わる負荷量が所定値を超える反転条件が成立すると、モータ40に逆転駆動を指示し、ストライカチップ35を陰極2から離反させる(ステップS4、S5)。 (もっと読む)


【課題】使用時に超常磁性の特性を失って磁気ヒステリシスを生じてしまうことのない磁性部材を提供する。
【解決手段】超常磁性粒子それぞれが変位不能に保持されているため、使用時に外部から信号を印加した場合、超常磁性粒子の磁気応答は、ニール機構による磁化および消磁に依存する。このとき、ニール機構により磁化および消磁するのに要する緩和時間τは、超常磁性粒子の粒径に応じて遅くなるが、超常磁性粒子それぞれは、少なくとも超常磁性粒子におけるニール緩和時間τnが、外部から印加される信号の周期τSよりも短くなる(τn<τS)ように粒径が定められている。そのため、外部から印加される信号の周期Tが上記緩和時間τよりも短くなることはなく、この周期Tに磁気応答が追いつかなくなることがないため、結果的に磁気ヒステリシスを生じることがない。 (もっと読む)


【課題】被成膜物の表面近傍での磁場の拡散を抑制し被成膜物の表面近傍に所定の磁場を確保し、表面近傍に到達するプラズマ粒子量を増加させることによって成膜速度を向上させる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜チャンバの側面に一組以上のプラズマ進行管が接続されており、該プラズマ進行管の進行方向に対し被成膜物が垂直に配置されており、プラズマ源より発生したプラズマ粒子が被成膜物の表面に照射されることによって被成膜物の表面に薄膜が形成される。前記プラズマ進行管は、接続されている成膜チャンバより内部に配置されている被成膜物に向かって延出する内部プラズマ導出管に連接され、当該内部プラズマ導出管の外周に内部プラズマ制御用コイルが配置されている。 (もっと読む)


【課題】拡散プラズマにより陽極内壁に付着、堆積した堆積物が剥落して陰極と陽極間を短絡することを防止することができる陽極壁多分割型プラズマ発生装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供することである。
【解決手段】陰極2と陽極3の間で発生したプラズマPが陰極2より前方に向けて放出され、拡散する際、拡散物質41が電極筒体内壁に再結晶化して付着、堆積して、カーボンフレーク40として剥落する。電極筒体内壁を縦横の溝37、38によってマトリクス状に多分割されている。多数の突部35の堆積物分離作用により、拡散プラズマが陽極3に付着、堆積しても、堆積物が微細化され、大型乃至長尺状の堆積物が生じない。小片の突部39から微細片としてのカーボンフレーク40が剥落して、堆積物が剥落して陰極2と陽極3に跨って架橋することがなく、両極間の短絡現象の発生を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】プラズマ処理装置におけるドロップレット捕獲用の環状リブ上に形成されたプラズマ流由来の堆積物が、プラズマ発生部へ落下して短絡を起こすことを防止する。
【解決手段】ドロップレット捕集用の環状リブ40を複数のリブ片に分割することにより、プラズマ流の物質の凝集により前記環状リブ上に形成する堆積物90の、形成当初からの細分化が達成される。この堆積物の細分化により、この堆積物が破片91としてプラズマ発生部10に落下する際に、この破片が陰極11と前記プラズマ発生部の壁面13の間に設けられる溝部14に入り込み、前記陰極と前記壁面の電気短絡が防止される。 (もっと読む)


【課題】プラズマに混入する帯電ドロップレット及び中性ドロップレットをより効率的に除去でき、高純度プラズマによる成膜等の表面処理精度の向上を図る。
【解決手段】プラズマ発生部Aとプラズマ輸送管Bとプラズマ処理部Cを含むプラズマ処理装置において、プラズマ輸送管の始端側と終端側に絶縁体IS及び絶縁体IFを介し、プラズマ輸送管Bをプラズマ発生部Aとプラズマ処理部Cから電気的に独立させた絶縁体介装型プラズマ処理装置を構成する。プラズマ輸送管Bを中間絶縁体II1を介して複数の小輸送管B01、B23に分割し、各小輸送管を電気的に独立させる。プラズマ輸送管又は複数の小輸送管を電気的浮動状態にし、又は輸送管用バイアス電源EB01、EB23を接続して、プラズマ輸送管又は小輸送管の電位をGND、可変正電位又は可変負電位に設定可能にする。又、小輸送管を屈曲状に連接して幾何学的構造でドロップレットを除去する。 (もっと読む)


【課題】ペルティエ素子を用いて熱交換を行う際に、温度制御モジュールから発生する全熱量を下げることなく、半導体モジュールからの熱出力を抑制することによってペルティエ素子両端の温度を減少させ、接合部寿命の大幅な伸長を図る。
【解決手段】温度制御モジュールが少なくとも吸熱面1と放熱面2とによってペルティエ素子を用いた熱電変換素子7を挟持した構造を有し、前記放熱面に供給熱を印加する回路9を配線することによって、放熱面に熱電変換素子からのペルティエ効果及びジュール熱によって発生した熱に加えて前記回路からの供給熱を印加することが可能な構造を有することを特徴とする温度制御モジュールである。 (もっと読む)


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