説明

大陽日酸株式会社により出願された特許

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【目的】 効率良くかつ均等に被乾燥物を加熱することにより、乾燥効率を高めた真空乾燥装置。
【構成】 内部を気密可能とする槽10と、槽内を排気する排気手段43と、槽内を加熱する加熱手段21と、被乾燥物50を収容すると共に槽内に回転可能に設置される回転体24を具備した遠心脱水機構25とを有した真空乾燥装置において、回転体24に攪拌翼26が配設されていることを特徴とする。
【効果】 遠心脱水時に、被乾燥物の近傍から槽内に気流を生じさせて槽内を攪拌することで、被乾燥物に隈無く熱風が当たり、被乾燥物が均等に加熱され、脱水効率が高くなる。 (もっと読む)


【目的】 高純度なDPMのRu錯体(Ru(DPM)3)を用いて高特性のRuO2膜を安定して成膜できるCVD法プロセスの提供を目的としている。
【構成】 ジピバロイルメタネートルテニウムを原料とし、化学気相析出法により酸化ルテニウムを基材上に成膜することを特徴とする酸化ルテニウムの成膜方法である。
【効果】 本発明によれば、酸化物膜の成膜法として好適なCVD法によって、電極などとして優れた特性を有する酸化ルテニウム膜を安定して成膜することが可能である。 (もっと読む)


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