説明

尾池工業株式会社により出願された特許

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【課題】
例えば半透過半反射型液晶ディスプレイに用いた時に光線反射率及び光線透過率が共に適度なものとし、また透過色相も特に青色や黄色に偏重することなく、その結果自然な色相を提供することが出来る積層フィルムを提供する。
【解決手段】
透明なプラスチックフィルムによる基材フィルムの少なくとも片面に、金属層と、低屈折率層と、高屈折率層と、を積層してなる積層フィルムであって、前記低屈折率層の光線屈折率が1.20以上1.60未満であり、かつその膜厚が10nm以上100nm以下であり、前記高屈折率層の光線屈折率が1.60以上2.20以下であり、かつその膜厚が20nm以上100nm以下であり、前記積層フィルムの可視光線透過率が3%以上50%以下であり、かつ可視光線反射率が50%以上97%以下である積層フィルムとした。 (もっと読む)


【課題】
長期間にわたり安定した性能を発揮することを可能とした積層体及び該積層体を用いた合わせガラス並びに板ガラスを提供する。
【解決手段】
基材フィルムである透明樹脂フィルムの片面若しくは両面に、金属酸化物により形成される金属酸化物層と、銀合金により形成される銀合金層と、をこの順に交互に積層してなり、かつ、最表面に前記金属酸化物層が位置するように積層してなる積層体とした。尚、各層の積層は透明樹脂フィルムの片面にされてなるものであっても、両面に同様に積層されてあっても構わない。 (もっと読む)


【課題】
長期間にわたり安定した性能を発揮することを可能とした転写箔及び該転写箔を用いた板ガラスを提供する。
【解決手段】
基材フィルムである透明樹脂フィルムの表面に、離型性を有した樹脂により形成される離型層と、前記離型層のさらに表面に、金属酸化物により形成される金属酸化物層と、銀合金により形成される銀合金層と、をこの順に交互に積層してなり、かつ、最表面に前記金属酸化物層が位置するように積層してなり、そして前記最表面に位置する金属酸化物層のさらに表面に接着層を積層してなる転写箔とした。 (もっと読む)


【課題】
ガスバリア性と静電気シールド性とを共に好適なレベルで維持できるのみならず、層間剥離の発生を抑制することを可能とした積層フィルムを提供する。
【解決手段】
樹脂フィルムの表面に、金属酸化物層と、樹脂層と、金属層と、をこの順に、又は逆順に、積層してなること、を特徴とする積層フィルムであって、前記金属酸化物層が、SiOx(1.0≦x≦2.0)で示される酸化珪素である、という構成を有する積層フィルムとした。 (もっと読む)


【課題】酸化インジウム錫(ITO)薄膜が本来備える高い導電性と透明度を損なうことなく室温強磁性を発現する低抵抗透明強磁性体材料の製造方法を得ること。
【解決手段】
本発明に係る低抵抗透明強磁性体材料の製造方法は、マンガンを添加した酸化インジウム錫を出発材料として基板上に薄膜を堆積する方法であって、前記堆積方法は、マグネトロンスパッタリング法であることを特徴とする。
従来、蒸着法で堆積できることは知られていたが、蒸着法によると、導電性や透明性が著しく低下していた。しかしながら、本発明のように、スパッタリング法によって堆積すると、導電性や透明性を低下させることなく室温強磁性を付与することができる。 (もっと読む)


【課題】
ヘアラインやマット調等の略断面視で凹凸形状を有する表面が、その製造中に外部要因により損傷することなく、凹凸形状を美麗な状態を保ったまま製品とすることの出来る、表面にヘアライン形状等の凹凸形状を設けた積層体の製造方法、積層体、及びその製造装置を提供する。
【解決手段】
基材となるプラスチックフィルムの少なくとも片面に、光硬化性樹脂を主成分とする塗料を塗布して光硬化性層を積層する積層工程と、前記積層工程後に、前記光硬化性層を乾燥する乾燥工程と、前記乾燥工程後に、予めその表面に略凹凸加工が施されてなるスタンパーフィルムの凹凸加工面側を前記光硬化性層表面に貼着して積層体を得る貼着工程と、前記貼着工程後に、前記積層体全体に光を照射してなる照射工程と、よりなる積層体の製造方法とした。 (もっと読む)


【課題】
半透過半反射型液晶ディスプレイに用いた時に光線反射率及び光線透過率が共に適度なものとすることが出来る、半透過半反射拡散フィルムとして利用できる積層フィルムを提供する。
【解決手段】
基材フィルムの少なくとも片面に、低屈折率層と、高屈折率層と、を積層してなる積層フィルムであって、前記低屈折率層がシラン系樹脂よりなり、かつ屈折率が1.30以上1.46以下であり、かつ膜厚が50nm以上150nm以下であり、前記高屈折率層が金属酸化物よりなり、かつ屈折率が1.55以上2.40以下であり、かつ膜厚が20nm以上100nm以下であり、前記積層フィルムの可視光線反射率が25%以上50%以下であり、かつ可視光線透過率が50%以上75%以下であり、かつ透過a*値が−5.0以上5.0以下であり、かつ透過b*値が−5.0以上5.0以下である、という構成を有する積層フィルムとした。 (もっと読む)


【課題】
単純な構成であるにも係わらず、深絞りの箇所に対しても充分に追従可能とすることにより、クラック等の外観欠損を発生しないことを可能とした、金属メッキの代替、及び特定機能を付与することを可能とした金属蒸着積層体を提供する。
【解決手段】
特定機能を備えた樹脂層と、高分子樹脂よりなる基材と、金属又は合金よりなる金属蒸着層と、よりなり、かつ基材の表面に前記金属蒸着層が積層されてなる積層体であって、前記金属蒸着層はスズ、インジウム、アルミニウム、亜鉛、金、銀、銅、チタン、ニッケル、又はこれらの何れかを元にした合金、の何れか若しくは複数によりなり、前記金属蒸着層の厚みが5nm以上80nm以下であり、前記樹脂はアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂又はポリエステル系樹脂の何れか若しくは複数であり、前記樹脂層の厚みが0.5μm以上50μm以下である、という構成を有する金属蒸着積層体とした。 (もっと読む)


【課題】核酸マイクロアレイの作製において、安価で効果的に核酸プローブを固定化しうる核酸固定用成形体を提供することであり、また効果的な核酸プローブの固定化方法を提供することを課題とする。
【解決手段】プラスチック基材の表面に、少なくとも親水性高分子樹脂による親水性コート層を積層してなる核酸固定用成形体であって、前記基材の中心線表面平均粗さRaが0.10μm以上であり、前記親水性コート層の厚さが、前記基材の中心線平均表面粗さRaの5%以上90%以下であることを特徴とする核酸固定用成形体による。また、核酸固定用成形体に核酸プローブ含有水溶液を滴下し、乾燥させることによる。 (もっと読む)


【課題】
回路形成後のポリイミド層と導体層との間において充分な密着力が得られ、かつ熱負荷後の密着力低下しなくすることを可能とした、フレキシブル回路基板等に用いることのできる積層体を提供する。
【解決手段】
例えばポリイミドフィルムなどのような高分子樹脂よりなる基材フィルムの表面に珪素もしくは珪素化合物による珪素層を積層し、さらに少なくとも、前記珪素層の表面に金属層と、前記金属層の表面に銅導電層と、を順次積層してなる構成を有する積層体とした。 (もっと読む)


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