説明

株式会社フジミインコーポレーテッドにより出願された特許

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【課題】二酸化ケイ素からなる研磨対象物を研磨する用途での使用により適した研磨用組成物及びそうした研磨用組成物を用いた研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明の研磨用組成物は、平均粒子径が20〜100nmのシリカ砥粒と、アンモニア、アンモニウム塩、アルカリ金属塩及びアルカリ金属水酸化物から選ばれるアルカリと、HLB値が8以上であるシリコーンオイルとを含有する。 (もっと読む)


【課題】単位面積の溶射皮膜に与えられるプラズマ出力が0.8W/cm以上である高出力プラズマに対する耐プラズマエッチング性に優れた溶射皮膜を提供する。
【解決手段】本発明の溶射皮膜は、イットリアを少なくとも主成分として含有する。単位面積の溶射皮膜に与えられるプラズマ出力が0.8W/cm以上のCFプラズマに溶射皮膜を曝したときに、CFプラズマによる溶射皮膜のエッチングレートは式:Re≦7.7×Pp2.2を満足する。ただし、式中、ReはCFプラズマによる溶射皮膜のエッチングレート〔nm/分〕を表し、Ppは単位面積の溶射皮膜に与えられるプラズマ出力〔W/cm〕を表す。 (もっと読む)


【課題】単位面積の溶射皮膜に与えられるプラズマ出力が0.8W/cm以上である高出力プラズマに対する耐プラズマエッチング性に優れた溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、原料粉末を造粒して大気中で焼結して得られるイットリア造粒−焼結粒子を含有してなる。イットリア造粒−焼結粒子を構成する一次粒子の平均粒子径は、0.5〜1.5μmで且つ原料粉末の平均粒子径の1.11倍以上である。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用基板を研磨する用途での使用により適した研磨用組成物を提供する。
【解決手段】研磨用組成物は、コロイダルシリカのような砥粒と、クエン酸やオルトリン酸のような酸と、過酸化水素のような酸化剤と、ベンゾトリアゾールのようなアゾール類及びその誘導体から選ばれる化合物とを含有してなる。研磨用組成物は、磁気ディスク用基板を研磨する用途で好適に使用される。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイスの配線を形成するための研磨でより好適に使用可能な研磨用組成物を提供する。
【解決手段】本発明の研磨用組成物は、トリルトリアゾールなどの疎水性官能基を持つ六員環骨格を有するトリアゾール、プルランなどの水溶性高分子、過酸化水素などの酸化剤、及びコロイダルシリカなどの砥粒を含有する。研磨用組成物中のトリルトリアゾールの含有量は3g/L以下であり、研磨用組成物のpHは7以上である。 (もっと読む)


【課題】 半導体デバイスの配線をより良好に形成可能な研磨方法を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨方法は、第1予備研磨工程、第2予備研磨工程及び仕上げ研磨工程を備える。第2予備研磨工程では、一般式ROR’COOH又はROR’OPO(Rはアルキル基又はアルキルフェニル基を表し、R’はポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基又はポリ(オキシエチレン・オキシプロピレン)基を表す。)で表される化合物を保護膜形成剤として含有する第2研磨用組成物が使用される。仕上げ研磨工程では、疎水性官能基を持つ六員環骨格を有するトリアゾールを3g/L以下含有する第3研磨用組成物が使用される。 (もっと読む)


【課題】 合成樹脂製の研磨対象物を研磨する用途においてより好適に使用することができる研磨用組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨用組成物は、下記一般式で表される化合物を含有して粘度が3〜9mPa・sである。
【化1】


(Xは活性水素原子を有する化合物とアルキレンオキサイドとから誘導されるポリエーテルポリオール(ただし、ポリエーテル鎖中にオキシエチレン基を20〜90質量%含む)の残基を表し、mは1分子の前記ポリエーテルポリオールに含まれる水酸基の数に等しい2〜8の整数を表し、Y及びZはそれぞれエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドが付加重合した低級アルコール残基、アルキル基又はアルキレン基を表し、nは3以上の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】 合成樹脂製の研磨対象物を研磨する用途においてより好適に使用することができる研磨用組成物及びそうした研磨用組成物を用いた研磨方法を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨用組成物は、アルミナなどの砥粒と下記一般式で表される化合物とを含有する。
【化1】


(Xは活性水素原子を有する化合物とアルキレンオキサイドとから誘導されるポリエーテルポリオール(ただし、ポリエーテル鎖中にオキシエチレン基を20〜90質量%含む)の残基を表し、mは1分子の前記ポリエーテルポリオールに含まれる水酸基の数に等しい2〜8の整数を表し、Y及びZはそれぞれエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドが付加重合した低級アルコール残基、アルキル基又はアルキレン基を表し、nは3以上の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】 合成樹脂製の研磨対象物を研磨する用途においてより好適に使用することができる研磨用組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨用組成物は、下記一般式で表される化合物を含有してpHが3〜8である。
【化1】


(Xは活性水素原子を有する化合物とアルキレンオキサイドとから誘導されるポリエーテルポリオール(ただし、ポリエーテル鎖中にオキシエチレン基を20〜90質量%含む)の残基を表し、mは1分子の前記ポリエーテルポリオールに含まれる水酸基の数に等しい2〜8の整数を表し、Y及びZはそれぞれエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドが付加重合した低級アルコール残基、アルキル基又はアルキレン基を表し、nは3以上の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】 (0001)Si面を好適に研磨することができる研磨用組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の研磨用組成物は、炭化ケイ素単結晶からなる研磨対象物を研磨する用途で主に使用されるものであり、コロイダルシリカなどの砥粒と、オルト過ヨウ素酸やメタ過ヨウ素酸ナトリウムなどのヨウ素化合物とを含有し、水酸化リチウムやアンモニアなどのアルカリを必要に応じてさらに含有する。この研磨用組成物のpHは6以上である。 (もっと読む)


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