説明

扶桑化学工業株式会社により出願された特許

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【課題】 極めて低い反射率、優れた機械的強度を有し、特にアクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂基材に対して優れた密着性を有する硬化膜、該硬化膜を得るための膜形成用組成物と製造方法を提供することにある。また、極めて低い硬化エネルギーによる硬化膜の製造方法を提供することにある。
【解決手段】 無機粒子、ポリシラン化合物、重合性モノマー及び硬化促進剤を必須成分とする膜形成用組成物、該膜形成用組成物の硬化物からなる硬化膜及びその製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】 基板と金属微粒子(特に金属ナノ粒子)との密着性を向上できる組成物を提供する。
【解決手段】 ポリシラン化合物と、還元により前記金属微粒子を生成可能な金属化合物(例えば、貴金属化合物)と、無機微粒子(シリカなど)とで前記組成物を構成する。前記ポリシラン化合物は、ポリシランと、金属化合物及び/又は金属微粒子に対する親和性を有するユニットを含むビニル単量体との共重合体であってもよい。このような組成物を基板に塗布し、活性エネルギー線を作用させてポリシラン化合物を分解させることにより、金属微粒子を生成できる。このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち現像して金属微粒子を含むパターンを形成し、無電解めっき処理することにより無電解めっきパターンを形成することもできる。 (もっと読む)


【課題】従来のナノメートルオーダーシリカ粒子は凝集を伴って、ポリマー中に分散しているが、これとは異なった新しい分散状態により、透明性が高く、高耐熱性、高硬度の層状シリカ分散高分子材料を実現する。
【解決手段】ポリメタアクリル酸メチル、スチレン等のポリマーを溶解した溶媒に、ナノサイズのコロイダルシリカを混合分散し、その後シリカ含有ポリマーを分離し、これをヒートプレスして、層状シリカ分散高分子材料を得る。 (もっと読む)


【課題】 シリコンウェハー、ディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ或いはレンズなどの基体上に、透明であって、しかも、低反射率で且つ低誘電率であるとともに、械的強度や基板に対する密着性に優れた薄膜を形成するための膜形成用組成物及び膜の形成方法に関する。
【解決手段】 粒子表面に存在するシラノール基が、疎水性基を有する表面改質剤で処理されたシリカ粒子と、ポリシラン化合物とを含有することを特徴とする膜形成用組成物とする。また、この膜形成用組成物を、基体上に塗布した後に、熱処理及び/又は光処理することを特徴とする膜形成方法とする。 (もっと読む)



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