【課題】超純水配管の施工から初期通水前までに配管内に存する空気による汚染を防止した超純水製造システムの運転方法を提供する。
【解決手段】初期通水するにあたり、施工済みの配管の一端を開放し、他端から外気圧より高い圧力で窒素ガス等の清浄な不活性ガスを連続して通気して配管内を不活性ガスで置換してから通水する。これにより、初期通水前の配管内に存する空気による汚染を防止でき、溶存酸素濃度や残留微粒子数を所定の値に低減させるまでに要する初期通水時間および初期通水量を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】多大な設備コストを必要とすることなく、気泡の混入を回避して、超純水貯槽内の滞留を防止することができる超純水貯槽を提供する。
【解決手段】超純水貯槽１の配管ノズル２０の直前に、配管ノズル２０から流入する超純水に、貯槽本体１０の周方向で、かつ斜め上方向の流れを生じさせる整流板４０を設ける。超純水層５０内に、周方向の水流と上下方向の水流を共に発生させることができるので、滞留を防止できる。 （もっと読む）

【課題】スピンコーターカップ、半導体ウェハ、液晶ガラス基板等の被洗浄物に付着したレジスト等の有機被膜を短時間で除去するとともに、洗浄液を換えずに多数回にわたり繰り返し使用することが可能な生産性、経済性に優れた洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄室内に被洗浄物を保持する保持かごを回転可能に配設し、さらに洗浄室内に被洗浄物に向けて噴射ノズルを設置して、炭酸アルキレンによる洗浄、純水によるすすぎの後に、被洗浄物に向けて温風を噴射して液切りする。被洗浄物を洗浄した後の炭酸アルキレンは、洗浄液再生装置でオゾンにより有機被膜成分を分解して、循環再使用する。 （もっと読む）

【課題】研摩スラリーを使用するときに、金属部分と接触して研摩スラリーが金属汚染される可能性がある。これが研摩中に半導体ウエーハに入り込み、基板の特性を損なう。そこで研磨スラリーについて簡単な操作で、従来より低い濃度まで金属を定量できる方法を提供する。
【解決手段】 半導体研磨スラリー中の溶解金属の定量方法は、半導体研磨スラリーのｐＨを１以下とした後、ｐＨを２〜９とするｐＨ調整工程、ｐＨ調整した半導体研磨スラリーをキレート担体と接触させるキレート担体接触工程、半導体研磨スラリーと接触させた後のキレート担体に、酸水溶液を接触させる酸抽出工程、酸抽出工程で得た酸抽出液中の金属を定量する金属定量工程、を含んでなる。また、全金属の定量の場合には、先ず半導体研磨スラリーにフッ酸を加えて５０〜３００℃にて処理するフッ酸処理工程を経てから、上記の各工程を行う。 （もっと読む）

【課題】 純水供給装置の新設あるいは修理の後に、配管内に残る微粒子を簡単な操作で効率よく排出できる純水供給配管の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 純水供給配管に過酸化水素水溶液を通水しつつ、過酸化水素水溶液中に過酸化水素分解酵素を添加することにある。過酸化水素分解酵素は、カタラーゼであることが好ましい。過酸化水素水溶液に過酸化水素分解酵素水溶液が注入されることにより過酸化水素が分解されて水中で非常に細かな気泡を発生し、この気泡により微粒子を運び出す作用を強めるのみならず、微粒子を管壁から剥離させる。 （もっと読む）

【課題】 高純度液体試料の採取、移送時において、気圧変動や温度変動があっても試料中に外部からガス状不純物が混入することがない高純度液体の採取方法を提供する。
【解決手段】 高純度液体を試料容器に充填する充填段階、高純度液体試料を充填した試料容器をプラスチックコーティングまたはラミネートされたアルミニウム箔製の袋体に入れて密封する第１包装段階、さらにプラスチックフィルム製の袋に入れる第２包装段階、を含む操作を、同一清浄空気雰囲気下において連続的に行う。充填段階は、（Ａ）外部から手が入る手袋、（Ｂ）高純度液体の流入管、開閉弁および採取口、（Ｃ）清浄ガスの流入口、（Ｄ）清浄ガスと高純度液体の排出口を備え、かつ排出管の端部が上部が開放された容器中の水に浸漬されて、排出ガスが水の中に放出されて外部に出るようにされた採取箱内中で行われるのがよい。 （もっと読む）

【課題】半導体、プリント基板、液晶などの電子部品の各処理工程においてフォトレジスト材料を含有する廃液の溶剤として、低引火性で再生回収が容易な有機溶剤を提供する。
【解決手段】溶解物質を含有する炭酸エチレンを無機塩水溶液に接触させて溶解物質を該水溶液で抽出する抽出工程を備える炭酸エチレンの再生方法。溶解物質を含有する炭酸エチレンを無機塩水溶液に接触させて溶解物質を該水溶液で抽出する抽出手段を備える炭酸エチレンの再生装置。 （もっと読む）

ｐＨを変化させることなく、効率よく研磨スラリーを精製し、被処理対象への金属汚染を可及的に防止するとともに、研磨スラリーのリサイクル使用を支障なく遂行し得る半導体研磨スラリー精製用素材、半導体研磨スラリー精製用モジュールおよびそれを用いた研磨用スラリーの精製方法を提供すること。この繊維基材の少なくとも表面には、金属キレート形成能を有する官能基、又は官能基と水酸基が固定化されていることを特徴としている。この半導体研磨スラリー精製用素材は、たとえば、研磨スラリーの流入口および流出口を備えた容器内に研磨スラリーの流れが通過可能に内装して用いられる。
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【課題】超純水製造又は半導体製造に使用する洗浄剤であって、クエン酸を有効成分とした洗浄剤に、イソチアゾリン化合物を含有するイソチアゾリン組成物を添加して洗浄剤の白化を防止する方法を提供する。
【解決手段】周辺環境の微生物の影響による洗浄剤の白化を防止するとともに、長期保存や小分けによる使用を可能とし、クエン酸の洗浄効果を保つことができる。 （もっと読む）

【課題】被加工物の品質に影響を及ぼすことなく、使用したスラリーを新品同様に再生させることができる化学的機械研磨方法並びに装置、及び、化学的機械研磨加工におけるスラリー再生方法並びに装置を提供する。
【解決手段】スラリーを研磨パッド上に供給しながら被加工物を研磨パッドに接触させて加工を行う化学的機械研磨加工中に、水を混入させずにスラリーを研磨パッド上より回収し、回収されたスラリーを回収槽に貯蔵し、貯蔵されたスラリーを濾過するスラリー再生方法。 （もっと読む）