【課題】有機物がほぼ除去され、全有機炭素量（ＴＯＣ）が十分に低い純水を製造することができる水処理方法及び水処理装置を提供する。
【解決手段】被処理水に第１の過酸化水素を添加する第１の過酸化水素添加手段４と、オゾンガスを発生させるオゾンガス発生手段５と、第１の過酸化水素が添加された被処理水に、オゾンガス発生手段から生じたオゾンガスを接触、溶解させるオゾン溶解手段６と、第１の過酸化水素とオゾンガスを溶解した被処理水を導入し、被処理水中の有機物を酸化分解させる反応容器７と、反応容器中において、被処理水に第２の過酸化水素を添加する第２の過酸化水素添加手段８と、を有する水処理装置１。 （もっと読む）

【課題】スクラッチの発生を抑制可能な研磨方法を提供する。
【解決手段】研磨方法は、回転テーブル上に貼付された研磨パッドに、半導体基板に形成されたメタル膜を接触させる工程と、前記研磨パッド上に研磨用スラリーを供給しつつ前記回転テーブルを回転させて、前記研磨パッドに接触するメタル膜を研磨する工程と、前記メタル膜を研磨する工程で使用されたメタル成分を含む使用済みの研磨用スラリーを回収する工程と、前記回収された使用済みの研磨用スラリーのゼータ電位を測定する工程と、前記ゼータ電位を測定する工程で得られた測定値が所定の範囲となるように、前記研磨パッド上に供給する研磨用スラリーの供給量を制御する工程とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】原水中に含有するアルミニウムを効果的に除去し、水質の向上を達成すると共に、後段の膜処理装置に残留アルミニウムを付着するのを防止することを目的とする。
【解決手段】アルミニウム系の凝集剤で処理された原水に、凝集沈殿装置２においてポリ鉄、ポリシリカ鉄等の鉄系無機高分子凝集剤を添加し、残留アルミニウムを除去するアルミニウム除去工程と、アルミニウム除去工程を経由した処理水を膜処理装置４に通水する膜処理工程と、を有する純水製造方法。 （もっと読む）

【課題】ウォーターマークの発生を抑制可能な基板の乾燥方法を提供する。
【解決手段】基板の乾燥方法は、洗浄後の基板を乾燥する基板の乾燥方法であって、前記洗浄された基板に、イソプロピルアルコールを除く有機化合物及び／又は還元剤を含むリンス液を供給する供給工程と、前記リンス液が付着した基板をイソプロピルアルコールを含む不活性ガスにより乾燥する乾燥工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スラリへ添加剤を別に添加する必要がなく、安価で安定した研磨特性が得られる研磨パッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】研磨パッドはウェーハＷが押圧される研磨層３と研磨定盤に貼着される下地層２とから構成され、研磨層形成時には、スラリＳへ添加する添加剤４を、研磨層を形成する原料へ含有させて形成することにより、スラリへの添加剤添加が不要な安価で安定した化学的機械研磨を可能にする。 （もっと読む）

【課題】供給されるスラリの特性を安定化させ、良好な研磨面が得られるスラリの供給方法を提供すること。
【解決手段】研磨パッドにスラリＳを供給してウェーハを化学的機械研磨する際、添加剤Ｍをミストノズル１５よりスラリＳの液面へ均一に噴霧するとともに、常時攪拌することにより、容易にスラリＳ全体へ添加剤Ｍが拡散し、添加剤Ｍの濃度勾配が発生することもなく、特性の安定したスラリＳを研磨パッド上へ供給することが可能となり、良好な研磨面を得ることが出来る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、再生に有用な使用済の研磨用スラリーと洗浄水の混入した研磨用スラリーとを効率よく分別して回収することができる研磨用スラリーの回収方法を提供する。
【解決手段】収容タンク２の下部に設けられたスラリー貯留部３に貯留している使用済みの研磨用スラリーの導電率又はｐＨを、導電率計４又はｐＨ計により測定し、得られた導電率又はｐＨの値により、再生用の半導体研磨用スラリーと廃棄用の半導体研磨用スラリーとを判別して、空気作動バルブ６ａ，６ｂにより振り分けて、再生用の半導体研磨用スラリー回収タンク７に、廃棄用の研磨用スラリーを廃棄タンク８に分別回収する半導体研磨用スラリーの回収方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、純水の製造において供給する還元剤を、その還元剤の製造ラインへの注入前に配管移送する段階で殺菌処理を行い、製造ラインへの還元剤による汚染を防止することができる還元剤注入方法及び装置を提供する。
【解決手段】純水の製造ラインへ注入する還元剤を収容するタンク２と、このタンクから純水の製造ラインへ前記還元剤を移送することができる配管３と、還元剤をタンク２から配管３へ送出して移送させるポンプ４と、配管中を移送する還元剤を５０℃以上還元剤を沸騰させない温度に加熱して殺菌処理を行うことができる加熱用の熱交換器５と、を有することを特徴とする還元剤注入装置１。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、二次核発生を抑制し、少ない種晶で以て平均粒径の大きい結晶を析出させることができる晶析方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 種晶と化合物を含む溶液を晶析槽２００に供給し、晶析槽２００内に設けられた攪拌装置５００によって該溶液を攪拌し、種晶の表面に化合物の結晶を析出させる晶析方法において、攪拌装置５００として、偏平状の２つの攪拌パドルを有する攪拌手段と、回転駆動手段からの回転力を受けて２本の平行な回転出力軸を互いに反対方向へ回転させて攪拌手段側に伝達する回転力伝達手段とを備え、回転中の２本の回転出力軸の各角速度が補完的に変化する状態で２つの攪拌パドルに８の字形のパドル運動を行わせるリンク機構を構成した攪拌装置を用いる晶析方法。 （もっと読む）

【課題】純水処理装置に連通する純水流出口を、短時間に確実に殺菌する方法を提供する。
【解決手段】純水処理装置に連通する純水の流出口、特に流出口先端部および開閉バルブを含む純水の流出口に、１００〜４００℃のスチームを吹きかける。電解質、有機物の溶解量、微粒子数なども同時に管理される純水の場合には、スチーム発生に用いられる水も相当する高品質の水を用いる。流出口は、純水中に生息する細菌捕集用フィルターの取付口であることもでき、本発明の方法で流出口を殺菌した後、細菌捕集用フィルターを取付け、一定量の純水を流してフィルター上に細菌類を付着させ、培養して細菌数を測定する。 （もっと読む）