【課題】１次Ｘ線によって全反射蛍光Ｘ線分析装置の内壁などから散乱Ｘ線や不純線が発生してもそれらが検出器に入射するのを防止して、正確な分析ができる全反射蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の装置１は、円板状の試料Ｓの表面に微小な入射角度で１次Ｘ線１４を入射させ、発生する蛍光Ｘ線１５の強度を検出器１６で測定する全反射蛍光Ｘ線分析装置１であって、試料Ｓを移動させることにより、試料Ｓの表面における任意の測定部位を検出器の視野Ｆ内に移動させるステージ２１と、試料Ｓの背面側に配置されており、ステージ２１に支持され、ステージ２１の移動にしたがって移動し、検出器の視野Ｆの一部分だけを試料Ｓが占める場合に、検出器の視野Ｆの残部を占めるＸ線遮蔽カバー６１とを備えている。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの周期内において個々の層がその表面に形成された基材を含む多層構造を提供する。周期は、珪化マグネシウム（Ｍｇ_２Ｓｉ）を含む第１の層と、タングステン、タンタル、コバルト、ニッケル、銅、鉄、クロム、及びこれらの元素の合金、酸化物、ホウ化物、珪化物及び窒化物、珪素、炭素，炭化珪素、ホウ素、及び炭化ホウ素の少なくとも１つを含む第２の層とを含む少なくとも２つの層と、を有する。周期が３つの層を含むものであれば、第２の層が珪素、炭素，炭化珪素、ホウ素、及び炭化ホウ素の１つを含み、第３の層がタングステン、タンタル、コバルト、ニッケル、銅、鉄、クロム、及びこれらの元素の合金、酸化物、ホウ化物、珪化物及び窒化物の１つを含み、第２の層は第１の層と第３の層の間に配置される。周期が４つの層を含むものであれば、第４の層は珪素、炭素，炭化珪素、ホウ素、及び炭化ホウ素の１つを含み、第３の層は第２の層と第４の層の間に配置され、第４の層が多層周期ｎの第３の層と多層周期ｎ−１の第１の層との間に配置される。
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【課題】検量線を短時間に容易に作成できるようにして、定量分析を短時間に容易に行うことができるようにする。
【解決手段】被検試料をスキャン読取りすることによって回折強度プロファイルを求め、そのプロファイルに含まれているピーク波形の積分量を求め、検量線に基づいてその積分量から含有量を判定する定量分析方法である。含有量既知の標準試料に対して広いスキャン範囲（１１．０°≦２θ≦１３．２°）で所定の読取りステップ幅（０．０２°）で測定を行って回折線プロファイルＰ１〜Ｐ５を求め、その読取りステップ幅ごとの測定量（Ｉ）を標準試料ごとに記憶し、被検試料の測定結果に基づいて定量測定スキャン範囲を決め、記憶した標準試料についてのステップ幅ごとの強度データについて、定量測定スキャン範囲と同じ範囲（γ≦２θ≦δ）の積分値を演算によって求め、その積分値と標準試料の既知の含有量とによって検量線を求める。 （もっと読む）

【課題】ＥＩ処理に基づく質量分析及びソフトイオン化処理に基づく質量分析の両方の測定データを有効に活用することにより、混合ガスの定性分析をリアルタイムで高精度で行う。
【解決手段】ＥＩ処理によって第１ガスから得られたイオンの強度を質量分析してファイル１に記憶し（Ｓ１）、第１ガスと同じ成分を有する第２ガスからソフトイオン化処理によって得られたイオンの強度を質量分析してファイル２に記憶し（Ｓ２）、ソフトイオン化測定データから分子量を親イオンによって判定する（Ｓ３）。判定された分子量に対応するマススペクトルをＮＩＳＴデータベースに基づいて読出し（Ｓ６）、ステップＳ１でファイル１に記憶したイオン強度データとステップＳ６で読み出されたＮＩＳＴデータとを比較し（Ｓ１３）、その比較結果に基づいて第１ガスの成分分子を判定する（Ｓ１５）。 （もっと読む）

【課題】測定によって得られるスペクトルプロファイルのテーリングを抑制し、バックグラウンドを低減させて、高感度、高精度で分析することができるＸ線分析装置を提供する。
【解決手段】全反射蛍光Ｘ線分析装置１は、Ｘ線管１１によって１次Ｘ線１４が照射された試料Ｓから発生する２次Ｘ線１５の強度を検出する半導体検出器１６と、半導体検出器１６にバイアス電圧を供給するバイアス電源１７と、バイアス電源１７を制御して半導体検出器１６に供給するバイアス電圧を所定のスケジュールにしたがって切断する制御装置２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】基底基準吸収回折法による定量法において基底板から正確な回折線強度情報を得ることを可能にすることにより、極めて正確な検量を行うことができるＸ線回折定量装置を提供する。
【解決手段】物質Ｓの重量をＸ線を用いて測定するＸ線回折定量装置において、物質Ｓを物質保持領域Ａｓ内に保持するフィルタ３３と、物質Ｓに照射するＸ線を発生するＸ線源Ｆと、物質Ｓで回折した回折Ｘ線を検出するＸ線検出器２０と、フィルタ３３におけるＸ線照射面の反対側に設けられ物質保持領域Ａｓよりも小さい基底板３１と、Ｘ線源Ｆから見てフィルタ３３の背面側の領域であり且つ基底板３１の外周側面の周りの領域に設けられた空間領域４１とを有するＸ線回折定量装置である。基底板３１の周囲に空間領域４１を設けたことにより、空間領域４１を形成している試料板２９Ｃからの回折線によって基底板３１からの回折線に誤差変動が生じることを防止できる。 （もっと読む）

【課題】円板状の試料の縁近傍の周辺部における任意の測定部位について正確な分析ができる全反射蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】全反射蛍光Ｘ線分析装置１は、円板状の試料の表面Ｓａに微小な入射角度θで１次Ｘ線１４を入射させ、発生する蛍光Ｘ線１５の強度を検出器１６で測定する。検出器１６に対する試料Ｓの初期位置を検知する初期位置検知手段２０と、試料の表面Ｓａにおける測定部位５２を検出器１６の視野Ｆ内に移動させるステージ２１と、初期位置検知手段２０で検知した初期位置ならびにステージ２１による移動の方向および量に基づいて、検出器１６の視野Ｆ内における測定部位５２の測定面積Ｍ_１を算出し、算出した測定部位の測定面積Ｍ_１および測定した測定強度Ｉ_２に基づいて、単位面積Ｍ_０あたりの測定強度Ｉ_２×（Ｍ_０／Ｍ_１）を算出する算出手段３１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】迅速に３次元的な位置情報を得ることで効率的に精度の高い検査を行うことができるＸ線検査装置およびＸ線検査方法を提供する。
【解決手段】被検査体ＳにＸ線を照射するＸ線源１１０と、被検査体ＳのＸ線透過像を、それぞれ異なる照射角度範囲で検出する複数の検出領域を有するＸ線検出器１４０と、被検査体を移動可能に支持する移動用ステージ１２０と、を備え、移動用ステージ１２０は、一つの被検査体Ｓに対し複数の照射角度範囲のＸ線透過像を検出できるように被検査体Ｓを移動させて、検査を行う。これにより、一つの被検査体Ｓについて、異なる照射角度範囲のＸ線透過像が得られ、複数のＸ線透過像から３次元的な位置情報を得ることができる。また、一回の検出で複数の検出領域についてＸ線透過像のデータを得て、効率的に精度の高い検査を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線管の位置調整を、簡単かつ容易に短時間ですることができる全反射蛍光Ｘ線分析装置およびその装置に用いるプログラムを提供する。
【解決手段】全反射蛍光Ｘ線分析装置１は、Ｘ線管１１から出射され分光素子１３、１４で単色化された１次Ｘ線１５、１６を、所定圧のパージガス雰囲気において試料台２２に載置された試料Ｓに入射させ、発生する蛍光Ｘ線２０の強度を測定する検出器１９を有し、試料台２２を検出器１９の入射面直近から退避させる退避手段２３と、Ｘ線管１１の位置を調整するＸ線管位置調整手段２１と、Ｘ線管１１、検出器１９、退避手段２３およびＸ線管位置調整手段２１を制御する制御手段３０とを備え、制御手段３０が、１次Ｘ線１５、１６がパージガスＧで散乱された散乱Ｘ線１７、１８の強度を検出器１９に測定させながら、Ｘ線管位置調整手段２１に測定強度が最大になる位置にＸ線管１１を調整させる。 （もっと読む）

【課題】システム自体と基板の汚染を防止する蛍光Ｘ線分析システム、それに用いるプログラムを提供する。
【解決手段】蛍光Ｘ線分析システム１００は、基板１を測定する蛍光Ｘ線分析装置４０と、基板１の被測定物２を反応性ガスにより溶解する気相分解装置２０と、溶液で被測定物２を回収して基板１の表面に保持する試料回収装置３０と、基板１を、蛍光Ｘ線分析装置４０から気相分解装置２０へ、気相分解装置２０から試料回収装置３０へ、および試料回収装置３０から蛍光Ｘ線分析装置４０への搬送を行う搬送装置５０と、蛍光Ｘ線分析装置４０、気相分解装置２０、試料回収装置３０および搬送装置５０を制御するとともに、被測定物２の測定値が所定の分析閾値未満の基板１であるか、否かを識別する制御装置６０とを有する制御装置６０とを備える。 （もっと読む）