説明

和光純薬工業株式会社により出願された特許

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【課題】 半導体基板表面に施された金属配線を腐食させずに、また、半導体基板表面の平坦度を損なうことなく、パーティクルや金属汚染を除去することが可能な、半導体基板表面の洗浄処理剤及びこれを用いた処理方法の提供。
【解決手段】 カルボキシル基を少なくとも1個有する有機酸と、錯化剤とを含んで成る半導体基板表面の洗浄処理剤及びこれを用いた処理方法。 (もっと読む)


【目的】 本発明は、遠紫外光、KrFエキシマレーザ光等に対し高い透過性を有し、これ等光源による露光や電子線、X線照射に対して高い感度を有し、耐熱性及び基板との密着性が極めて優れ、又、化学増幅作用が十分行なわれ、パターン寸法が経時変化せず、良好なパターン形状が得られる重合体を使用したポジ型のフォトレジスト材料を提供する事を目的とする。
【構成】 フェノール性水酸基を有する樹脂にイソプロペニルアルキルエーテル、2-アルコキシ−1-ブテン、イソプロペニルトリメチルシリルエーテル又はイソプロペニルベンジルエーテルを反応させて得たアルカリ難溶性樹脂と露光によりカルボン酸を発生する感光性化合物と、これ等を溶解可能な溶剤を含んで成る事を特徴とするフォトレジスト材料。 (もっと読む)


【課題】薬物の取込率が高く、薬物の初期バーストが顕著に抑制され、薬物を長期間にわたって放出する注射用徐放性マイクロカプセルの提供。
【解決手段】有効量の薬物と基剤としての水可溶の低分子化合物の含有量が1塩基酸として高分子重合物100gに対し0.01モル未満である生体内分解型高分子重合物を含有する注射用徐放性マイクロカプセル。
【効果】有効量の薬物と基剤としての水可溶の低分子化合物の含有量が1塩基酸として高分子重合物100gに対し0.01モル未満である生体内分解型高分子重合物を含有するマイクロカプセルは、薬物の取込率が高く、薬物の初期バーストが顕著に抑制され、薬物を長期間にわたって放出する。 (もっと読む)


【構成】半導体の表面を無機又は有機のアルカリ、過酸化水素及び水を主たる構成成分とする半導体表面処理剤で洗浄する工程と、洗浄後これを超純水でリンスする工程とから成る半導体表面処理方法であって、半導体表面処理剤とリンス用超純水の少くとも何れか一方に、分子中にホスホン酸基又はその塩を1以上有するキレ−ト剤又はそれらの酸化体、又は縮合リン酸又はその塩(以下、これらを総称して、単に「本発明に係る錯化剤」と略記する。)を存在させて該処理を行う方法、及び処理用薬剤。
【効果】本発明に係る錯化剤を半導体表面処理工程に於ける処理剤又はリンス液中に有機物汚染の害を及ぼさない程度の微量添加することにより、再結合ライフタイム低下とか酸化膜対圧低下等の電気的特性上の問題を起こさない表面不純物濃度まで、有害不純物の吸着を抑制することができ、また有害不純物に対する洗浄能力を向上させることが出来る。 (もっと読む)



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