説明

株式会社エスパークにより出願された特許

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【課題】超臨界または亜臨界反応において、反応制御が可能な反応装置を提供する。
【解決手段】超臨界または亜臨界反応を行う反応器と、該超臨界または亜臨界反応で発生する熱源を直接に除去する熱除去手段とを有する反応装置。 (もっと読む)


【課題】超臨界または亜臨界状態においても、安定して圧力の調整ができる圧力調整弁を提供する。
【解決手段】超臨界液または亜臨界液が流入する流入部と、前記超臨界液または亜臨界液が流出する流出部とを有する弁本体と、
前記弁本体内に、前記超臨界液または亜臨界液の流入によって回転する弁体と、
前記弁体を流入部へ押圧する押圧部とを有する、圧力調整弁。 (もっと読む)


【課題】光触媒フィルタの取替え作業が不要であり、かつ、装置の小型化が可能なガス浄化装置を提供する。
【解決手段】ガス入口部とガス出口部とを有する筐体と、該筐体内に前記ガス入口部側から前記ガス出口部側に向かって該順に、ガスが通過するように設けられた、洗浄フィルタおよび、光触媒を含浸する光触媒フィルタと、前記洗浄フィルタの少なくともガス入口部側の表面を洗浄する洗浄手段と、前記光触媒を活性化する光を照射する光照射手段とを有する、ガス浄化装置。 (もっと読む)


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