説明

株式会社エスケーエレクトロニクスにより出願された特許

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【課題】フォトリソグラフィー工程とエッチング工程の回数を減らし、製造時間の短縮化と低コスト化を図る。
【解決手段】基板と膜の支持構造と光学積層膜と移動可能な反射層と空隙とを含む光干渉変調方式による表示装置の製造方法であって、基板上に支持構造と光学積層膜とを設けた構造に対してフォトレジスト膜を形成する工程と、透過率の異なる複数の領域を具備する多階調フォトマスクを用いて露光及び現像を行う工程と、前記現像後のフォトレジスト膜の上部に反射層を形成する工程と、前記反射層を残してレジスト膜を除去する工程と、を有する表示装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】隣接するストライプ状領域の重複領域の位置を所望の位置に容易に調整することができるフォトマスクの製造方法、この方法を用いて作製されたフォトマスク、およびフォトマスクの製造装置を提供する。
【解決手段】マスクブランクス10上でX方向に延びかつX方向と交差するY方向における幅を有するとともにY方向に並ぶ複数のストライプ状領域S1,S2に順にパターンの描画が行われる。複数のストライプ状領域S1,S2のうち一部のストライプ状領域S1の幅ws1が他のストライプ状領域S2の幅ws2と異なるように、複数のストライプ状領域S1,S2の幅がそれぞれ設定される。設定された幅ws1,ws2を有する複数のストライプ状領域S1,S2に順に描画が行なわれることにより、隣接する複数のストライプ状領域S1,S2の境界部分にX方向に沿って延びる重複領域OVが形成される。 (もっと読む)


【課題】パターンずれの少ない高精度な中間調フォトマスクを提供する。
【課題を解決するための手段】
透明基板1上のデバイスパターン部に、相対的に反射率が高く透過率が極めて低い遮光膜4の上に相対的に反射率が極めて低く透過率が高い半透過膜5が積層されている遮光部と、半透過膜5が透明基板上に直接堆積された半透過部と、遮光部又は半透過部の一部が除去され透明基板が露出した透光部7とを備える。一方、透明基板1上の非デバイスパターン部に設けられたアライメントマーク部に、遮光膜及び半透過膜がいずれも存在せず透明基板が露出した透光部と表面に反射防止膜が形成されていない遮光膜が最表面に露出した遮光部とによってアライメントマーク2が設けられる。 (もっと読む)


【課題】パターンをランダムに配置する平面基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る平面基板は、ランダムに配置された多数のパターン1を有し、パターンの全体は、仮想的な単位形状となる閉領域Uが、平面基板上に敷き詰められることによって形成され、閉領域の内部には、パターンが、予め規定された仮想的な第1の許容領域Aci内に形成されていると共に、第1の許容領域内のランダムな位置に1つずつ配置されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡素な構成で基板や容器に付着している汚染物質及び容器内に存在する汚染物質を取り除くことができるだけでなく、二次的に発生する汚染物質が基板や容器に付着することを抑制することができる可搬容器を提供する。
【解決手段】基板1の容器であって、容器内を区画するための隔壁5を備え、前記隔壁5には前記基板1を収納する区画K1とその他の区画とを連通する孔5a,5bが設けられており、前記その他の区画K2には前記基板1を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段6を備えた。 (もっと読む)


【課題】位置を確定する作業中に塵などがフォトマスクに付着すること及び運搬中にガタツキが発生することを抑制することができるフォトマスクケースを提供する。
【解決手段】
収納するフォトマスクの上下方向一方側に当接する当接部と、該フォトマスクの左右方向及び上下方向での位置を確定するための保持手段とを備えたケース本体と、該フォトマスクを厚み方向でケース本体側に押し付けて固定するための蓋体とを備え、保持手段が、フォトマスクの左右方向及び上下方向での位置の確定を行う左右方向保持手段8及び上下方向保持手段11を備え、左右方向保持手段8の操作部8C及び左右方向保持手段11の操作部11Cをフォトマスクの左右両端から外れた外側の位置に配置した。 (もっと読む)


【目的】カラーフィルタのマスクプロセスにおける短寸法補正領域を改善する。
【構成】まず、カラーフィルタのプロセス特性に起因する設計値に対する変化量を線幅及び座標で表した変化領域マップを取得する。次に、カラーフィルタ用フォトマスクの初期設計値に対し、変化領域マップに基づいて変化量を補正する。次に、その変化量をフォトマスクに補正する際、前記変化領域マップにおける短寸法補正領域の変化が大きい領域から小さい領域までの変化量を前記マスクの初期設計値に対して補正を行う。 (もっと読む)


【課題】半透光部における半透光膜の膜厚を一定にすると共に半透光膜と遮光膜との境界部における階調の変化を急峻にする。
【課題を解決するための手段】
透明基板上に露光光を遮断する遮光部と露光光を透過する透光部と露光光の一部を透過する半透光部とを含む多階調フォトマスクを準備する。次に、遮光部と半透光部との境界に露光装置の解像度限界以下の幅を持つ透過帯を形成する。この透過帯を形成する工程は、遮光部、透光部及び半透光部形成後に、ザッピングによって遮光膜と半透光膜の境界部に露光装置の解像限界以下の幅を持つ透過帯を形成する。 (もっと読む)


【課題】パターンの描画時間を短縮することが可能な描画装置を提供する。
【解決手段】ステージ1上にマスクブランクス10が固定される。ステージ1は、ステージ駆動部2によりY方向に沿って移動する。キャリッジ3A,3Bは、ステージ1の上方でX方向に延びるヘッド移動部31a,31bをそれぞれ有する。キャリッジ3Aのヘッド移動部31aには、ヘッド部4Aが取り付けられる。キャリッジ3Bのヘッド移動部31bには、ヘッド部4Bが取り付けられる。
レーザ光発生部5により発生されたレーザ光がヘッド部4A,4Bからステージ1上のマスクブランクス10に向けてそれぞれ出射される。 (もっと読む)


【課題】パターンの描画時間を短縮することが可能な描画装置を提供することである。
【解決手段】記憶部21は、描画すべきパターンに対応する描画データを記憶する。第1および第2のデータ処理部22,24は、記憶部21に記憶される描画データに基づいて各帯状領域に対応するオンオフデータをそれぞれ作成し、作成したオンオフデータに基づいてオンオフ切替部6を制御する。動作制御部30は、ステージ駆動部2、ヘッド部4を制御する。また、動作制御部30は、オンオフ制御部20の第1のデータ処理部22にデータ作成信号SA1およびオンオフ制御信号SB1を与える。 (もっと読む)


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