説明

日新イオン機器株式会社により出願された特許

161 - 161 / 161


【課題】 イオンの利用効率を低下させること無く、単原子イオンとクラスタ分子イオンとの両方の種類のイオン照射を可能とするイオン注入装置を実現する。
【解決手段】 イオン源として、単原子イオンの生成のみを可能とするイオン源1を用い、第1の質量分析器2と第2の質量分析器5との間にガス供給部11を備える。クラスタ分子イオンを照射する場合には、ガス供給部11に多原子分子ガスを導入し、イオン源1で生成された単原子イオンとガス供給部11に導入された多原子分子ガスとの間での電子交換によってクラスタ分子イオンを発生させ、これを第2の質量分析器5で分離して照射する。単原子イオンビームを照射する場合には、ガス供給部11にガスを導入せずに、イオン源1で生成された単原子イオンを照射する。 (もっと読む)


161 - 161 / 161