【課題】 アンテナを有するＥＣＲ型のプラズマ発生装置において、プラズマによるアンテナカバーの消耗の課題を解決する。
【解決手段】 このプラズマ発生装置１０は、プラズマ２４を生成するプラズマ室２０に隣接して設けられていて真空に排気されるアンテナ室４０と、その内部に設けられていて高周波を放射するアンテナ４２と、絶縁物から成り、プラズマ室２０とアンテナ室４０との間をガスを阻止するように仕切ると共にアンテナ４２から放射された高周波を通す仕切り板５４と、プラズマ室２０の外部に設けられていてプラズマ室２０内に電子サイクロトロン共鳴を起こす磁界Ｂを発生させる磁石装置６０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの加減速、特に減速を行った場合においても、偏向中心位置が大きく変化しないようにして、ターゲットに入射するイオンビームの入射角度を所望の角度に保ったまま、ターゲットに入射するイオンビームの中心位置を所望の位置にすることができるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】イオンビームＩＢを加減速し偏向させてターゲットＴに入射させる静電加速管３を具備したイオン注入装置において、前記静電加速管３の一部を構成する偏向電極５が、前記イオンビームＩＢを挟んで設けられ、互いに異なる電位が設定される第１偏向電極５１と第２偏向電極５２とを備えたものであって、前記第２偏向電極５２は、イオンビームＩＢが偏向される側に設けられるものであり、上流側に設けられる上流側電極５２１と、これから離間して設けられる下流側電極５２２とを具備し、前記上流側電極及び下流側電極はそれぞれ独立に電位を設定可能に構成した。 （もっと読む）

【課題】 基板のステップ回転を用いることなく、基板の面内に、円形状注入領域と、それを囲んでいて当該円形状注入領域とはドーズ量の異なる外周部注入領域とを形成することができるイオン注入方法等を提供する。
【解決手段】 このイオン注入方法は、基板２の面内におけるイオンビーム４の走査速度を可変にして、基板２の面内におけるイオンビーム４の１片道走査または１往復走査ごとのＸ方向における走査速度分布を、基板２のＹ方向の位置に応じて変化させることによって、基板２の面内に、円形状注入領域と、それを囲んでいて当該円形状注入領域とはドーズ量の異なる外周部注入領域とを形成するものである。 （もっと読む）

【課題】 メカニカルスキャン方式のイオン注入装置において、基板のノッチ位置検出用の照明装置を構成する発光器に真空容器外から光を導くライトガイドを屈伸させずに済むようにする。
【解決手段】 照明装置４０は、真空容器６外に設けられた光源４２と、それからの光を真空容器６内へ導くライトガイド４４と、真空容器６内に固定されていてライトガイド４４で導かれた光４８を放出する投光部４６と、ホルダ駆動装置１０の支持台１８に取り付けられていて、ホルダ１２がノッチ検出位置２８に位置した状態で、投光部４６からの光４８を受ける受光部５０と、それで受けた光を導くライトガイド５２と、支持台１８に取り付けられていてライトガイド５２で導かれた光４８を基板２の外周部に照射する発光器５４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 安価で、注入量分布のパターンに多様性を持たせることができ、各注入領域間の注入分布が連続的でスムーズになるような不均一注入を行うことができる新規なイオン注入方法を提供する。
【解決手段】 イオン注入において、基板ＷをイオンビームＩＢが照射される面に交差する回転軸ＲＡを中心として回転させながら、電界又は磁界によるイオンビームＩＢの走査又は前記基板Ｗの並進移動の少なくとも一方を同時に行わせる。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウムイオンを含むイオンビームを発生させるイオン源において、部品点数の削減および構造の簡素化を可能にする。
【解決手段】 このイオン源は、フッ素を含むイオン化ガス８が導入されるプラズマ生成容器２と、この容器２内の一方側に設けられた熱陰極１２と、プラズマ生成容器２内の他方側に設けられていて、バイアス電源２４から当該容器２に対して負電圧Ｖ_B が印加されて電子を反射する対向反射電極２０と、プラズマ生成容器２内に、熱陰極１２と対向反射電極２０とを結ぶ線に沿う磁界２８を発生させる磁石３０とを備えている。対向反射電極２０はアルミニウム含有物質から成る。 （もっと読む）

【課題】 リボン状のイオンビームのＸ方向およびＹ方向における発散角を簡単な方法で測定する測定方法を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム測定方法は、イオンビーム２の一部を通過させる小孔６２を有するマスク板６０と、その下流側に設けられていて、前記小孔を通過したイオンビームを受けてそのビーム電流をそれぞれ検出する複数のビーム検出器１２をＸ方向に有していて、Ｙ方向に可動のビームモニタ１０とを用いる。そして当該ビームモニタ１０をＹ方向に移動させることによって、小孔６２を通過したイオンビームのＸ方向およびＹ方向における中心位置ｘ₃ 、ｙ₃ をそれぞれ測定し、その中心位置ｘ₃ 、ｙ₃ とそれに対応する小孔６２間のＸ方向およびＹ方向における距離Ｌ₄ 、Ｌ₅ ならびにマスク板６０とビームモニタ１０間のＺ方向における距離Ｌ₃ に基づいて、小孔６２を通過したイオンビームのＸ方向およびＹ方向における発散角α_X 、α_Y をそれぞれ測定する。 （もっと読む）

【課題】 同軸構造の熱陰極の内部導体の温度上昇を抑制して、内部導体の寿命ひいては熱陰極の寿命を長くする。
【解決手段】 この熱陰極１０は、中空の外部導体２と、その内側に同軸状に配置されている中空の内部導体１と、両導体１、２の先端部を電気的に接続する接続導体３とを備えている。加熱電流Ｉ_H は、接続導体３を通して折り返されて、外部導体２と内部導体１とで互いに逆向きに流される。 （もっと読む）

【課題】 ギャップ調整治具を用いなくてもフィラメントとカソードとの間のギャップ長を所定長さに調整することができる方法を提供する。
【解決手段】 カソードホルダー２２の溝２６の幅Ｗからカソード導体４０の厚さＴを引いた寸法が、フィラメント６０とカソード２０との間の所定長さのギャップ長Ｇと等しくなるように、幅Ｗ、厚さＴを定めておき、カソードホルダー２２を後方に押して溝２６の前端面２８をカソード導体４０に当接させた状態で、カソード導体４０とフィラメント導体７０とを電気絶縁物を介在させて互いに結合固定し、フィラメント６０を前方に動かしてそれをカソード２０に当接させた状態で、フィラメント６０をフィラメント導体７０に固定し、カソードホルダー２２を前方に引いて突起３０をカソード導体４０に当接させた状態で、カソードホルダー２２をカソード導体４０に固定する。 （もっと読む）

【課題】イオン源から出射するイオンビームの軌道がイオン源におけるＹ方向磁界の影響を受けて設計上のビーム軌道からずれたとしても、分析スリットに入射するイオンビームの軌道を設計上のビーム軌道に近づけることができるようにする。
【解決手段】イオン源１０ａの引出し用電極を第１、第２引出し用電極２２ａ、２２ｂに分けて構成しておき、かつ両電極間に電位差を形成する直流電源５２ａ、５２ｂと、イオンビーム２を撮影してその画像データを出力するカメラ８０と、分析スリット４０を通過したイオンビーム２のビーム電流Ｉ₂を測定する後段ビーム測定器７０とを設けておき、Ｉ₂が最大になるように分析電磁石電流Ｉ₃を調整し、次に、カメラからの画像データに基づいて分析スリットに入射するビーム軌道の設計値からの偏差角度を求め、それが小さくなるように両引出し用電極間の電位差を調整する。調整を繰り返して偏差角度を許容範囲内に入れる。 （もっと読む）