説明

旭化成エレクトロニクス株式会社により出願された特許

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【課題】 感度、解像度にすぐれるばかりでなく、低い熱処理温度でも、良好な機械物性を有する、ポジ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】 一般式(1)で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド100質量部とアクリレート系化合物1〜100質量部と感光性ジアゾキノン化合物1〜100質量部を含むポジ型感光性樹脂組成物。
【化1】
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【課題】 感度、解像度、密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。
【解決手段】 支持体(A)、アルカリ現像可能な感光性樹脂層(B)、非感光性耐アルカリ性樹脂層(C)を順次積層してなるサンドブラスト用感光性樹脂積層体を用いて、サンドブラスト表面加工を行う。 (もっと読む)


【課題】 初期化操作時の回転軸のセンサモジュールへの挿入による軸ずれの影響が少ない角度データを作成し、実使用時に発生する角度誤差を抑えるようにすること。
【解決手段】 初期化環境においてセンサモジュール保持部にセンサモジュールを取り付け(S1)、回転軸をセンサモジュールに抜き差しして、回転角0度でのYホール素子の出力値とAD変換値BzY(0)を取得し、90度回転でのXホール素子の出力値とAD変換値BzX(90)を取得し(S2)、これらのベクトル(BzY(0)、BzX(90))の分布から軸ずれを評価して適切な配位ベクトル範囲を決定して取得候補を決め(S3)、再度、回転軸をセンサモジュールに挿入して(S4)、配位ベクトル範囲内の配位ベクトル点におけるホール素子の出力値を複数取得し(S5)、取得データに対して平均化処理をすることで軸ずれの影響のない角度データルを作成する(S6)。 (もっと読む)


【課題】 大型ペリクルを構成する大型ペリクル膜に耐光性に優れたふっ素系材料を用いた場合には、この大型ペリクルをマスクに取付けた後で、大型ペリクル膜に付着した異物を除去するためにエアブローをすると、前記マスクのパターン面に該大型ペリクル膜が付着してしまう問題があった。
【解決手段】 大型ペリクル枠体2の一方の縁面に接着剤3を介してふっ素系ポリマーからなる大型ペリクル膜4を貼着し、かつ該大型ペリクル枠体2の他方の縁面に粘着材5及び保護ライナー6を順に積層した大型ペリクル1に於て、大型ペリクル1の大きさに従って前記大型ペリクル膜4の膜厚を適宜選択することによって、エアブロー時に大型ペリクル膜4がマスク8のマスクパターン7に付着することがないように構成した大型ペリクルの構造である。 (もっと読む)


【課題】
良好な密着性、耐エッチング性を有し、直線性に優れた電極パターンを作成できる感光性樹脂組成物、および、それを用いたレジストパターン、電極パターンの提供。
【解決手段】
(A)アルカリ可溶性高分子30〜75質量%、(B)付加重合性モノマー15〜60質量%、(C)光重合開始剤0.01〜20質量%を含むディスプレイパネル電極製造用感光性樹脂組成物であって、(B)付加重合性モノマーが分子内にOH基と付加重合性不飽和結合とを有する化合物を含有し、アルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする合金よりなる基材(Y)上に積層されることを特徴とするディスプレイパネル電極製造用感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】TABやCOF用のレジストパターンとして十分な解像度およびエッチング性能を与える感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】支持層、感光性樹脂層、及び保護層をこの順に積層した感光性樹脂積層体において、感光性樹脂層の厚みが0.5μm〜6.0μmであり、かつ、支持層と感光性樹脂層からなる部分積層体の厚みの標準偏差が0.2μm以下である。 (もっと読む)


【課題】 感度、解像度、密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。
【解決手段】 特定のポリウレタンプレポリマーと、アルカリ可溶性高分子と、光重合開始剤と、エチレン性不飽和付加重合性モノマーより成る感光性樹脂組成物、またはそれを支持体上に積層した感光性樹脂積層体を用いて、サンドブラスト表面加工を行う。 (もっと読む)


たて糸とよこ糸から構成されるガラスクロスであって、表組織と裏組織からなる二重組織を有し、該表組織と該裏組織が織物組織で接結され一体化していることを特徴とするプリント配線板用二重織りガラスクロス。 (もっと読む)


特定方向に姿勢を一定に保ったまま変化させた場合、誤ったオフセット情報を取得せず、任意の方向に変化させた場合には、相当するオフセット情報を得ることができる方位角計測装置を提供する。地磁気を検出する3軸のセンサからのデータをデータ処理部19で処理する。処理部19では、地磁気の向きが3次元空間で変化した時の3軸出力データを所定回数以上繰り返して取得し、3軸出力データを各軸方向成分とする3次元座標上で、3軸出力データ群からの距離のばらつきが最小になるような位置の座標を統計的手法により推定し基準点とし、基準点の座標に基づいて、3軸出力データのオフセット情報を算出し、3軸出力データ群が特定の平面近傍に分布しているかどうかを判断し、3軸出力データ群が特定の平面近傍に分布していると判断された場合は、基準点の座標の推定を行わないか、推定された基準点の座標を破棄する処理を行う。 (もっと読む)


本発明は、方位角の測定で取得したデータから算出されるオフセットの更新を実現するための方位角計測装置及びその方法を提供する。3軸磁気センサ(10)により測定された地磁気出力は、増幅部(13)で増幅されてA/D変換部(14)に入力される。チョッパ部(11)は、X軸磁気センサ(2)とY軸磁気センサ(3)とZ軸磁気センサ(4)を駆動する端子を切り替えるためのもので、駆動電源部(12)から出力された駆動電圧をX軸磁気センサ(2)とY軸磁気センサ(3)とZ軸磁気センサ(4)に印加する。増幅器(13)で増幅された出力増幅値がA/D変換部(14)でアナログ信号からデジタル信号に変換された後、感度・オフセット補正計算部(16)に入力される。この感度・オフセット補正計算部(16)の出力データは、方位角計算部(20)に入力され、その方位角情報が出力される。信頼性情報計算部(19)からは信頼性情報が出力される。 (もっと読む)


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