【課題】炭化珪素電界効果型トランジスタにおいて、ゲート絶縁膜と炭化珪素半導体間に良質な界面を得る。
【解決手段】ゲート絶縁膜４は、１ｎｍ以下の膜厚の酸化珪素１１と、当該酸化珪素１１の表面上に酸化アルミニウム等の堆積絶縁膜１２が積層された構造を有する。好ましくは、酸化珪素１１の膜厚は、０．３ｎｍから０．９ｎｍの範囲内の値にある。尚、堆積絶縁膜１２の積層後に、本炭化珪素電界効果型トランジスタを製膜温度よりも高温で不活性ガス中若しくは一酸化窒素ガス中で熱処理することとしても良い。 （もっと読む）

【課題】低級オレフィンからこのオレフィンより炭素数が増加したオレフィンを高選択率で製造するオレフィンの製造方法を提供する。
【解決手段】低級オレフィンを原料として、平衡吸着法により周期表第６族ないし第１３族に属する金属を少なくとも１種以上規則性メゾポーラス多孔体に担持した触媒に、１５０℃以上６００℃以下で接触させる。規則性メゾポーラス多孔体として、骨格の主成分がシリカで、開口径が１．４ｎｍ以上１０ｎｍ以下のものを用いる。オレフィンより炭素数が増加したオレフィンを、連続的にかつ高い選択率で製造できる。 （もっと読む）

【課題】低コストでかつ簡便にナノ粒子をサイズ分離できる限外濾過膜等を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係る限外濾過膜は、３次元網目構造を有する架橋高分子膜を備え、（１）前記架橋高分子膜が有機溶媒により十分に膨潤せしめられ、（２）走査型顕微光散乱法で測定して求めた前記架橋高分子膜の流体力学的半径ξに２を乗じることによって算出される平均網目サイズ(2ξ)が、１ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の範囲にあり、（３）粒子が有機溶媒中に分散した流体を前記架橋高分子膜上に供給すると、前記網目サイズに１．３を乗じた値よりも大きい粒径の前記粒子をカットオフするものである。 （もっと読む）

【課題】高品質の積層ウェブを製造することができる積層高分子ウェブの製造方法と装置を提供する。
【解決手段】高分子溶液に高電圧を印加して小穴から流出させるナノファイバー生成手段２ａ、２ｂを複数並列配置し、これらのナノファイバー生成手段２ａ、２ｂからそれぞれ物性の異なるナノファイバー２１ａ、２１ｂを生成し、これら生成されたナノファイバー２１ａ、２１ｂを担持シート８上に順次積層させて堆積させ、かつその堆積工程において、ナノファイバー生成手段２ａ、２ｂと担持シート８の間の空間を、各ナノファイバー生成手段２ａ、２ｂの間で隔壁板１３に交流電圧を印加した隔離手段１６にて隔離することで、ナノファイバー２１ａ、２１ｂを、隣接するナノファイバー生成手段２ａ、２ｂに印加される高電圧の影響を受けずに順次均一に堆積させて積層できるようにした。 （もっと読む）

【課題】十分な外部取り出し効率を有する有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】透明支持基板１、透明電極３、有機層４及び金属電極５を備える有機ＥＬ素子の製造方法であって、
前記透明支持基板１上に硬化性樹脂２を塗布し、母型を押し付けつつ前記硬化性樹脂２を硬化させた後、前記母型を取り外して、前記透明支持基板１上に周期的な配列で凹凸が形成された硬化性樹脂層２を積層する工程と、
前記硬化性樹脂層２上に、前記透明電極３、前記有機層４及び前記金属電極５を、前記硬化性樹脂層２の表面に形成されている凹凸の形状が維持されるようにして、それぞれ積層して有機ＥＬ素子を得る工程と、
を含むことを特徴とするコルゲート構造を有する有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】薄くても、白色光を十分な強度で反射できる光反射フィルム及びこれを用いたレーザ発振素子を提供すること。
【解決手段】コレステリック液晶を含むコレステリック液晶層１，２と、隣り合うコレス
テリック液晶層１，２の間に設けられ、等方性媒体からなる等方層3とを備え、コレステ
リック液晶層１，２におけるコレステリック液晶の螺旋のピッチ数が２以下で且つ螺旋の
掌性が同一であり、コレステリック液晶層１，２におけるコレステリック液晶の螺旋のピ
ッチが同一であり、コレステリック液晶の選択反射帯域の中心波長が５００〜５６０ｎｍ
であり、等方層３の厚さが０．３０μｍより大きい、光反射フィルム１０。 （もっと読む）

【課題】 リンク関係を持たないファイル群から、作業に関連するファイルを検索するファイル検索システムを提供する。
【解決手段】 ファイル間相互の関連度の演算処理は、まず、アクセスログを取得し（ステップＳ２０１）、ユーザが作業を行っている時間を定義して活動時間を演算し、ファイル名ごとにアクセスログを分類し、すぐにロックを離す拡張子を抽出する（ステップＳ２０２〜Ｓ２０４）。そして、それらの結果を用いて、前処理Ａ，Ｂ，Ｃによって、アクセスログの修正を行う（ステップＳ２０５〜２０７）。次に、修正されたアクセスログから、ファイルごとにファイル使用時間を集計する（ステップＳ２０８）。そして、ファイル同士のファイル使用時間の重複する区間を求めて、その重複する区間に係るパラメータを所定の式に入力して関連度を演算する（ステップＳ２０９）。 （もっと読む）

【課題】並進運動に対する前庭動眼反射の原理を用いて画像のぶれを防止するための眼球運動制御装置を提供する。
【解決手段】眼球運動制御装置は、眼球装置として用いられる撮像手段２０と、撮像手段を回転運動させる眼球駆動手段３０と、撮像手段２０から視標１までの距離に関係する情報を取得する距離情報取得手段４０と、運動物体の並進運動による変動を計測する並進運動センサ５０と、眼球駆動手段による回転運動により並進運動を補正する補正手段６０とからなる。補正手段６０は、並進運動センサ５０により計測される並進運動による変動をキャンセルして視標１の撮像位置が固定されるように、取得される視標１までの距離情報と並進運動による変動情報とを用いて眼球駆動手段３０による回転運動を補正する。 （もっと読む）

【課題】 チタノシリケート中の全チタンに対する４配位チタンの含有比率がより高いＭＷＷ構造を有するチタノシリケートの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のチタノシリケートの製造方法は、ケイ素化合物、チタン化合物、ホウ素化合物、水及び構造規定剤の混合物を水熱合成反応に付し、得られた結晶を酸処理した後、焼成することによりＭＷＷ構造を有するチタノシリケートを製造する方法であって、前記酸処理を０〜７５℃で１〜４８時間行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ケトンのアンモキシム化反応における触媒として、ケトンの転化率、オキシムの選択率および触媒寿命の点で優れた性能を発揮するチタノシリケートを製造する方法を提供し、さらに、高い転化率でケトンをアンモキシム化反応させて、長期間にわたり触媒寿命を維持しつつ、良好な選択率でオキシムを製造する方法を提供する。
【解決手段】 本発明のチタノシリケートの製造方法は、ケイ素化合物、チタン化合物、ホウ素化合物、水及び構造規定剤を混合した後、１５０〜２００℃に昇温して水熱合成反応に付し、得られた結晶を焼成することによりＭＷＷ構造を有するチタノシリケートを製造する方法であって、５０℃から１５０℃までの温度領域における温度上昇速度が４５℃／時間以下である。本発明のオキシムの製造方法は、前記ＭＷＷ構造を有するチタノシリケートの存在下に、ケトンを過酸化物及びアンモニアによりアンモキシム化反応させる。 （もっと読む）