説明

国立大学法人東京工業大学により出願された特許

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【課題】カメラの撮像画像による床面の形状を認識するための演算処理を軽減しつつ、ロボットの適切な移動制御を行なうことを可能とする脚式移動ロボットを提供する。
【解決手段】ロボット1の移動時に、該ロボットの現在の動作制御のために使用している床面形状の情報により表される床面である現状想定床面に対するロボット1の脚体5L,5Rの複数歩分の着地予定位置を設定し、その各着地予定位置毎に、該着地予定位置の近辺に、ロボット1に搭載されたカメラ27L,27Rの撮像画像に投影する画像投影領域A(i)を設定する。設定した各画像投影領域A(i)をカメラ27L,27Rの撮像画像の撮像画像に投影してなる部分画像領域の画像に基づいて、各部分画像領域毎に、該部分画像領域内に撮像されている実際の床面である実床面部分領域Ar(i)の形状を表す形状パラメータ(n(i),d(i))を推定する。 (もっと読む)


【課題】容器内雰囲気の初期的昇温・昇圧のための熱負荷及び加圧負荷を軽減するとともに、反応容器を大型化することなく、廃棄物処理量を増大する。
【解決手段】廃棄物処理装置(1)は、有機性廃棄物(W1)を高温・高圧の容器内領域(18)で攪拌して加水分解させる第1容器(10)と、加水分解した廃棄物(W2)を高温・低圧の容器内領域(28)で加熱乾燥させる第2容器(20)と、第1容器内の雰囲気を解放せずに廃棄物(W0)を第1容器の容器内領域に導入する廃棄物供給装置(30)と、第1容器内の雰囲気を解放せずに第1容器内の廃棄物(W1')を第2容器内に移動させる廃棄物移動装置とを有する。 (もっと読む)


【課題】2つのカメラの撮像画像内の物体の平坦部を観測するために、それらの撮像画像間の射影変換を利用した収束演算処理を行なう方法において、その収束演算処理の収束性を確保しつつ、演算負荷を軽減する。
【解決手段】収束演算処理における射影変換行列の所定種類のパラメータ(n(i),d(i))の初期値(n0(i),d0(i))により規定される平面πa(i)が、観測対象の物体の平坦部を包含する実際の平面に対して傾斜した平面になることを該初期値(n0(i),d0(i))が満たすべき制約条件とし、該初期値(n0(i),d0(i))を該制約条件を満たす値に設定する。 (もっと読む)


【課題】耐熱性に優れたジエン重合体およびその製造方法。
【解決手段】下記式(1)で表される単位を含む重合体および重合体の製造方法。


(ただし、上記式(1)において、X1およびX2はそれぞれ独立に、元素の周期表第16族の原子を表し;Y1およびY2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、またはシリル基を表し、Y1とY2は互いに結合して環を形成していてもよい;A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8、A9およびA10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトリル基、アルデヒド基、アルキル基、アラルキル基、アリール基、シリル基、シロキシ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アミド基、イミド基、または炭化水素チオ基を表し;mは0または1を表し;nは1〜20の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】バルクに匹敵する低抵抗のSrRuO結晶膜を量産性に優れたスパッタ法で成膜する方法及びバルクに匹敵する低抵抗のスパッタSrRuO結晶膜を提供すること。
【解決手段】ターゲットと基板を対向させたスパッタ法で、酸素含有雰囲気、8Pa以上300Pa未満、好ましくは16〜130Paの範囲内の圧力下で、基板上にSrRuOを堆積する、SrRuO膜の製法。 (もっと読む)


【課題】耐熱性と加工性のバランスに優れたジエン重合体およびその製造方法。
【解決手段】下記式(1)で表される単位を含む重合体および重合体の製造方法。


(ただし、上記式(1)において、A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8、A9、A10、A11およびA12はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトリル基、アルキル基、アラルキル基、シリル基、シロキシ基、アミノ基、アミド基、イミド基または炭化水素チオ基を表し;mは0または1を表し;nは1〜20の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】耐熱性に優れた環状オレフィン−ジエン共重合体およびその製造方法の提供。
【解決手段】下記式(1)で表される単位と環状オレフィン単位とを含む共重合体および共重合体の製造方法。


(ただし、X1、からX4は周期表第16族の原子を表し;R1およびR2は水素または炭素原子数1〜20の炭化水素基を表し、;A1からA10は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、2置換アミノ基、または炭化水素チオ基を表す。) (もっと読む)


【課題】高い屈折率を有し、耐熱性および耐溶剤性などに優れた、光学フィルムなどを形成するのに有用な新規なフルオレン骨格含有ポリマー、およびそのポリマーで形成された成形体を提供する。
【解決手段】9,9−ビス(3−メチルー4−ヒドロキシフェニル)フルオレン−ジクロロジフェニルシラン共重合体に代表される、特定のフルオレン骨格を含有するとともに、主鎖に特定のケイ素骨格を有するポリマー。さらに、該ポリマーから形成された成形体、特にフィルム。 (もっと読む)


【課題】耐熱性に優れたジエン重合体およびその製造方法。
【解決手段】下記式(1)で表される単位を含む重合体および重合体の製造方法。


(ただし、上記式(1)において、X1およびX2はそれぞれ独立に、元素の周期表第16族の原子を表し;Y1およびY2はそれぞれ独立に、アルコキシ基、アラルキルオキシ基またはアリールオキシ基を表し、Y1とY2とは互いに結合して環を形成していてもよい;A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8、A9およびA10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、シリル基、シロキシ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アミド基、イミド基、または炭化水素チオ基を表し、A3とA4とは、またはA5とA6とは、互いに結合して環を形成していてもよい;nは1〜20の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】ホイスラー合金である強磁性体層を形成すること。
【解決手段】本発明は、反応抑制層14上に形成された半導体層16上に磁性元素層20を形成する工程と、半導体層16と磁性元素層20とを熱処理し反応させることにより、反応抑制層14上にホイスラー合金層26である強磁性体層を形成する工程と、を有することを特徴とする強磁性体の形成方法並びにトランジスタ及びその製造方法である。本発明によれば、半導体層と磁性元素層との反応を抑制する反応抑制層により、半導体と磁性元素との反応に供給される半導体が制限され、磁性元素の組成比の大きな強磁性体を形成することができる。 (もっと読む)


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