【課題】金属または金属酸化物からなる微細構造体を容易に、導電性基板上に規則的に配列させて作製できる微細構造体の製造方法および該製造方法を用いて得られる複合体の提供。
【解決手段】導電性基板１３上に有機膜１２を形成し、該有機膜１２上に、特定一般式（１）で表されるブロック共重合体（１）を溶媒に溶解した溶液を塗布して両親媒性ブロック共重合体膜１１を形成する。次に、有機膜１２および両親媒性ブロック共重合体膜１１が形成された導電性基板１３に対して熱処理を行って、該両親媒性ブロック共重合体膜１１内を、親水相と疎水相とに相分離させ、相分離構造膜１４とする。その後、導電性基板１２に対して電解メッキ処理を行う。これにより、相分離構造膜１４の親水相１５の位置に金属または金属酸化物からなる微細構造体１６が形成される。電解メッキ処理の後、さらに、相分離構造膜１４のみを除去する工程を行ってもよい。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性が高く、高い透明性と高い硬度を共に有する透明性保護膜が、５０℃を超える温度での焼結工程を経ないでも得られる新規のコーティング組成物、また、そのコーティング組成物を用いた透明性保護膜となるシリカ−エポキシ樹脂複合体を提供する。
【解決手段】本発明のコーティング組成物は、脂環を構成する隣接する２つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基（ｉ）を１分子当りに少なくとも１個有するエポキシ化合物（Ａ）と、ポリシラザン（Ｂ）と、該ポリシラザン（Ｂ）を溶解する乾燥溶媒（Ｃ）と、カチオン触媒（Ｄ）と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴの活性層等に適用できる新規な非晶質酸化物を提供する。
【解決手段】非晶質酸化物が所定の材料を含み、電子キャリア濃度が１０¹⁸／cm³未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性が高く、高い透明性と高い硬度を共に有する透明性保護膜が得られる新規のコーティング組成物、また、そのコーティング組成物を用いた透明性保護膜となるシリカ−エポキシ樹脂複合材料を提供する。
【解決手段】本発明のコーティング組成物は、特定のエポキシ化合物とポリシラザンと、ポリシラザンを溶解する乾燥溶媒と、の混合物からなる。乾燥溶媒に溶解された状態のポリシラザンは、特定のエポキシ化合物が有する脂環に直接結合したエポキシ基と反応が起こり、発生する水酸基との間で結合する。ポリシラザン分子は、エポキシ樹脂に固定され、エポキシ樹脂とポリシラザンとの巨視的な相分離が抑制される。その結果、本発明のコーティング組成物から得られる透明性保護膜は、ポリシラザン由来のシリカとエポキシ樹脂とが連続ラメラ構造を形成し透明なシリカ−エポキシ樹脂複合材料となる。 （もっと読む）

【課題】新規の電子・イオン混合伝導性膜等を用いた酸化・還元反応用の膜触媒ユニット、およびそれを用いた化合物の製造方法、特に高効率で経済的な過酸化水素の製造方法を提供する。
【解決手段】膜触媒ユニット７は、電子・イオン混合伝導性膜等の一方の面に酸化触媒膜、他方の面に還元触媒膜を積層させ、触媒膜の一部が開口していることが特徴であり、該触媒膜ユニットにより、酸素から純粋な過酸化水素の水溶液１３を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】様々な種類のプラズマガスを用いて所望の形状のプラズマを安定に生成することができ、さらに、様々な表面処理に用いることができるプラズマ装置を提供する。
【解決手段】噴出口を介して外部と連通されたプラズマ発生室と、前記プラズマ発生室内にプラズマを発生可能な少なくとも１つのプラズマ源６とを備え、前記プラズマ発生室内に発生させたプラズマを前記噴出口から噴出させるプラズマ装置であって、プラズマ源６は、放電部１３を形成する間隙部を以て対向配置された一対の電極９、１０を備え、放電部１３には、放電方向Ｂと角度を持った気流方向Ｃのプラズマガスが供給されるように形成される。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れるスチレン系重合体を、汎用の重合開始剤などを用いて重合を行なうことにより、簡単に製造できる方法の提供。
【解決手段】下記の一般式（Ｉ）；


（式中、Ｒ¹は多環構造を有する脂環式炭化水素基、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基またはアリール基を示す。）で表されるスチレン系誘導体（Ｉ）の単独および共重合体を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】積層ゴムに生じるねじれ変形を低減する又は無くす。
【解決手段】上部連結手段２０により上部板１８を上部構造体１４の下部に回転可能に連結し、下部連結手段２４により下部板２２を下部構造体１２の上部に回転可能連結する。よって、積層ゴム本体１６に生じるねじれ変形を低減する又は無くすことができる。 （もっと読む）

【課題】エッジマグネトプラズモンの電荷密度を増大させ、次段のエッジチャネル高周波素子に直接に接続することを可能にする。
【解決手段】高周波素子は、二次元電子４の伝導層を含む半導体積層構造３と、二次元電子伝導層の一端に相当する半導体積層構造３の端部に形成された複数の電極７，８とを備える。高周波素子は、二次元電子伝導層に磁場Ｂが印加されることにより、二次元電子伝導層の端に沿ってエッジチャネル９を形成し、複数の電極７，８に電圧が印加されることにより、エッジチャネル９を伝搬するエッジマグネトプラズモンを生成する。 （もっと読む）

【課題】動画像・静止画像を現状のＬＣＤ等のディスプレイと同等の画質で表示することができ、且つ現状の電子ペーパーよりも低電圧でメモリー画像を表示することができる液晶表示素子を提供すること。
【解決手段】高分子物質を配向膜として形成した一対の電極付基板間に液晶材料が封入された構造を有し、温度及び電圧によって配向膜の表層部と液晶材料との配向を変化させて画像の表示を行うことを特徴とする液晶表示素子である。配向膜は、ポリマーブラシであるか、塗布膜であるか、または液晶材料中に一旦溶解もしくは分散させた高分子物質を基板表面に吸着させた膜であることが好ましい。 （もっと読む）