【課題】高い屈折率を有しながら室温では液体であることにより、容易に光学部材を形成することのできる新規な（メタ）アクリレート化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される（メタ）アクリレート化合物。
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【課題】高い屈折率、及び可視領域での高い透明性を同時に達成する、硫黄原子とトリアジン単位を含有する新規な重合体を提供する。
【解決手段】下記式（１）


で表される構造単位を有する重合体。 （もっと読む）

【課題】アルカリ性現像液による１工程の処理で非感光性ポリイミド層を含むパターンを形成し、これを加熱処理することによる耐熱性レリーフパターンの形成方法の提供。
【解決手段】基材の上にポリアミド酸からなる所定の下層（ＩＩ）の上にポジ型感光性組成物からなる所定の上層（Ｉ）が形成された上層（Ｉ）と下層（ＩＩ）から構成された感光性積層体を形成し、上層（Ｉ）をマスクを介して活性光線を照射して露光するか又は活性光線を直接描画して露光し、上層（Ｉ）の露光部をアルカリ水溶液で溶出又は除去することにより上層（Ｉ）のパターンを形成すると同時に、形成されたパターンをマスクとして該パターンの開口部に存在する下層（ＩＩ）を同一アルカリ水溶液で溶出又は除去し、そして得られたレリーフパターンを加熱して、硬化レリーフパターンを形成する工程を含む硬化レリーフパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】現在の位置が既に登録済みの場所であるか、未登録の場所であるかを認識することができる位置推定装置、位置推定方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】位置推定装置１は、入力画像から局所特徴量を抽出する特徴量抽出部１１と、各登録場所と局所特徴量が対応づけられて保存されているデータベースを参照し、入力画像と登録場所とのマッチングを求めるマッチング部１３と、マッチングが所定の閾値以上である場合に、選ばれた登録場所の近傍の登録場所を含めて類似度を算出する類似度算出部１５と、類似度が所定の閾値以上である場合に、当該入力画像が登録場所であると認定する登録場所認定部１７とを有する。 （もっと読む）

【課題】高価な白金や白金合金等の貴金属及びその合金を含まない、燃料電池用電極触媒等に好適な炭素材料を提供する。
【解決手段】５０モル％以上のアクリロニトリル成分と１モル％以上のビニル系ホウ酸類モノマー成分とを有するアクリロニトリル−ビニル系ホウ酸類モノマー共重合体１００質量部と、Ｆｅ^２＋、Ｃｏ^２＋、Ｃｕ^２＋及びＮｉ^２＋よりなる群から選ばれる金属イオンを含有する特定な金属フタロシアニン１〜１５０質量部とからなる重合体組成物を、不活性ガス雰囲気下、５００〜１，５００℃において焼成して得られる炭素材料。 （もっと読む）

【課題】動作不良や動作速度の低下の発生を従来よりも抑制できるナノワイヤトランジスタ及びその製造方法を提案する。
【解決手段】窒素が導入されたニッケルからなるニッケル層28をナノワイヤ５の周辺に形成して熱処理することにより、ナノワイヤ５に形成されたソース15及びドレイン16をシリサイド化させつつ、窒素によりゲート電極被覆領域ER1までシリサイド化されることを抑制できることから、従来よりもゲート電極被覆領域ER1にチャネル17を確保でき、かくして動作不良や動作速度の低下の発生を従来よりも抑制できる。 （もっと読む）

【課題】分子内に炭素−炭素二重結合やニトリル基等を有するＮＢＲ等の高分子材料を低温（例えば、２０℃〜２００℃）において架橋できる架橋剤、ＮＢＲ等の高分子材料がこの架橋剤により架橋されてなる架橋高分子材料及びこの架橋高分子材料の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】分子内にニトリルオキシドと反応する多重結合を有する高分子材料の架橋に用いられる架橋剤であって、芳香環の一つの水素原子がニトリルオキシド基で置換され、前記ニトリルオキシド基のオルト位にある水素原子の全てがニトリルオキシド基以外の置換基で置換された芳香族ニトリルオキシド誘導体構造を有し、二つの前記芳香族ニトリルオキシド誘導体構造が、オキシ基を二つ有するジオキシ構造の該二つのオキシ基、又は、カルボニル基を二つ有するジカルボニル構造の該二つのカルボニル基、にそれぞれ結合してなる二官能性ニトリルオキシドよりなる。 （もっと読む）

【課題】過度な酸化により生じるナノワイヤの断線を防止できるナノワイヤトランジスタ及びその製造方法を提案する。
【解決手段】配線形成シリコン層４を酸化させて極めて細いナノワイヤ11を形成する際、シリコン窒化膜20を配線形成シリコン層４の上部となるシリコン酸化薄膜23に予め形成しておき、シリコン窒化膜20によって配線形成シリコン層４の酸化を抑制させつつ、ソース電極形成部12とドレイン電極形成部13とナノワイヤ11とを配線形成シリコン層４に形成するようにした。このように、配線形成シリコン層４が過度に酸化されることをシリコン窒化膜20により抑制させることで、所望の領域のみ酸化させることができ、かくして、過度に酸化されることにより生じるナノワイヤ11の断線を防止できる。 （もっと読む）

【課題】試料のＸ線吸収差により、画像再構成に生じる放射状パターンのアーチファクトを低減する。
【解決手段】Ｘ線連続スペクトルを記憶し、単一スペクトルのＸ線投影データgを生成し、補正量を初期化し、Ｘ線投影データを補正量h、tで補正して撮影物に含む２つの物質のＸ線吸収係数のエネルギー依存性を考慮して撮影物に単一スペクトルのＸ線を照射した場合に相当する補正Ｘ線投影データg’を得、単一波長用画像再構成アルゴリズムを用いて逆投影演算してＣＴ画像を再構成し、各物質を区別する１つのしきい値TH1、TH2、…を用いてＣＴ画像から各物質の領域を抽出しこの領域のＸ線経路の長さを演算し、発生Ｘ線連続スペクトルのエネルギー、各物質の領域の長さ及び各物質のＸ線吸収係数を用いて連続スペクトルのＸ線投影データfを演算し、単一ペクトルのＸ線投影データgと連続スペクトルのＸ線投影データfとの差で補正量h、tを演算する。 （もっと読む）

【課題】ヒドリドを構造中に含む酸化物によって、固体中で高いイオン伝導を持つヒドリドイオン導電体を提供する。
【解決手段】一般式Ｌｎ_２−Ｘ Ｍ_ＸＡＨ_ｙＯ_３（式中、Ｌｎは３価の希土類元素、Ｍは４価のＣｅまたはアルカリ土類金属元素、ＡはＬｉまたはＮａを示す。Ｍが４価のＣｅであるとき、０＜ｘ＜０．２、ｙ＝１+ｘであり、そしてＭがアルカリ土類金属元素であるとき、０＜ｘ＜１、ｙ＝１−ｘである。）で示される組成を有してなるヒドリドイオン導電体。 （もっと読む）