国立大学法人東京工業大学により出願された特許
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金属内部への侵入水素量の測定方法および移動体の金属部位内部へ侵入する水素量のモニタリング方法
【課題】種々の条件の被覆が形成された金属内部への侵入水素量を正確に計測する。
【解決手段】被検体の片面を腐食環境に暴露し腐食反応により発生する水素の侵入面とし、該被検体の他面を水素検出面とし該検出面に拡散してくる水素の流束をアノード電流として測定するに際し、該被検体の水素検出面側に、複数のセル群で構成された電気化学セルを配置し、該セル群の個々のセルの内部にはpHが9〜13の電解質水溶液を充填すると共に、それぞれ独立した参照電極と対極を設置し、また該セル群のうち少なくとも一つのセルを残余電流を補正するための基準セルとし、該基準セルの水素侵入面側に対応する箇所には腐食環境との接触を遮断する保護膜を設け、該基準セル以外のセルで検出したアノード電流値を、該基準セルで検出した残余電流値により補正し、この補正したアノード電流値に基づいて腐食面側からの侵入水素量を算出する。
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窒素含有炭素材料、その製造方法及び燃料電池用電極
【課題】従来の窒素含有炭素材料と比較して、電極反応において高い酸素還元活性を有する窒素含有炭素材料の製造方法を提供する。
【解決手段】アズルミン酸と遷移金属とを含む窒素含有炭素材料のプレカーサーを炭化する工程を有し、前記工程が、前記プレカーサーに第1の熱処理を施す第1の工程と、前記第1の熱処理を施された前記プレカーサーから前記遷移金属の少なくとも一部を除去する第2の工程と、前記遷移金属の少なくとも一部が除去された前記プレカーサーに第2の熱処理を施す第3の工程と、を有する窒素含有炭素材料の製造方法。
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半導体基材およびその製造方法
【課題】簡便な方法で、結晶化部分を有する半導体基材を得る。
【解決手段】ベース基材と;該ベース基材上に配置された、アモルファス半導体材料由来の結晶性半導体層とを少なくとも含む半導体基材。結晶性半導体層の表面近傍において、SIMSによりGeが検出可能である。
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リチウムイオン電池用負極材およびそれを用いたリチウムイオン二次電池
【課題】高可逆容量のリチウムイオン電池用負極材およびそれを用いたリチウムイオン二次電池を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブからなり、該カーボンナノチューブは、側壁に側壁を貫通していてもよい細孔を有し、その細孔は0.1nm〜30nmの範囲の細孔径分布を有し、かつBET比表面積が100〜4,000m2/gである、リチウムイオン電池用負極材。
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テトラフルオロエチレンの製造方法
【課題】多段階の工程を経ることなくTFEを得ることができ、かつ副生成物が少なく、環境に配慮したTFEの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、平均粒子径が50μm以下のCaF2粉末とCとを、誘導結合型熱プラズマ中に同時に供給し、前記熱プラズマ中でフッ化炭素のラジカルを生成する工程と、前記ラジカルを急冷する工程とを有するTFEの製造方法を提供する。また、CaF2粉末とC粉末とを、CaF2粉末の単位時間当たりの供給量が、この供給量と前記C粉末の単位時間当たりの供給量との合計に対して9モル%〜35モル%の割合となるように、誘導結合型熱プラズマ中に同時に供給し、前記熱プラズマ中でフッ化炭素のラジカルを生成する工程と、前記ラジカルを急冷する工程とを有するTFEの製造方法を提供する。
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炭化水素接触分解用触媒の製造方法、芳香族炭化水素および/または炭素数4以下のオレフィンの製造方法、および炭化水素接触分解用触媒
【課題】炭化水素接触分解用触媒の耐スチーム性を向上させて、芳香族炭化水素および/または炭素数4以下のオレフィンの収率を高める技術を提供する
【解決手段】炭化水素接触分解用触媒の製造方法は、下記工程(1)および下記工程(2)を含む。
工程(1):ゼオライトと水溶性のアルミニウム含有化合物と水とを混合し、ゼオライトにアルミニウムを担持させてなる触媒前駆体を得る工程
工程(2):前記触媒前駆体と水溶性のリン含有化合物と水とを混合し、前記触媒前駆体にリンを担持させてなる炭化水素接触分解用触媒を得る工程
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有機半導体材料
【課題】半導体材料として優れた特性を有し、且つ、高い電荷注入促進機能を併せて有する分子配向系材料を提供する。
【解決手段】芳香族環を構造の少なくとも一部に含む、π−電子共役系からなる電荷輸送性分子ユニットAと;該分子ユニットAに結合した、OH基を有する側鎖Sを少なくとも1個有する有機半導体材料。所定のセル内に、該有機半導体材料を配置した際に、動作温度において、105V/cmの電界強度で10−5A/cm2以上の電流密度を与える。
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波長選択性多モード干渉導波路デバイス
【課題】波長選択機能を有する多モード干渉導波路デバイスを得る。
【解決手段】波長選択性多モード干渉導波路デバイス(10)は、多モード干渉導波路部(3)と、多モード干渉導波路部(3)の一端の中心に接続される第1の導波路(1)と、多モード干渉導波路部(3)の一端に対向する他端の中心に接続される第2の導波路(2)とを備え、第1の導波路(1)から入射し多モード干渉導波路部(3)を伝搬して第2の導波路(2)に出射する光波であって、所定の波長を有する光波の透過率が、多モード干渉導波路部(3)と第2の導波路(2)との接続部において当該デバイスの使用目的によって決まる要求仕様を満たすように、多モード干渉導波路部(3)の幅及び長さが決定されている。
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電気伝導性を有するC12A7系酸化物融液又はガラス材料及びそれらの製造方法
【課題】ガラス基板やプラスチック基板上に薄膜を低温で大面積で形成できるなどの有用性も期待できる、低い仕事関数を持ちながら導電性を有し、かつ非晶質である酸化物材料を提供する。
【解決手段】C12A7系酸化物の組成を有し、電子濃度2×1018/cm3以上2.3×1021/cm3以下を包接する、C12A7系酸化物を溶媒とし電子を溶質とする溶媒和からなる融液であり、金属的な電気伝導性を示す導電性酸化物融液、あるいは非晶質固体物質であり、また半導体的な電気伝導性を示す導電性酸化物ガラス。このガラス材料は、仕事関数が3.0〜4.1eVであり、上記融液を酸素分圧1Pa以下の還元雰囲気中で非晶質の固体が形成される冷却速度で冷却凝固することにより得られる。
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電子放出源および薄膜成長用基板
【課題】低仕事関数を有し、化学的に安定な電子放出源を提供する。
【解決手段】SrTiO3バッファ層10は、Sr2+O2−層12と、Ti4+O24−層14が積層されて形成される。バッファ層10の表層は、Ti4+O24−層14にて終端されている。バッファ層10の上には、LaAlO3薄膜層20が形成される。薄膜層20は、SrTiO3バッファ層10上に、順に交互に積層されたLa3+O2−層22およびAl3+O24−層24を含む。
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