【課題】位置合わせミスによる擬似欠陥の発生を抑制し、効率の良い検査を行うこと。
【解決手段】試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像と基準画像とを比較して差異が閾値を超えたら欠陥と判定する比較部とを備える、試料検査装置において、測定画像と基準画像の一定エリアのエリア画像を切り出し、エリア画像同士の位置ずれ量を測定し、エリア画像同士の位置ずれ量の信頼度を示す信頼度情報を求める位置ずれ測定部と、信頼度情報と位置ずれ量を利用してエリア画像同士の位置合わせを行う位置合わせ部と、を備える試料検査装置。 （もっと読む）

【目的】擬似欠陥を低減させるパターン検査を行う装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査装置１００は、パターン形成されたフォトマスク１０１における光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、パターンの設計データを画像データに展開して展開画像データを生成する展開回路１１１と、展開画像データに対してひずみ処理を行い、ひずみ画像データを生成するひずみ画像生成回路１４０と、画素毎に、展開画像データとひずみ画像データとの差異を示す非類似指数を算出する非類似指数算出回路１４２と、展開画像データに対してデータ処理を行い、光学画像データと比較するための基準画像データを生成する基準画像生成回路１１２と、画素毎に、非類似指数に応じた判定条件で、光学画像データと基準画像データとを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】レーザー干渉計による位置測長部位がＸＹ方向に運動するＸＹステージにおいて、空気揺らぎと気圧、温度、湿度を含めた環境の変化による測長誤差を補正できるＸＹステージ装置を提供する。
【構成】ＸＹ方向に移動するステージと、このステージの位置を測長するためのレーザー干渉計と、このステージとレーザー干渉計間の測長光路の少なくとも一部を覆う測長光路筒機構と、測長光路筒機構内に設けられた波長トラッカーと、を有することを特徴とするＸＹステージ装置。そして、測長光路筒機構が、レーザー干渉計に固定される固定筒と、ステージの移動と連動して運動する可動筒とを備えることが望ましい。 （もっと読む）

【目的】結像光学系における空気揺らぎを抑制し、検査精度を向上させるパターン検査装置およびパターン検査方法を提供する。
【構成】被検査試料に形成されたパターンを検査するパターン検査装置であって、ダウンフロー機構を有するチャンバと、チャンバ内に設けられる光源と、チャンバ内に設けられ、光源から射出される検査光を被検査試料に照射する照明光学系と、チャンバ内に設けられ、防風カバーで覆われ、被検査試料に照射された検査光を光学像として結像させる結像光学系と、チャンバ内に設けられ、光学像を取得する検出センサを備え、結像光学系内に、光学部品を移動するために、静止時電流を動作時電流より低減可能なステッピングモータを有することを特徴とするパターン検査装置。 （もっと読む）

【目的】検査時間の増大を抑制しつつ、検査精度を向上させるパターン検査装置を提供する。
【構成】被検査試料のパターン面に形成されたパターンを検査するパターン検査装置であって、光源と、パターン面のフーリエ変換面に設けられ光源から射出された光線を異なる形状および方向を有する第１および第２の照明光に分割する機能を備える光学素子を有し、第１および第２の照明光によりパターン面の第１および第２のパターン領域をそれぞれ異なる照明条件で照明する照明光学系と、第１および第２のパターン領域を照明した第１および第２の照明光を透過する対物レンズと、第１および第２の検出センサと、対物レンズを透過した第１および第２の照明光をそれぞれ第１および第２の検出センサに結像する第１および第２の結像光学系とを備えることを特徴とするパターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】検査対象試料に形成されるパターンの依存性が低減される自動焦点調節機構及びこの自動焦点調節機構を備える光学画像取得装置を提供する。
【解決手段】自動焦点調節機構においては、パターンが形成された検査対象試料１０が載置部１２に載置され、検査対象試料１０のパターン形成面に視野絞り１６に形成されたスリット２０を通過した観察用光ビームが照射される。反射して生じた反射光ビームが分岐される。分岐された反射光ビームの夫々の光路上には、略菱形状の開口２６が形成された焦点調整用開口絞り２４Ａ，２４Ｂが配置されている。略菱形状の開口２６を通過した夫々の反射光ビームの光量が焦点調整用受光器２８Ａ，２８Ｂで検出される。検出された検出光量の差に基づいて載置部１２の位置が焦点調節装置３６によって制御される。 （もっと読む）

【目的】一時的に発生する測定画像の偽像を排除できるパターン検査を行うこと。
【構成】試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像と基準画像とを比較する比較部と、を備え、測定画像生成部は、２画素以上で構成されるラインセンサを２段以上用いた時間遅延積分センサを２個以上つなげた受光装置を有し、各時間遅延積分センサの画素について、異常な画素値を除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値の平均値と所定値の和を基準値とし、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値と、全ての時間遅延積分センサの画素値の平均値との差の絶対値が基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、試料検査装置。 （もっと読む）

【目的】波長変換に用いる非線形結晶の寿命を長くすることが可能な波長変換光源装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の波長変換光源装置１００は、基本波２０を発生する基本波光源１０と、基本波２０の照射を受けて前記基本波２０を通過させ、前記基本波２０の波長を変換する非線形結晶１４と、前記非線形結晶１４が配置され、前記非線形結晶１４中を通過する前記基本波２０の通過経路が変更されるように、前記非線形結晶１４を位相整合条件が乱されない平面内で連続移動させるｙ軸ステージ３０及びｘ軸ステージ３４と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザー干渉計による位置測長部位がＸＹ方向に運動するＸＹステージにおいて、レーザー干渉計の測長光路を十分に覆う測長光路筒機構を備えることで空気揺らぎによる測長誤差を低減できるＸＹステージ装置を提供する。
【解決手段】ＸＹ方向に移動するステージと、ステージの位置を測長するためのレーザー干渉計と、ステージとレーザー干渉計間の測長光路の少なくとも一部を覆い、測長光路のレーザー干渉計側に設けられ、レーザー干渉計に固定される固定筒と、測長光路の少なくとも一部を覆い、測長光路のステージ側に設けられ、ステージの移動と連動して運動する可動筒とを備える測長光路筒機構を有し、固定筒または可動筒の一方の端部が他方の端部に挿入されることを特徴とするＸＹステージ装置。 （もっと読む）

【目的】ノイズの影響による誤検出を抑制し、フォトマスク上のゴミ等の異物を高感度で検出するフォトマスク検査方法を提供する。
【構成】異なる層構造を有する領域を表面に備えるフォトマスクの画像データを取得し、この領域の階調値データから画像データを引き算して反転画像データを作成し、反転画像データの画素値を一定量底上げした底上げ反転画像データを作成し、底上げ反転画像データと底上げしたガウシアン分布型カーネルとの正規化相関を取ることにより正規化相関画像データを作成し、正規化相関画像データと所定の閾値との比較により異物を検出することを特徴とするフォトマスク検査方法。 （もっと読む）