【課題】シングルモードの空胴共振器を使用したマイクロ波装置に関し、被処理液の流量を多くして均一に効率良く処理可能にする。
【解決手段】被処理液とは異なる誘電率を有すると共に被処理液の流れを乱す障害手段６３を収容してあり、照射室内に生じる電界方向に対し軸線を沿わせて、空胴共振器の照射室に設置される流通管６０を提案する。この流通管をマイクロ波装置の照射室に設置すると、被処理液を流す流通管内において電界分布が一様ではなくなり、被処理液に吸収されるマイクロ波が抑制され、Ｑの低下が抑えられて同調が外れにくくなるので、被処理液の流量を増やすことができる。 （もっと読む）

【課題】シングルモードの空胴共振器を使用したマイクロ波装置に関し、被処理物の流量を多くして均一に効率良く処理可能にする。
【解決手段】底面が正方形且つ側面が長方形の正四角柱状空胴の照射室１２と、照射室側面を形成する側面壁１５に設けられ、照射室１２の中心軸Ｃと平行に長軸が伸延する矩形開口のアイリスと、を有する空胴共振器１０を含んだマイクロ波装置とする。その空胴共振器１０は、アイリスから照射室１２内にマイクロ波が導入されるシングルモードの空胴共振器である。照射室１２内において、被処理物を流動させる流通路６０を、中心軸Ｃを取り巻いて伸延する螺旋状に設けてあり、そして、照射室底面（１３，１４）のなす正方形の１辺が、照射室１２に導入するマイクロ波の波長の７５％以下に設計される。 （もっと読む）

【課題】複数の試料を均一に加熱できる仕組みのマイクロ波照射装置を提案する。
【解決手段】本提案に係るマイクロ波照射装置は、Ｘ軸辺の長さがａ（ａ＞０）、Ｙ軸辺の長さがｂ（ｂ＞０）、Ｚ軸辺の長さがｃ（ｃ＞０）であるＴＭ１１０モードの直方体共振空胴とした照射室４と、照射室４を構成するＹ−Ｚ面壁４ｅに設けられ、Ｚ軸方向へ伸延するスリット４ｇと、スリット４ｇから照射室４に挿入され、照射室４のＸ−Ｚ面に沿ってＹ−Ｚ面壁４ｆまで伸延する下敷７と、Ｘ軸方向へ移動可能にして下敷７上に載置され、スリット４ｇを通して照射室４に進入可能で且つ照射室４に進入したときに所定の位置で停留する搬送位置決め治具９と、搬送位置決め治具９に設けられたホルダ保持部に保持される試料ホルダ１０と、を含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】多数の試料を均一処理することができ、必要に応じ連続処理も行えるようなマイクロ波照射装置を提案する。
【解決手段】本発明によるマイクロ波照射装置は、Ｘ軸辺の長さがａ（ａ＞０）、Ｙ軸辺の長さがｂ（ｂ＞０）、Ｚ軸辺の長さがｃ（ｃ＞０）であるＴＭ（Transverse Magnetic）１１０モードの方形共振空洞とした照射室１０と、この照射室１０のＹ−Ｚ面壁１１，１２に設けたスリット１３，１４と、該スリット１３，１４を通して照射室１０に進入し、照射室１０内のＸ−Ｚ面に従って移動可能な搬送シート２０と、この搬送シート２０に設けた試料ホルダ２１と、を含んで構成される。 （もっと読む）