【課題】表面荒れ、ブリッジ欠陥、または未解像などの不具合が無い、微細なネガ型フォトレジストパターンを形成できる組成物と、それを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】化学増幅型レジスト組成物を用いてネガ型レジストパターンを形成させる方法において、レジストパターンを太らせることによってパターンを微細化するために用いられる微細パターン形成用組成物であって、繰り返し単位中に、
【化１】


のいずれかの構造を含むポリマーと、溶剤とを含んでなる組成物。有機溶剤現像液で現像して得られるネガ型フォトレジストパターンにその組成物を塗布し、加熱することによって、微細なパターンを形成させる。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターンの耐熱性を向上させる、レジストパターンの表面処理方法およびそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】現像済みフォトレジストパターン表面に酸素を含む雰囲気下でプラズマ処理を施し、前記フォトレジストパターン表面にオキサゾリン骨格などを含む架橋性基を含有するポリマーを含む被覆層形成用組成物を接触させることを含んでなる、現像済みフォトレジストパターンの処理方法。 （もっと読む）

【課題】酸化タングステン膜を水性溶液から形成させるための組成物およびそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】水溶性メタタングステン酸塩と、アニオン性ポリマー、ノニオン性ポリマー、アニオン性界面活性剤、および３級アミノ基含有ノニオン性界面活性剤から選ばれる少なくとも一種の添加剤と、水とを含んでなる酸化タングステン膜形成用組成物。画像反転三層構造、レジスト層膜、またはレジスト上層保護膜を用いたパターン形成方法において用いられる二酸化ケイ素膜形成用組成物の代わりに、前記酸化タングステン膜形成用組成物を用いてパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】高いエッチング耐性を有するレジストパターンを形成させることのできる微細パターン形成用組成物、およびそれを用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に芳香族含有置換基を有する水溶性樹脂と純水とを含む微細パターン形成用組成物。この組成物は、水溶性樹脂に結合した酸基を含むか、または組成物中に遊離の酸を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスに優れた微細なパターンを簡便かつ高い量産性で製造できる微細パターン形成用の樹脂組成物と微細パターン形成方法の提供。
【解決手段】ポリシラザンまたはポリシルセスキオキサンとからなる群から選択されるケイ素含有ポリマーと、ポリスチレンなどのケイ素非含有有機ポリマーと、それらを溶解し得る溶媒とを含んでなる樹脂組成物。また、本発明により微細パターンの形成方法は、被加工膜上に、第一の凸パターンを形成させ、その凸パターンの凸部側壁に前記樹脂組成物から形成されたスペーサーを形成させて、そのスペーサー、またはスペーサーの周りに配置された樹脂層をマスクとして微細パターンを形成させるものである。 （もっと読む）

【課題】アルカリ可溶性および感度に優れた感光性シロキサン樹脂組成物とそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】シラノール基またはアルコキシシリル基を有するシロキサン樹脂と、クラウンエーテルと、感光剤と、有機溶剤とを含んでなる感光性シロキサン樹脂組成物。この感光性組成物を基材上に塗布し、像様露光し、アルカリ水溶液で処理し、焼成することによりパターンを形成させる。 （もっと読む）

【課題】経時劣化による増粘がなく、塗布性に優れた塗布組成物と、それを用いたが硬化膜の形成方法の提供。
【解決手段】本発明によれば、シラノール基またはアルコキシシリル基を有するシロキサン樹脂と、エーテル結合を有していてよい、炭素数２〜５の直鎖炭化水素鎖の両末端に水酸基を有するポリオールとを含んでなることを特徴とする、塗布組成物が提供される。この塗布組成物を用いることで、透明性および絶縁性が高く、比誘電率の低い硬化膜を形成させることができる。 （もっと読む）

【課題】従来製品と同等以上の成膜性、屈折率、経時安定性、および安全性を有する、上面反射防止膜形成用組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）：−Ａｘ−Ｂｙ−（１）（式中、Ａは下記一般式（Ａ）：


で表される、重量平均分子量が３００，０００〜８００，０００であるフッ素含有ポリマーと、炭素数１０〜１８のアルキルスルホン酸と、溶媒と、を含んでなる上面反射防止膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れ、表面粗さ、および表面欠陥を改良することができる、リソグラフィー用リンス液とそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくともスルホン酸と、アルキレンオキシ基を有する非イオン性界面活性剤と、水とを含むリソグラフィー用リンス液と、それを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】単層でも優れた反射防止機能を有し、且つ、環境に影響を与えない、低屈折率膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）無機ポリシラザンおよび（Ｂ）シラザン含有有機重合体、シロキサザン含有有機重合体、ウレアシラザン含有有機重合体から選ばれる少なくとも１種の有機重合体を含み、（Ａ）：（Ｂ）の重量比が４０：６０〜１７：８３であることを特徴とする低屈折率膜形成用組成物。 （もっと読む）