【課題】比較的簡単な操作でかつ工業的に有利にTAAH含有廃液を再生処理し、高純度のTAAH水溶液を効率良く製品として回収することができるTAAH含有廃液の再生処理方法を提供する。
【解決手段】水酸化テトラアルキルアンモニウム(TAAH)含有廃液の中和工程１と、この中和工程で得られた中和処理液を、陽イオン交換膜４で陽極室５と陰極室６とに区画された電解槽２で電気分解する電解工程とを有し、電解槽の陰極室側から高純度の製品TAAH水溶液を回収するTAAH含有廃液の処理方法であり、中和処理液の濁度（JIS K0101測定法）を５０００ppm以下に管理すると共に、陽極室内を循環する陽極循環液の流速（線速度）を１．５×１０^-3〜２５×１０^-3m/秒の範囲内に維持し、また、陰極室側からTAAH濃度１５〜３０質量%の製品TAAH水溶液を回収する水酸化テトラアルキルアンモニウム含有廃液の再生処理方法。 （もっと読む）

【課題】テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＡＡＨ）含有現像廃液を膜分離処理することにより、該廃液中の不純物を除去してＴＡＡＨを回収する装置で用いられる分離膜を短時間で効率的に洗浄する。
【解決手段】膜分離処理に用いた分離膜をＴＡＡＨ溶液で洗浄するＴＡＡＨ回収装置の洗浄方法。ＴＡＡＨ溶液のｐＨは１２以上であることが好ましい。ＴＡＡＨ溶液を用いて洗浄することにより、分離膜を効率的に洗浄すると共に、押し出し洗浄工程を短縮することができ、結果として膜の洗浄工程に要する時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト剥離物とテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＡＡＨ）とを含む現像廃液を安定かつ効率的に再生処理する。
【解決手段】レジスト剥離物とＴＡＡＨとを含有する現像廃液をｐＨ８〜１２に調整した後、ＭＦ膜モジュール４で膜分離処理し、濃縮水を循環処理するに当たり、濃縮水に無機凝集剤及び／又は高分子凝集剤を添加して凝集・固液分離処理し、分離水をＭＦ膜モジュール４の一次側に返送して膜分離処理する。現像廃液を膜分離処理するに当たり、膜供給水ではなく、膜分離処理で得られた濃縮水に凝集剤を添加して凝集・固液分離処理し、得られた分離水を膜の一次側に返送して現像廃液と共に膜分離処理することにより、凝集剤使用量を低減すると共に、凝集・固液分離のための設備を小型化した上で、膜の濁質負荷を軽減し、安定かつ効率的な処理を行える。 （もっと読む）

【課題】レジスト剥離物とテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＡＡＨ）とを含む現像廃液を長期に亘り安定かつ効率的に再生処理する。
【解決手段】レジスト剥離物とＴＡＡＨとを含有する現像廃液に酸を添加してｐＨ８〜９．５に調整した後、ＭＦ膜モジュール１で膜分離処理し、透過液を分画分子量２００〜９００のナノフィルトレーション（ＮＦ）膜モジュール２により通液温度４０〜８０℃で膜分離処理し、透過液を活性炭塔３で処理する。ＮＦ膜の通液温度を４０〜８０℃とすることにより、被処理液の粘性を下げ、操作圧力を抑えて透過液量を高める。ＮＦ膜の透過液量を高めると、ＮＦ膜の透過液側にレジスト剥離物がリークするが、このレジスト剥離物は後段の活性炭処理で除去することができ、ＴＡＡＨ純度の高い再生液を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト剥離物とテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＡＡＨ）とを含む現像廃液を処理してレジスト成分を高度に除去した高純度のＴＡＡＨ再生液を得る。
【解決手段】レジスト剥離物とＴＡＡＨとを含有する現像廃液をｐＨ８〜１２に調整してＭＦ膜モジュール１で膜分離処理し、透過水をナノフィルトレーション（ＮＦ）膜モジュール２により膜分離処理する。ＮＦ膜として、膜表面がゼータ電位−５０ｍＶ以下に負に大きく帯電したものを用いることにより、負に帯電しているレジスト剥離物を効果的に除去して高純度のＴＡＡＨ再生液を得る。 （もっと読む）

【課題】光触媒活性を持つ酸化チタン粒子が分散安定性に優れており、また、環境に負荷を与えずに取扱い性に優れており、しかも、基材の表面に塗布してこの基材の表面に光触媒活性（防汚性及び／又は抗菌性）、透明性、及び耐久性に優れた光触媒コーティング塗膜を形成することができる均一安定性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて製造される光触媒活性複合材を提供する。
【解決手段】水系溶剤中に平均一次粒径５〜５０nm及び平均分散粒径１０〜１００nmの酸化チタン分散粒子と、高分子分散剤と、アルコキシシラン加水分解重縮合物と、有機アミン類と、更に必要により銀粒子とを含む組成物であり、ｐＨ値がｐＨ５〜９の範囲内の均一分散性光触媒コーティング液であり、また、その製造方法であり、また、これを基材の表面に塗布して製造される表面防汚及び抗菌性を有する光触媒活性複合材である。 （もっと読む）

【課題】イオン交換樹脂による脱アルカリ処理の必要がなく、しかも、必要な場合には高純度であって酸性で安定なコロイダルシリカを容易にかつ安価に製造することができる酸性で安定なコロイダルシリカの製造方法を提供する。
【解決手段】コロイダルシリカと有機酸アルミニウムとを、これらシリカ（SiO₂）に換算されたコロイダルシリカとアルミナ（Al₂O₃）に換算された有機酸アルミニウムとがAl₂O₃／SiO₂モル比５×１０^-7以上となるように混合し、加熱温度１００℃以上及び加熱時間０．５時間以上の処理条件で加熱処理する、酸性で安定なコロイダルシリカの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】酸処理やイオン交換処理等の特別な後処理をする必要がなく、また、アルカリ金属を始めとして金属不純物含有量が極めて少ないｐＨ５〜８の中性コロイダルシリカを容易に製造することができる中性コロイダルシリカの製造方法を提供する。
【解決手段】オルガノシリケートとして易加水分解性オルガノシリケートを用い、また、加水分解触媒として特定の加水分解触媒を用い、この加水分解触媒を、少なくとも反応終了時の反応混合物中におけるシリカ（Ｂ）に対する加水分解触媒（Ａ）の割合｛触媒残存モル比（Ａ／Ｂ）｝が０．０１２以下となるように、添加して反応させ、酸処理及びイオン交換処理を行うことなくｐＨ５〜８の中性コロイダルシリカを製造する方法である。 （もっと読む）

【課題】 瓦自体の表面にコーティングされてこの瓦に優れた非透水性能を発現せしめることができると共に環境に優しい瓦用コーティング剤組成物を提供する。
【解決手段】 瓦の表面に塗付してこの瓦に非透水性能を付与するためのコーティング剤組成物であり、水性媒体中に、所定のアルキルトリアルコキシシラン（モノアルキル置換体）と、所定のジアルキルジアルコキシシラン（ジアルキル置換体）とを水及び加水分解触媒の存在下に重量比（モノアルキル体／ジアルキル体）３０／７０〜７０／３０の割合で共縮合させて得られるオルガノシロキサン共重合体（成分Ａ）０．０１〜０．１重量%と、光触媒活性を有する平均粒子径５００nm以下の金属酸化物（成分Ｂ）０．００５〜０．５重量%と、所定のテトラアルキルアンモニウムハイドライドからなる分散安定剤（成分Ｃ）０．０１〜０．５重量%とを含有する、瓦用コーティング剤組成物である。 （もっと読む）

【課題】 陽イオン交換膜を隔膜として用いた電解槽で第四アンモニウムの無機酸塩を電解して高純度の水酸化第四アンモニウムを製造する上で、耐蝕性及び耐久性に優れて長期に亘って使用することができ、しかも電力消費量が低減できて工業的にコストをかけずに高純度の水酸化第四アンモニウムを製造することができる電解用電極を提供する。
【解決手段】 陽イオン交換膜を隔膜として用いた電解槽で第四アンモニウムの無機酸塩を電解して水酸化第四アンモニウムを製造する際に用いる電解用電極であって、導電性金属からなる電極基体が電極活性物質を含んだ電極活性層で被覆されており、この電極基体と電極活性層との間にＩｎ、Ｉｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｒｕ及びＮｂから選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物とＳｎの酸化物との混合酸化物からなる中間層を設けたことを特徴とする電解用電極である。 （もっと読む）