【課題】 メンテナンス時に、光触媒フィルタをその装着箇所から外すことなく（装着したままで）洗浄してその能力を回復させることができると共に、簡単な構成で実現できる光触媒装置を提供する。
【解決手段】 略垂直方向に装着された光触媒フィルタ３０を含む、略平板状の光触媒フィルタ・モジュール２０と、光触媒フィルタ３０の上方でモジュール２０に固定された、スリットを持つ洗浄水供給管３１と、光触媒フィルタ３０の下方でモジュール２０に設けられた、排水口２１ａ及び蓋部材を持つ洗浄水貯留部３２とを備える。洗浄水供給管３１に外部から洗浄水Ｗを供給すると、洗浄水Ｗは前記スリットから光触媒フィルタ３０に沿って流動して洗浄水貯留部３２に一時的に貯留される。洗浄水Ｗが所定量に達すると、前記蓋部材が開いて排水口２１ａから外部に排出される。 （もっと読む）

【課題】 光触媒フィルタ・ユニットや光源ユニットが大型化した場合でも、光触媒フィルタや光源の点検、洗浄、交換といったメンテナンス作業を容易に行うことができ、構造が簡単で低コストで実現可能な光触媒装置を提供する。
【解決手段】 光触媒フィルタ３０と、それを活性化するためのブラックライト２７を含む略平板状の光触媒フィルタ・モジュール２０を複数個、ガス流方向にほぼ直交させて相互に隣接配置して構成された光触媒フィルタ・モジュール群２０Ｂと、モジュール群２０Ｂのモジュール２０をガス流方向への独立した並進移動が可能な状態で支持するモジュール支持構造（１２、２４）とを設ける。モジュール群２０Ｂのガス導入端側またはガス排出端側に待機用スペースＳ１を形成する。モジュール２０を適宜、待機用スペースＳ１に並進移動させることで、メンテナンス用スペースＳ２を形成する。 （もっと読む）

【課題】 光触媒セラミックスフィルターを用いた空気清浄機において、空気清浄機に組み込まれた光触媒セラミックスフィルターを取り外すことなく光触媒セラミックスフィルターの汚れ成分を除去する方法を提供する。
【解決手段】 光触媒セラミックスフィルターを用いた空気清浄機において、光触媒セラミックスフィルターの付着した汚れ成分を除去するため、空気清浄機に組み込まれた光触媒セラミックスフィルターを取り外すことなく、精製水を用いて水洗浄を行い乾燥させることによる、簡単な光触媒セラミックスフィルターの汚れ成分の除去を行う。 （もっと読む）

【課題】 一枚のシリコンウェーハ中の不純物を外部からの汚染を招来することなく、極めて高感度で、短時間に分析しうるシリコンウェーハの金属不純物の分析方法であって、１枚のシリコンウェーハ表面の任意の箇所での任意の深さにおける金属不純物を測定する為の前処理方法を提供する。
【解決手段】 １枚の洗浄済みシリコンウェーハ表面に、任意の測定個所に白金の針を垂直に立て、針の先にエッチング液を滴下してから電圧をかけることによりシリコンウェーハに垂直の孔をあけて、その孔の中のエッチング液を回収して、該回収エッチング液を定容して各種微量成分分析装置により分析することで対応する。 （もっと読む）

【課題】 寝たきり病人、病院入院患者などのおしめ交換の汚物臭は臭気成分が高濃度で処理が難しい。これら臭気処理及びおしめ交換時の周辺への臭気拡散を防止する。ホスピスなどでの入院患者のベット周辺の臭気処理を行う可動式臭気処理装置に関する。
【解決手段】 高濃度臭気成分が周囲へ拡散しないように軽くてやわらかい幌で囲い空気通路をもうけてバッテリーで稼動する循環用送風機で幌内部に空気を送り幌を膨らませると同時に循環させる臭気拡散防止工程と、空気通路に硫酸基を付与したアンモニア吸着用天然ゼオライトを用いた多孔質フィルターと光触媒酸化チタンを用いた多孔質フィルターとこれを励起させるための紫外線ランプより構成された脱臭処理工程とを組み合わせたキャスター付の可搬式を特徴とした臭気処理で対応する。 （もっと読む）

【課題】アンモニアを選択的に除去する可能性がある吸着材としては特定の構造のゼオライトが挙げられるが、吸着力と吸着容量が必ずしも十分でない。そこで、これらゼオライトを修飾して吸着能を向上させ、吸着力を強化しかつ吸着容量を大きくして、さらにアンモニアの選択吸着性を持たせる方法を提供する。
【解決手段】気体のアンモニアを選択的に吸着するゼオライトを選び、ゼオライトの表面をアンモニアと結合しやすいリン酸や硫酸などの化合物で、表面修飾を行い、リン酸基や硫酸基化する。これにより、ゼオライトの細孔と硫酸基の双方によるアンモニアの吸着が行われ、吸着力の向上と吸着容量の増加が行われる。こうした新たなアンモニア吸着材をフィルターに担持することにより、直接、気体のアンモニアを吸着除去する安価な材料を供給することができる。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの片面を保護して他の片面をエッチングまたはリンス処理を行うエッチング処理方法およびその装置を提供する。
【解決手段】基板のウェーハデバイス面を保護するため、界面部を純水で保護しながら、基板の界面部全般に純水による表面張力が均質にかかるように、純水受け皿底面を円錐状に加工し、円錐状の端面を基板の円周の内側とし、その外側は基板とフラットとの間に狭い隙間を形成させ、対向して複数にチャック止めされた基板と基板保護用純水の円錐状受け皿は設定された回転数で同軸により回転させ、純水の表面張力と回転による遠心速度をバランスさせることで、裏面エッチッグ液またはリンス水が下面に回り込まないようにして、下面になっているウェーハデバイス面のコンタミネーションを防止する。これら基板の乾燥はこの純水をクリーン窒素ガスに置換して基板の両面が乾燥するまで回転させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 スピンコ−タ−カップ、半導体ウェハ、液晶ガラスなどに付着したレジスト及びレジスト被膜、油膜、塗料及び塗膜等の有機成分及び有機被膜を、短時間で除去すると共に、洗浄液を多数回繰り返し洗浄できる生産性・経済性の優れた洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】洗浄室内に被洗浄物を保持する保持カゴを回転可能に自立させ、更に洗浄液噴射用、すすぎ液噴射用及び乾燥用を共有するノズルを有するノズルヘッダーを回転可能に配設して、保持カゴとノズルヘッダーとの回転方向が双方対向するように設置して、被洗浄物を炭酸アルキレンによる洗浄後エアーで液切りさせた後、精製水によるすすぎを行って、エアー噴射により短時間で乾燥仕上げ処理することと、洗浄後の洗浄液はオゾンを用いた洗浄液再生装置で有機成分を分解して、循環再使用して経済効率を改善する。 （もっと読む）

【課題】 一枚のシリコンウェーハ中の不純物を外部からの汚染を招来することなく、極めて高感度で、短時間に分析しうるシリコンウェーハの金属不純物の分析方法であって、１枚のシリコンウェーハ表面の任意の箇所での任意の深さにおける金属不純物を測定する為の前処理方法を提供する。
【解決手段】 無電解メッキ法と呼ばれる湿式化学エッチング・溶解法を用いて、シリコンウェーハの深さ方向に対して、均質な細孔を空ける前処理技術を用いて処理した一枚のシリコンウェーハの細孔よりフッ酸を加えながら吸引した回収溶解液を定容して誘導結合プラズマ質量分析法またはＩＣＰ質量分析法により分析する。 （もっと読む）

【課題】 処理水の浄化能力に優れ、大量に臭気ガスの発生する鋳造工場等に好適な脱臭システムを提供する。
【解決手段】 被処理ガスに洗浄水を散水して臭気成分と固形成分とを除去して清浄ガスを排出し、臭気成分を吸着して汚染された洗浄水をポンプ２８によって送水する脱臭装置２０と、汚染された洗浄水を光触媒フィルタ３３により分解して洗浄水を浄化し、ポンプ３５によって脱臭装置２０に循環させるとともに、吸着効率が劣化した洗浄水をポンプ３６によって送水する光触媒分解装置３０と、劣化した洗浄水を濾過ユニット４２で濃縮水と透過水とに分離させ、透過水をポンプ４８によって脱臭装置２０や光触媒分解装置３０に循環させるとともに、ポンプ４７によって濃縮水を再び濾過装置タンク４１に循環させる濾過装置４０とを備える。 （もっと読む）