アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドにより出願された特許
81 - 90 / 1,346
フレキシブル基板に対するチャンバ入り口またはチャンバ出口を密封するためのデバイス、基板処理装置、およびそのようなデバイスを組み立てる方法
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
ライン製造のフロントエンドのためのインサイチュドライクリーンチャンバ
【課題】基板表面から未変性酸化物を除去するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】一態様においては、チャンバは、チャンバ本体と、チャンバ本体内に少なくとも一部が配置され且つその上に基板を支持するように適合された支持アセンブリとを備えている。支持アセンブリは、少なくとも一部がその中に形成され且つ基板を冷却することができる1つ以上の流体チャネルを含んでいる。チャンバは、更に、チャンバ本体の上面上に配置されたリッドアセンブリを備えている。リッドアセンブリは、それらの間でプラズマキャビティを画成している第一電極と第二電極を含み、第二電極は基板を連結的に加熱するように適合されている。
(もっと読む)
回転ターゲットを支持するためのデバイスおよびスパッタリング設備
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
レーザビーム位置決めシステム
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
RFエネルギが中心に給送される物理蒸着のための装置
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
遠隔プラズマ源を用いた誘電体堆積
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
高アスペクト比の特徴をカバーするための窒化ケイ素パッシベーション層
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
周期的な酸化およびエッチングのための装置と方法
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
周期的な酸化およびエッチングのための装置と方法
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
複式噴射を伴う原子層堆積チャンバ
Notice: Undefined index: from_cache in /mnt/www/gzt_applicant_list.php on line 189
81 - 90 / 1,346
[ Back to top ]