説明

三容真空工業株式会社により出願された特許

11 - 13 / 13


【課題】連絡室を省いて装置の小型化を図る。
【解決手段】真空成膜装置には、基板50を保持する基板搬送具40を外部から搬入出する準備室20と、基板搬送具40に保持した基板50に対して成膜処理を行う成膜室10とが設けられている。準備室20には、基板搬送具40を成膜室10に搬入出するピックアップ部26が設けられ、準備室20と成膜室10との間には、成膜室10の雰囲気を真空状態に保ちながら、ピックアップ部26による基板搬送具40の準備室20から成膜室10への搬入出と、成膜室10における基板50への成膜処理を行うための仕切部30が設けられている。 (もっと読む)


【課題】一対の電極膜から効率よく電子を放出する。
【解決手段】後側基板3の対向空間側面31には、フロートガラスからなる後側基板3と異なる絶縁材料のSiO2膜32が設けられている。また、SiO2膜32には、隙間部33が形成されている。また、後側基板3のSiO2膜32上には、蛍光体23を励起発光させるために電子を放出する表面伝導型の電子放出部34が設けられている。各電子放出部34は、一対の電極膜35,36が離間して構成され、一対の電極膜35,36に電圧を印加する(電位差を与える)ことにより電子を蛍光体部22に向けて放出する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、水蒸気バリア性、ガスバリア性に優れたプラスチックレンズ基板を用いて軽量、且つ長時間にわたり発光特性を維持することのできる電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板の製造方法、及び該方法により構成された電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板、又は有機EL素子を提供することを課題とする。
【解決手段】 水蒸気バリア層、及びガスバリア層を有する電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板の製造方法であって、水蒸気バリア層、及びガスバリア層を少なくとも一対の無機層と有機層とからなる無機/有機積層膜で形成し、且つ有機層を熱化学蒸着法、或いはプラズマ重合法を用いて形成することである。 (もっと読む)


11 - 13 / 13