【課題】 ライン状のプラズマを生成するマイクロ波ラインプラズマ発生装置であっても、比較的安価に製造できるものとする。
【解決手段】 マイクロ波を導入される偏平な矩形状導波管１の周面壁１ｂの一部に開口部１ａが形成され、この開口部１ａが誘電体からなる平板体２ａを介して閉鎖されると共に、この平板体２ａの導波管外領域が容器３で包囲され、この容器３内の前記平板体２ａ寄り位置にプラズマ生成用ガスを連続的に供給するためのガス供給手段３ａが設けられる。導波管１内に導入されたマイクロ波の電磁エネルギーが前記平板体２ａを透過することで前記容器３内の前記平板体２ａ寄り位置に供給された前記ガスが励起されラインプラズマとなって前記容器３の放出口から放出される。 （もっと読む）

【課題】 ライン状に発生したプラズマのプラズマ密度の均一性を改善し、高均一なプラズマ処理が出来るプラズマ発生装置を提供すること。
【解決手段】 矩形導波管１は、Ｈ面に長さ方向に縦長の開口が設けられ、両端からマイクロ波が供給される。縦長の開口が設けられたＨ面の外側には、矩形導波管１の縦長の開口の外側から当該開口へプラズマ生成ガスを導入するプラズマ生成ガス供給手段が設けられて、開口２において導波管１のマイクロ波によりライン状プラズマが発生する。矩形導波管１は、開口２が設けられた対面となるＨ面にスペーサ１０が設置され、開口前記縦長の開口の長さ方向中央部におけるＨ面対向距離が、前記縦長の開口の長さ方向端部におけるＨ面対向距離よりも短く設定されている。 （もっと読む）

【課題】 ライン状に発生したプラズマのプラズマ密度の均一性を改善し、高均一なプラズマ処理が出来るプラズマ発生装置を提供すること。
【解決手段】 ライン状に発生させたプラズマの拡散領域にプラズマ密度の均一性を調整する容器１７が設けられる。容器１７はライン状プラズマの長さ方向に設けられており、長さ方向のプラズマ濃度を調整する第１の調整機構２１、幅方向のプラズマ濃度を調整する第２の調整機構２２、微調整のための第３の調整機構２３を有している。第１の調整機構２１はライン状プラズマの長さ方向の複数位置において幅が異なる開口を持ち、第２の調整機構はライン状プラズマの長さ方向に渡り均一な幅の開口を有している。 （もっと読む）

【課題】 誘電体表面に電荷を均一帯電させることにより均一なプラズマの生成を可能にすると共に、プラズマ放電開始電圧の低減を可能にするプラズマ発生電極を提供する。
【解決手段】 互いに均等な間隔を隔てて配置された対向配置された少なくとも一対の対向電極１，１’を備え、これら対向電極１，１’に高周波電力を印加することによって、対向電極１，１’間にプラズマを発生させるプラズマ発生電極であって、前記一対の対向電極１，１’の少なくとも一方の電極表面に一様な厚みに誘電体層２が設けられ、該誘電体層２中には、多数の導体小片７が、誘電体層２の表面の面方向に沿った方向に、当該導体小片サイズ程度の間隔を隔てて一様に分散されて埋設される。 （もっと読む）

【課題】インピーダンス測定回路を簡単でかつ雑音が生じにくい構成とし、高精度の測定が行えるようにする。
【解決手段】信号源から伝送線路を通じて測定用信号の進行波を被測定物に入射させる（ステップＳ１）。進行波の電流を検出する（ステップＳ２）。進行波の電圧と、被測定物からの反射波の電圧との合成電圧を検出する（ステップＳ３）。ステップＳ２で得られた進行波の電流値Ｉ_ｆ、およびステップＳ３で得られた合成電圧値Ｖを用いて、被測定物のインピーダンスＺを決定する（ステップＳ４）。 （もっと読む）

【課題】プラズマチャンバのインピーダンスを高精度で測定することができる、小型、高精度かつ安価なインピーダンス測定装置を提供する。
【解決手段】高周波測定信号を発生する信号源１、３、４ａ、７を備える。また、プラズマ発生装置の測定部位が接続される測定端子を有し、高周波測定信号が測定部位に適用されたとき、測定部位の高周波電流信号および高周波電圧信号を検出し、高周波電流信号および高周波電圧信号をそれぞれ低周波電流信号および低周波電圧信号に変換する信号検出部２、３、４ｂ、５、７を備える。さらに、１測定毎に、信号検出部から低周波電流信号および低周波電圧信号を交互に受信し、低周波電流信号および低周波電圧信号のベクトル比を求め、測定部位のインピーダンスを算出する演算部６、７を備える。 （もっと読む）

【課題】プラズマを利用して、安全かつ確実に消毒、殺菌を行うことができる方法を提供する。
【解決手段】処理槽１と、給水源２と、給水源から処理槽に水Ｗを供給する給水手段３、４と、処理槽の上方に配置され、処理槽の水面に向けてプラズマを照射するプラズマ発生手段５と、プラズマ発生手段を支持する支持手段と、プラズマ発生手段にガスを供給するガス供給源１１と、処理槽から、プラズマ処理された水Ｗを排出する排水手段１２、１３を備える。プラズマ発生手段は、処理槽の水中に電流を流すことなく発生させたプラズマを照射する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波放電プラズマを用いてウエハーの周縁部を処理するプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】導波管の開口に放電管７が装着される。放電管の導波管から外側に露出する部分にスリット８が形成される。導波管に、放電管を取り囲むブロック９が取り付けられる。ブロックは、プラズマ生成室１０、第１の通路１１および第２の通路１２を有する。第１の通路の開口に放電管が収容され、第２の通路の開口はウエハー挿入口１２ａをなす。ブロックは、ガス供給管路１３およびガス排出管路１４を有する。ブロックの前方にターンテーブル１７が配置される。ターンテーブルの上に置かれたウエハー１６を被覆する被覆プレート２８と、被覆プレートを上下に移動させるアクチュエータ２３が備えられる。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰの各色の蛍光体を同時処理することによって、紫外線照射による劣化を防止する手段を提供する。
【解決手段】真空チャンバ１と、真空チャンバに接続された真空ポンプ２と、真空チャンバ内に配置され、その上にＰＤＰ基板３が置かれる処理台４と、処理台の上面を加熱するためのヒータ５と、真空チャンバ内において処理台の上方に間隔をあけて配置され、処理台上のＰＤＰ基板に対してプラズマを照射するプラズマ照射ヘッド６と、プラズマ照射ヘッドおよび処理台を相対移動させる移動機構１４と、プラズマ照射ヘッドに処理ガスを供給するガス供給源１２と、プラズマ照射ヘッドに対し、処理ガスを励起するためのマイクロ波を供給するマイクロ波発生源１３を備える。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】緑色蛍光体の発光強度低下を防止する。
【解決手段】真空槽内１１内に処理対象の基板１０を配置し、プラズマ発生源１２内に水素ガスを含有する処理ガスを導入し、マイクロ波によって処理ガスのプラズマを生成し、基板１０上の緑色蛍光体３５Ｇにプラズマを照射する。緑色蛍光体３５Ｇの結晶性が高くなり、長時間発光しても発光強度が低下しない。プラズマを処理する際に３００℃以上の温度に昇温させておくと効果的である。 （もっと読む）