説明

株式会社山本鍍金試験器により出願された特許

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【課題】例えば、キラル選択性を持たせるのに適した、特定の表面形状を形成した電極を簡便に製造することのできる電極製造方法を提供する。
【解決手段】表面に特定の表面形状を形成した電極を製造するための電極製造方法であって、磁石で発生させた磁場Bの向きと平行に設定された自転軸まわりを反時計回りまたは時計回りに電解槽6を自転させつつ、前記電解槽6とともに前記自転軸まわりに自転するように前記電解槽6内に設けられた一対の電極71,72に対して電解質媒体を通じて電圧および電流のうちの少なくとも一方を印加し、電解を行うことを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】絶縁体によるシリコンウエハの挟持力が大きくても、シリコンウエハが破損する虞のない電気めっき用陰極カートリッジを提供する。
【解決手段】一対の絶縁体2,3でシリコンウエハWを挟持してめっき液に浸し、シリコンウエハWの絶縁体開口4から露出する部分にめっきを形成する電気めっき用陰極カートリッジ1において、絶縁体3の合わせ面に絶縁体開口4を取り囲むようにしてリング状の凹部5を形成するとともに、凹部5内にリング部材6をその内外周にシール部材7を隣接させて収容配置し、リング部材6にピン部材10を周方向に等間隔で複数個植設してある。ピン部材10は、リング部材6の孔34,35に挿入されるハウジングと、ハウジングから先端を突出させてハウジング内に移動自在に収容されたピン本体と、ハウジング内に収容されてピン本体を付勢するスプリングとを備えている。 (もっと読む)


【課題】複数の被めっき物に対して同時にめっき加工を施す際に、被めっき物毎にめっきのむらが生じることがなく均一にめっき加工を施すことを可能としためっき治具を提案する。
【解決手段】めっき液中に浸漬された状態で水平軸回りに回転するめっき治具2であって、回転軸CLと平行をなし、この回転軸CLを中心とした円周上に配設された複数本の挟持棒21と、複数本の挟持棒21の両端を固定する一対の端板22とを備え、挟持棒21には、回転軸CLに沿って所定の間隔をあけて複数の溝が形成されている。 (もっと読む)


【課題】プリント基板などの大きな物に対しても、従来のめっき装置を使用して、磁場を印加した状態でめっきする方法、およびその方法において好適に用いられるめっき用治具を提供する。
【解決手段】めっき液中に浸漬された治具により形成される磁気回路中に、被めっき物2を置く。例えば対向する1対のヨーク3と、それに連結された磁石1により磁気回路を形成し、被めっき物を配置することのできる間隙を有するめっき用の治具を用いる。 (もっと読む)


【課題】磁石とめっき液との接触を防止するとともに、磁石を被めっき物の近傍に配置することができるめっき用治具を提供する。
【解決手段】本発明のめっき用治具2Aは、開口部10Gを有する第1の絶縁板10と、被めっき物Pが開口部10Gから外部に臨むように該被めっき物Pを第1の絶縁板10との間で挟持する第2の絶縁板20と、開口部10Gの周縁に位置して第1の絶縁板10と被めっき物Pとの間に介在して設置された内側シール30と、被めっき物Pの外側に位置して第1の絶縁板10と第2の絶縁板20との間に介在して設置された外側シール40と、内側シール30と外側シール40とによってシールされた空間内において被めっき物Pに電気的に接続する伝導体50と、内側シール30と外側シール40とによってシールされた空間内に配置され被めっき物Pを挟んで対向するN極とS極とを有する磁場形成体60と、を備える。 (もっと読む)


【課題】バレルめっき装置のドラム内部の被処理物に流れる電流の変動、および、バレルめっき装置のドラム内部のめっき液の状態を再現して、これらがめっき皮膜の形成に及ぼす影響について試験を行うことができるめっき装置を提供する。
【解決手段】本発明のめっき装置1は、めっき液を貯留し、摺動板13a,13aによって形成された隙間13Sが設けられた遮蔽板13によって第1の貯留部と第2の貯留部とに区分されためっき槽10と、第1の貯留部に垂直状態で配置され、側壁部21に開口部26を有し、該側壁部21が隙間13Sを閉塞するように摺動板13a,13aに当接して回転するドラム20と、ドラム20の内部に配置されて回転する被めっき物30と、ドラム20と被めっき物30とを互いに回転速度差を持たせて回転駆動させる駆動機構40と、第2の貯留部に配置される陽極50と、を備える。 (もっと読む)


【課題】高電流密度部分の発生の原因となる、ドラム内に収容された被めっき物と棒状の導電性部材との間のすきまの発生を防止することで、被めっき物の表面に形成されるめっき皮膜のこげの発生を防止することができるバレルめっき装置を提供する。
【解決手段】めっき液中に水平状態で浸漬され、被めっき物を収容する筒状のドラム2と、ドラム2を回転可能に支持する支持部材6と、ドラム2を回転駆動させる駆動機構5と、ドラム2と同軸に配置され、ドラム2と一体に回転する軸棒26Bに接続されたセンタバー3と、を備えたことを特徴とするバレルめっき装置1。 (もっと読む)


【課題】液体の濃度や温度分布を均一にする際に、貯水されている液体に渦巻きが生じることのない水槽を提供する。
【解決手段】水槽1は、所定の高さの仕切り板11により、液体Lを貯水するための貯水槽12と、液体Lを撹拌するための撹拌槽13とに区切られている。この水槽1の使用時には、撹拌槽13の撹拌子収容部16に収納されている撹拌子15を回転させて、撹拌槽13に貯水されている液体Lを撹拌すると共に、撹拌子15の回転により、撹拌槽13から撹拌子収容部16に流入した液体Lを液体供給通路17に送出する。液体供給通路17に送出された液体Lは、液体供給口14から貯水槽12に流出する。 (もっと読む)


【課題】 材料強度が比較的弱い極薄な半導体ウエーハ等の被めっき物に対して伝導板を接触させた場合でも、被めっき物に破損、損傷等が生じる事態を解消できるようにする。
【解決手段】 半導体ウエーハWをボルト21を用いて第1の絶縁板10と第2の絶縁板20との間で挟持する。そして、弾性を有する環状の平板からなる導電ゴム(伝導板)60を、第1の絶縁板10と半導体ウエーハWとの間に介在させ、この導電ゴム60を半導体ウエーハWに弾性的に面接触させる。これにより、導電ゴム60は半導体ウエーハWに対するクッションとして機能し、半導体ウエーハWに加えられる導電ゴム60からの荷重(押付力)を和らげるようにする。 (もっと読む)


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