説明

株式会社岡野製作所により出願された特許

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【課題】真空環境において環境を乱さずに圧力値を正確に計測する。
【解決手段】真空装置内の必要な箇所に配置される熱伝導型方式の圧力センサ部2と真空装置外壁に配置される制御部3からなるマイクロ圧力センサである。圧力センサ部2は、底面と円筒状または四角状の枠で形成され空洞部を有する高分子フィルム支持体と、高分子フィルム支持体の枠の上面に、高分子フィルム21が接着剤で貼られ、高分子フィルム21の中央部に一つの圧力センサ22と、圧力センサ22の周辺に、一つ又は複数の温度センサ23を備え、各圧力センサ22と、温度センサ23はそれぞれ、電極を介して制御部3に接続される。制御部3は圧力センサ22に、加熱電力を与え一定温度に加熱制御し、温度センサ23で圧力センサ22の周りの温度を抵抗変化で計測し、抵抗変化で加熱電力に対応する真空装置内の圧力値を補正することで正確な真空装置内の圧力値を測定する。 (もっと読む)


【課題】 真空応用加工装置を用いた種々の薄膜形成プロセスにおいて、現状では複数の真空計を装置外壁近傍にしか設置できず、装置トラブルやメンテナンス、装置改造など設定変更のイベントにより発生した異常を早期に検知できるだけであった。
【解決手段】真空応用加工装置1の計測箇所に複数個設置したマイクロ圧力センサ21からの多チャンネルによる圧力と温度の計測データと、圧力温度データベース部32に蓄積された計測データと常時比較し、その比較結果に基づき、制御バルブ15により排気流量を調整し、供給ガス流量制御器17により供給ガス流量調整を行い、真空応用加工装置内の圧力状態が適正となるように制御を行う真空環境計測制御システム。 (もっと読む)


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