説明

学校法人 関西大学により出願された特許

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【課題】カルシウムセメント系の骨置換材料であって、従来品よりも安全性が高く且つ骨芽細胞の浸潤による骨組織の再生を促進できる骨置換材料を提供する。
【解決手段】α-リン酸三カルシウム、ヒマシ油及び水を含有する骨置換多孔質体形成用ペーストであって、前記α-リン酸三カルシウムの粒子径が10〜50μmであり、前記α-リン酸三カルシウムの含有量が30〜50重量%であることを特徴とするペースト。 (もっと読む)


【課題】強度・弾性が十分であり、かつ水に対して安定性が高いゼラチン繊維およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ処理により原料から抽出したゼラチンおよびポリエチレングリコールに代表する水溶性直鎖状高分子を、水または水とグリセリンに代表するアルコールとの混合溶媒に溶解してなる水溶液を、空気中で下方引出し、もしくは上方引き上げ紡糸することにより、中空糸を含むゼラチン繊維の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】液相法による種々のセラミック膜を低耐熱性基材上に形成する方法を提供する。
【解決手段】支持体上にポリイミド膜を形成する工程と、
その上に金属アルコキシドや金属塩化物塩などの金属塩の溶液を塗布した後、500℃以上に加熱することにより、前記ポリイミド膜上にITOやチタニアなどのセラミック膜を形成する工程と、
前記セラミック膜をプラスチック等の低耐熱性の基材上に転写する工程と
を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】短時間に、しかも、高精度に歪み係数を推定し、補正画像を正確に生成することができるようにしたレンズ歪みの補正法を提供する。
【解決手段】本レンズ歪みの補正法は、仮の歪み係数と誤差との関係が単峰性の目的関数によって表され、前記誤差の唯一の最小点から歪み係数を推定できるというる特質に着目する。仮の歪み係数を用いて補正後の枠線を求め、この補正後の枠線から回帰直線を計算し、この補正後の枠線の座標と回帰直線との誤差を計算し、最小の誤差を算出した仮の歪み係数を歪み係数と推定するが、2つの仮の歪み係数の誤差の大小を比較し、予め決められた誤差の閾値まで、その大小から一方の仮の歪み係数を更新し、仮の歪み係数の範囲を絞りこむ。そして、絞り込まれた範囲では、仮の歪み係数の下限に反復値を順次、上限まで加算し、加算された各仮の歪み係数の誤差を算出する。そして、最小の誤差を算出した仮の歪み係数を歪み係数と推定する。 (もっと読む)


【課題】従来の接合方法では、ラミネート等の加工工程が煩雑であり、生産性が低く、高分子圧電膜の分極方向を同一にすることが困難であり、電圧を印加したときの変位量が不十分であるため、ラミネート工程等の煩雑な工程を必要とせずに、電圧印加時に十分な大きさの変位を生じる積層フィルムを提供する。
【解決手段】導電性を有する層Bの両面に、ポリ乳酸を主たる成分とする層Aを有し、各々の層Aを構成するポリ乳酸がいずれもL体であるか、またはいずれもD体である積層フィルムを、共押出法により得る。 (もっと読む)


【課題】構成が簡易でかつ簡単な制御で駆動できるアクチュエータを提供する。
【解決手段】アクチュエータ(2)は、ずり圧電性材料で構成された薄膜(16)と、薄膜(16)の第1の主面に形成された第1の電極と、薄膜(16)の第2の主面に形成された第2の電極を備え、第1の電極と第2の電極間に所定の交流電圧を印加することで薄膜(16)の少なくとも一の端縁部において駆動力を発生させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本願発明は、単純アルケンとジシランからアリルシラン類を製造することができる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本願発明は、単純アルケンである1−アルケンおよびジシランをトリフルオロ酢酸パラジウム触媒存在下、酸素雰囲気下で反応させることにより、高い位置選択性でアリルシラン類を製造する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、均質な固定化酵素膜を製造することができる固定化触媒膜の製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る固定化触媒膜100の製造方法は、準備工程および生成工程を備える。準備工程では、第1溶液が準備される。この第1溶液では、少なくとも触媒200、ポリカチオン化合物310、ポリアニオン化合物320およびポリイオンコンプレックス形成阻害剤が溶媒に溶解されている。膜形成工程では、第1溶液が膜上に供給され、第1溶液中のポリイオンコンプレックス形成阻害剤および溶媒が選択的に膜透過させられて、その膜上に、固定化触媒膜が形成される。固定化触媒膜では、ポリカチオン化合物およびポリイオン化合物からなるポリイオンコンプレックス中に触媒が固定化されている。 (もっと読む)


【課題】鋳型を必要とせず、微細パターンの形成を3次元的に行うことを可能とする光応答性高分子を提供する。
【解決手段】本発明に係る光応答性高分子は、光の照射を受けて架橋構造を形成する光応答性基を含む高分子であって、光の光線量に応じた割合の光応答性基が架橋構造を形成することにより、上記光の光線量に応じた量の体積が減少するものである。上記光応答基は、光の照射を受けて互いに二量化する二量化基であることが好ましく、上記二量化基としては、シンナモイル基、クマリン基、チミン基、キノン基、マレイミド基、カルコン基およびウラシル基などが例示される。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、高温高湿環境下でも圧電性能が低下し難い圧電・焦電素子用多孔質樹脂シート及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の圧電・焦電素子用多孔質樹脂シートは、ガラス転移点又は軟化点が120℃以上であり、かつ吸水率が0.2%以下である。 (もっと読む)


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