説明

アジレント・テクノロジーズ・インクにより出願された特許

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【課題】光測定を一切行うことなく完全な校正を定期的に行える光学電気デバイス又は光デバイスを試験するためのデバイスを提供する。
【解決手段】第1の電気端子及び第1の光端子を備えた、DUTを試験するための試験デバイスが提供される。このデバイスは、第1の電気回路ポートと第1の光回路ポートとを有する。この第1の光回路ポートは、光ラインによって第1の光端子に結合される。このデバイスは、第1、第2、第3のスイッチポートとを有する第1の電気スイッチを備える。この第1のスイッチは、第1のスイッチポートを、第2のスイッチポート又は第3のスイッチポートのいずれかと選択的に結合するようになっている。さらに、第2のスイッチポートを第1の電気端子と接続する第1の電気ラインが設けられ、第3のスイッチポートを第1の電気回路ポートと接続する第2の電気ラインが設けられる。 (もっと読む)


【課題】プラズマのイオン密度を低減して、イオンビーム中に含有される被分析物元素のイオンの量を増加させ、分析装置としての感度の向上を図る。
【解決手段】スキマーコーン33の背面側でプラズマの側方への広がりを制限するように軸線方向に沿ってプラズマを包囲して延びる側壁35と、当該側壁35の後側に位置してイオンビームを通過可能にした開口57を備えた第1の電極53の平坦部56とによって画定される小衝突室36が設けられる。当該小衝突室36では、追加のガスを導入することなく、その内部の圧力が高められるので、イオンと電子の衝突・再結合によってアルゴンイオンが中和されプラズマのイオン密度が低減される。これによって、イオンの引出・輸送時のビーム径が比較的小さく抑えられる。 (もっと読む)


第1の剪断バルブ部材(100)と、第2の剪断バルブ部材(300)と、前記第1の剪断バルブ部材(100)と前記第2の剪断バルブ部材(300)との間に配置された層部材(200)とを備えた剪断バルブ(10)であって、前記層部材(200)が、前記第1及び第2の剪断バルブ部材(100,300)が互いに対して運動した際に該第1の剪断バルブ部材(100)に対して固定された空間的関係を有するよう構成されている、剪断バルブ(10)。 (もっと読む)


【課題】掃引ヘテロダイン方式の測定装置において、被測定信号以外の信号の入力および手動の位相調整なしに、バースト状の変調信号を測定するための技術を提供する。
【解決手段】
周波数掃引信号源と乗算器とを具備する掃引ヘテロダイン方式の周波数変換器を有する測定装置であって、前記周波数掃引信号源の出力信号の周波数を停止した状態で、前記周波数変換器により周波数変換された被測定バースト信号のタイミングを検出する手段と、周期的パルス信号を発生する手段と、前記検出されたタイミングを用いて、前記パルス信号と前記被測定バースト信号との位相関係を調整する手段と、前記位相関係が調整されたパルス信号を用いて、前記周波数掃引信号源の出力信号の周波数を掃引する手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】DUTの雑音指数の予測が、試験セットにおける機械的切換えなしで行われるようにする。
【解決手段】第1、第2の方向性結合器14、18の間にミスマッチ同調器16が接続されたポート1反射率計20と、第3、第5の方向性結合器24、34からなるポート2反射率計32の間にDUT26が配置され、第4の方向性結合器28が低雑音受信器30に接続されている。ミスマッチ同調器16を用いて測定した低雑音受信器30の負荷整合、DUT26の雑音電力出力及びSパラメータを基にしてDUT26の雑音指数を予測する。 (もっと読む)


【課題】改善された偏光モード分散(PMD)アナライザを提供する。
【解決手段】光源、センサ、出力位相信号アナライザ、及びコントローラを有する偏光モード分散アナライザである。前記光源は、プローブ光信号を生成する。該プローブ光信号は、強度変調され、更にまた偏光変調される。前記光源は、該光信号を試験下のデバイスに提供するよう構成されている。前記センサは、前記試験下のデバイスから出力される出力光信号の強度変調の位相に関連した出力位相信号を生成する。前記出力位相信号アナライザは、前記偏光変調に関連した周波数において、出力位相信号における少なくとも1つの周波数成分の振幅と位相とを測定する。前記コントローラは、その測定された振幅と位相とを利用して、前記試験下のデバイスの群遅延差を示す信号を生成する。前記コントローラはまた、前記試験下のデバイスに関連付けられた群遅延を測定する。 (もっと読む)


【課題】集積回路において、トランジスタのしきい値電圧などの特性変動あるいはばらつきが与える回路動作への影響を受けにくい集積回路およびTEG回路を提供する。
【解決手段】1対の抵抗デバイスMP1,MP2と、1対のN型差動トランジスタMN1,MN2と、該1対のN型差動トランジスタに動作電流を供給する電流源トランジスタMLとを備えた電流モード動作回路において、その電流源トランジスタに流れる電流の制御電圧VLを、N型差動トランジスタのしきい値電圧などの特性変動に対して、集積回路の電圧利得が少なくとも1以上となるよう決定する。 (もっと読む)


【課題】光エンコーダのシステム構成に関しては、少なくとも前述した公知の光エンコーダの欠点を克服する必要性がある。
【解決手段】位置測定システムと、チップ上の位置測定システム(LSoC)および方法が記載される。 (もっと読む)


本発明の態様は、2’部位でチオ炭素保護基によって保護されている2’保護ヌクレオシドモノマーを含む。対象とするチオ炭素保護基には、チオカーボネート、チオノカーボネート、ジチオカーボネート基、およびチオノカルバメート保護基が含まれる。本発明の態様は、本発明の保護基を含む核酸、および本発明の保護基を使用した核酸の合成方法をさらに含む。
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【課題】高マトリクス溶液試料をプラズマ化する前に希釈するのに適した新規の装置及び方法を提供する。
【解決手段】スプレーチャンバ20から延出し、プラズマトーチ30に連結される輸送管70の途中に追加のガスG2による気流が提供される。霧化された分析試料は、輸送管70を通過して、スプレーチャンバ20内に導入されたガスG1によってスプレーチャンバ20からプラズマトーチへ向けて移動するが、移動方向に対して交差する追加のガスG2の気流の存在によって、移動が妨害される。その際、霧を構成する液粒は、相互に結合し、比較的大きな径の粒となり、輸送管70の途中の壁面に液滴を形成する。これによって、プラズマトーチ30に達する試料の量を再現性良く制御して減らすことが出来る。 (もっと読む)


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