【課題】 塗布時の染みを減らし、塗布均一性を向上させ、真空乾燥時に逆テーパ状とならないように特定構造の共溶媒を含んで、パターン形状を著しく改善するだけでなく、パターン幅の不均一問題を発生しないフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 本発明によるフォトレジスト組成物は、（ａ）ノボラック樹脂５〜３０重量％、（ｂ）ジアジド系感光性化合物２〜１０重量％、（ｃ）ジアルキルエーテル系共溶媒１〜７０重量％、及び（ｄ）有機溶媒残量を含む。 （もっと読む）

【課題】集電線保護層の硬化が十分に行われた染料感応太陽電池を提供する。
【解決手段】本発明の染料感応太陽電池は、前面透明基板と前面透明基板上の前面導電層と前面導電層上の前面集電線と、後面透明基板と後面透明基板上の後面導電層と後面導電層上に形成され貫通部を有する後面集電線とを含む。
本発明の染料感応太陽電池は、前記前面集電線に形成し硬化した保護層と、前記後面集電線に形成した硬化性保護層とを対応させて圧着した後、後面集電線の硬化性保護層を硬化させることにより製造される。 （もっと読む）

【課題】黒色層と導電層が一体化したプラズマディスプレイパネルのバス電極を形成することができ、黒色顔料使用量の減少で製造費用節減と共に低温焼成が可能であり、高解像度電極パターン形成が可能であり、抵抗の増加なしにプラズマディスプレイパネルの黒色度を改善させることができるプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペーストを提供する。
【解決手段】本発明によるプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペーストは、ａ）電極用金属粉末４０〜８０重量部と、ｂ）Ｖ₂Ｏ₅−Ｐ₂Ｏ₅系、又はＶ₂Ｏ₅−Ｐ₂Ｏ₅系とＢｉ₂Ｏ₃−ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃系混合の黒色ガラスフリット１〜１０重量部と、ｃ）Ｃｕ−Ｃｏ−Ｍｎ系黒色顔料１〜７重量部と、ｄ）感光性有機成分７〜４０重量部とを含む。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバーおよび後面支持体吸着方式によるプリンティング用スタンプの製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】真空発生装置に連結され開閉される空間からなる真空チャンバー１０と、前記真空チャンバー１０の下部に位置し上面にモールドパターンを有するマスターモールド２０と、前記真空チャンバーの上部に上下移動可能に位置し、後面支持体を脱／付着する後面支持体付着用チャック３０と、（ａ）前記真空チャンバー１０内を前記真空発生装置によって真空状態にし、（ｂ）前記後面支持体付着用チャック３０に後面支持体を付着した状態で前記付着用チャック３０を下に移動するようにして前記マスターモールドの上面に形成されたスタンプに前記後面支持体を付着し、（ｃ）前記真空状態または前記真空を解除した状態で、前記後面支持体付着用チャック３０から後面支持体を脱着した状態で前記付着用チャックを上に移動する制御部とを含む。 （もっと読む）

【課題】 イオン化されない熱活性ナノ触媒を含み、金属層の化学機械的平坦化工程に有用な研磨スラリー組成物及びこれを用いた研磨方法が開示される。
【解決手段】 化学機械的研磨スラリー組成物は、化学機械的研磨工程で発生するエネルギにより電子と正孔を放出させるイオン化されない熱活性ナノ触媒、研磨剤、及び酸化剤を含む。イオン化されない熱活性ナノ触媒と研磨剤は互いに異なっており、イオン化されない熱活性ナノ触媒は、水溶液状態で１０ないし１００℃の温度で電子と正孔を放出させる半導体物質であるものが好ましく、好ましくは、ＣｒＳｉ、ＭｎＳｉ、ＣｏＳｉ、ＦｅＳｉ及びこれらの混合物からなる群より選ばれる遷移金属シリサイドを用いることができ、さらに好ましくは、ナノフェロシリコンのような半導体物質を用いることができる。イオン化されない熱活性ナノ触媒の含有量は、全体スラリー組成物に対して０．００００１ないし０．１重量％である。 （もっと読む）

【課題】 エッチング液の安定性を確保しエッチング工程上のマージンを保障して費用を節減することができるエッチング液組成物及びこれを利用したアレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のエッチング液組成物は、過硫酸アンモニウム（（ＮＨ₄）₂Ｓ₂Ｏ₈；ammonium persulfate）０．１〜３０質量％、無機酸０．１〜１０質量％、酢酸塩０．１〜１０質量％、フッ素含有化合物０．０１〜５質量％、スルホン酸化合物０．０１〜５質量％、アゾール系化合物０．０１〜２質量％、及び総量が１００質量％となる量の水を含む。 （もっと読む）

【課題】新たな構造を有するポリスルホン系重合体と、前記重合体を含む高分子電解質膜と、前記高分子電解質膜を含む膜−電極接合体と、前記高分子電解質膜を含む燃料電池、および、前記ポリスルホン系重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記の［化１］で示す反復単位を含むことを特徴とする。［化１］
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【課題】 ＴＦＴ−ＬＣＤの層間有機絶縁膜の形成に使用されて、光配向用液晶工程での過露光による液晶偏り現象を改善することができるだけでなく、パターンの解像度調節が容易であり、層間有機絶縁膜の平坦化膜形成に特に適した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ＴＦＴ−ＬＣＤ用層間有機絶縁膜形成のための感光性樹脂組成物において、ＵＶ安定化剤またはラジカルスカベンジャーを０．０１〜２０質量％含むことを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を利用するＴＦＴ−ＬＣＤ用層間有機絶縁膜の形成方法、及び前記感光性樹脂組成物の硬化体を層間有機絶縁膜として含むＴＦＴ−ＬＣＤ。 （もっと読む）

【課題】 既存のＳｉＮｘパッシベーション膜／アクリル系感光性有機絶縁膜の二重構造を一つの層に形成することにより、工程を単純化し、生産費を節減することができ、感度、解像度、工程マージン、透明性、耐熱変色性などの性能が優れると共に、特に低誘電率絶縁膜を可能にすることによって消費電力を低くすることができ、残像及びクロストーク、及びしきい電圧のシフト現象を防止することができ、また、優れた耐熱性による低アウトガスを可能にすることによって優れたパネル信頼性を確保することができ、これによって多様なディスプレイにおいてパッシベーション絶縁膜、ゲート絶縁膜だけでなく、平坦化膜などとしても有用に適用することができるポジティブ型感光性有機・無機ハイブリッド絶縁膜組成物を提供する。
【解決手段】 本発明によるポジティブ型感光性有機・無機ハイブリッド絶縁膜組成物は、ｉ）下記の化学式１で示される１〜３個のフェニル基を含む反応性シラン、（ii）下記の化学式２で示される４官能反応性シランのシラン単量体を触媒の存在下で加水分解及び縮合重合して得られたポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜２０，０００であるシロキサンオリゴマー化合物；（ｂ）１，２−キノンジアジド化合物；及び（ｃ）溶媒を含むことを特徴とする。
【化１】


（式中、Ｒ₁はフェニル基であり、Ｒ₂はそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルコキシ基、フェノキシ基、またはアセトキシ基であり、ｎは１〜３の整数である。）
【化２】


（式中、Ｒ₃はそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルコキシ基、フェノキシ基、またはアセトキシ基である。）。 （もっと読む）