【課題】個別の工程で形成されることで分離して配置された電極どうしを断線することなく接続できる半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の主面に第１の絶縁膜を介して形成された第１の電極と、半導体基板の主面に第２の絶縁膜を介して形成された第２の電極との間に補償膜を埋設する。第１の電極及び第２の電極上には、第１の電極の上面及び第２の電極の上面と接触する、第１の電極の上面から補償膜の上面を経由して第２の電極の上面まで到達する配線を形成する。 （もっと読む）

【課題】縦型トランジスタのソース又はドレイン用の拡散層を形成するにあたって形成されるシリコン膜に表面凹凸を発生させない半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の半導体ピラーを形成する工程と、隣り合う前記半導体ピラーで挟まれた溝の側面を覆うように絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜の前記溝の底部に近い領域に側面開口を形成する工程と、前記溝の内部を覆うようにシリコン膜からなる被覆膜を形成する工程と、前記被覆膜上に前記半導体ピラー内へ拡散させる不純物で構成された不純物層を形成する工程と、前記不純物を、前記側面開口を塞ぐように形成されている前記被覆膜を通して前記半導体ピラー内に熱拡散させてソース又はドレイン用の拡散層を形成する工程と、を含む。前記被覆膜の成膜温度を５１０℃より高く度５５０℃未満の範囲とすることにより、非晶質状態のシリコン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の共通規格に依存してテストモードのリセットを行うのではなく、自律してテストモードのリセットを行う半導体装置が、望まれる。
【解決手段】半導体装置は、内部回路のテストを可能にする第１のテスト部と、第１のテスト部の動作状態を制御可能な第２のテスト部と、第２のテスト部が、第１のテスト部のリセット状態を解除したことに応答して活性化されると共に、第１のテスト部の活性化から所定の期間が経過後に、リセット信号を発生するテストリセット部と、を備えている。第２のテスト部は、テストリセット部が発生するリセット信号を受け付けた場合に、第１のテスト部をリセット状態とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、第１の不純物拡散領域と第２の不純物拡散領域との間に位置するピラーを流れるドレイン電流が、隣接するピラーにリーク電流として流れることを防止可能な半導体装置及びその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】半導体基板１３に立設されたピラー２８と、Ｙ方向に延在するように半導体基板１３に設けられ、Ｙ方向と交差するＸ方向において対向するピラー２８の第２の側壁を露出する第１の溝１６と、ピラー２８の第２の側壁の下部に設けられた第１の不純物拡散領域と、ピラー２８の上端に設けられた第２の不純物拡散領域と、半導体基板１３に内設され、第１の溝１６の底１６Ａに配置された絶縁層１４と、を有する。 （もっと読む）

【課題】トランジスタのオン電流を十分に確保することが可能な信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】活性領域６を分断する２つの埋め込みゲート用の溝部８ａ，８ｂにゲート絶縁膜９を介して埋め込まれたゲート電極７ａ，７ｂと、ビットコンタクト用の溝部１２を挟んで対向する一対の埋め込みゲート用の溝部８ａ，８ｂの底部に不純物が拡散された領域１３ａ，１３ｂと、ビットコンタクト用の溝部１２に不純物が拡散された領域１３ｃと、が結合されて設けられた第１の不純物拡散層１３と、中央部を挟んだ両側に位置する活性領域６ａ，６ｃに、ゲート電極７ａ，７ｂの上面と同程度の深さで不純物を拡散させることによって形成された第２の不純物拡散層１４ａ，１４ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】ＬＳパターンの間隔が狭くなり、露光光の波長が短くなると、化学増幅型レジスト膜を使用しても、ＬＳパターンの終端部に露光不良部分が生じる。
【解決手段】パターニング阻害膜をＬＳパターンの終端部に隣接した非露光領域に設け、露光領域及び非露光領域上に化学増幅型レジスト膜を形成する。露光領域だけでなく、非露光領域上の化学増幅型レジスト膜にＬＳパターンを露光現像する。非露光領域上には、パターニング阻害膜が形成されているため、露光の際、露光領域上のＬＳパターンの終端部には、露光不良部分が生じない。このため、露光領域に、周期性に乱れのないＬＳパターンを形成できる。 （もっと読む）

【課題】パッドが設けられた面の向きを変えても、パッドを基板に接続するボンディングワイヤが交差しない半導体装置を提供する。
【解決手段】複数のパッドを含む第１のパッド群と、第１のパッド群に平行に一列に配置された複数のパッドを含む第２のパッド群と、第１のパッド群を基準にして第２のパッド群とは反対側に設けられた複数のバッファ回路を含む第１のバッファ回路群と、第２のパッド群を基準にして第１のパッド群とは反対側に設けられた複数のバッファ回路を含む第２のバッファ回路群と、第１のパッド群の複数のパッドのそれぞれを第２のバッファ回路群の複数のバッファ回路のそれぞれに対応して接続する複数の第１の配線と、第２のパッド群の複数のパッドのそれぞれを第１のバッファ回路群の複数のバッファ回路のそれぞれに対応して接続する複数の第２の配線と、を有する。 （もっと読む）

【課題】スタンバイ状態時における第１導電型のトランジスタでの劣化を抑制可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、第１導電型のトランジスタを含み縦列接続された複数の回路と、複数の回路の其々の入力端子のうち他の回路と接続された接続入力端子と接続し接続入力端子の電圧を制御するための制御信号の活性化に応じて、接続入力端子に、該接続入力端子から電圧を受け付ける回路内の第１導電型のトランジスタを非導通状態とする第１の電圧を供給する制御回路と、を備える。 （もっと読む）

【課題】吸着ツールに対する半導体チップの位置ずれを補正して被搭載体に搭載可能となり、被搭載体に対する半導体チップの位置精度の向上が図れる半導体装置の製造方法、および、製造装置を提供する。
【解決手段】半導体チップ２を吸着ツール１２で吸着する工程と、吸着ツールに吸着された半導体チップの裏面から赤外線カメラ１３で赤外線画像を撮影することにより半導体チップの表面にあるアライメントマークの位置を検出する工程と、赤外線カメラによって検出されたアライメントマークの位置に基づいて吸着ツールに対する半導体チップの位置ズレを補正して半導体チップを被搭載体３に搭載する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】第1の領域において、第２の絶縁膜からゲート絶縁膜への酸化剤の侵入を防止する。第２の領域において、複数の第１の配線間に設けられた第２の絶縁膜を第１の絶縁膜に対して選択的に除去する。
【解決手段】半導体装置の製造方法では、基板の第１の領域には第１の積層体を形成し第２の領域には複数の第１の配線を形成する。第1の絶縁膜をマスクとして、第1の領域の主面に第１の不純物のイオン注入を施す。第１の積層体の側壁を覆いかつ複数の第１の配線間を埋設するように第２の絶縁膜を形成する。第２の絶縁膜をマスクとして、第1の領域の主面に第２の不純物のイオン注入を施す。第1のエッチングにより、第２の絶縁膜を第１の絶縁膜に対して選択的に除去した後、基板に熱処理を行う。 （もっと読む）