【課題】データ出力バッファの正確なインピーダンスキャリブレーション動作を行う。
【解決手段】電源ラインＶＬ１とデータ端子２４との間に接続されたＰ型トランジスタユニット２０１と、電源ラインＶＬ１とキャリブレーション端子ＺＱとの間に接続されたＰ型トランジスタユニット１１１〜１１４と、キャリブレーション端子ＺＱの電位が基準電位ＶＲＥＦと一致するよう、Ｐ型トランジスタユニット１１１〜１１４インピーダンスを調整し、一致した状態におけるＰ型トランジスタユニット１１１〜１１４の一つのインピーダンスをＰ型トランジスタユニット２０１に反映させるインピーダンス制御回路とを備える。これにより、基準電位ＶＲＥＦが電源電位ＶＤＤの半分のレベルからオフセットしたレベルに設定されている場合であっても、正確なキャリブレーション動作を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、シリコン層上に、抵抗値が低く、かつ平坦性の良好なニッケルモノシリサイド層を形成可能な半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】基板に形成されたシリコン層を覆ように白金を含むニッケル層を堆積する工程であって、シリコン層に近い部分では遠い部分と比較して結晶性が低くなるように、白金を含むニッケル層を堆積する工程Ｓ０５と、基板を加熱することで、シリコン層と白金を含むニッケル層との界面にニッケルモノシリサイド層を形成する工程Ｓ０７と、を有する。 （もっと読む）

【課題】より少ない調整ステップでキャリブレーションを完了する。
【解決手段】出力端子（ＤＱに相当）と、出力端子と接続され、出力端子を調整可能なインピーダンスで駆動する出力回路（２１０に相当）と、出力回路のインピーダンスを段階的に調整するキャリブレーション回路（１００）と、を備え、キャリブレーション回路は、キャリブレーション動作の実行を指示するコマンドを受けて、インピーダンスの調整を開始し、インピーダンスを変化させる変化幅を、開始直後に対し以降においてより狭めるように調整する。 （もっと読む）

【課題】柱状半導体層の幅を広く維持することができる半導体装置を提供すること。
【解決手段】半導体装置は、一つの直線上に順に形成された、第１、第２及び第３の柱状半導体層と、第２及び第３の柱状半導体層の間の空間であって第２及び第３の柱状半導体層の側面に夫々設けられた第１及び第２のゲート電極と、第１及び第２の柱状半導体層の間の空間及び第２及び第３の柱状半導体層の空間に埋め込まれた層間絶縁膜とを有する。層間絶縁膜は、第１及び第２の柱状半導体層の間の空間内であってゲート電極を介することなく第１及び第２の柱状半導体層の側面に形成され、第２及び第３の柱状半導体層の間の空間内であって第１及び第２のゲート電極を介して第２及び第３の柱状半導体層の側面に形成されている。 （もっと読む）

【課題】半導体チップに構成されるメモリコアにおける電源系を容易に分離可能な配線構造を実現しスループットの向上が可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置は、半導体チップＣ１に複数のメモリコア（ＤＲＡＭコア）が構成される。各メモリコアは、第１電源によって動作しパラレルデータを双方向に伝送するデータバスを駆動する第１回路領域と、第１電源と分離された第２電源によって動作しデータバスを伝送されるパラレルデータと外部端子を介して入出力されるシリアルデータとを双方向に変換する第２回路領域と含む。第１貫通電極群２３は、第１回路領域に第１電源を供給する複数の貫通電極をＹ方向に並べて配置され、第２貫通電極群２１は、第２回路領域に第２電源を供給する複数の貫通電極をＹ方向と交差するＸ方向に並べて配置される、それぞれの貫通電極群を経由して第１及び第２電源の配線群が互いに分離した配置で形成される。 （もっと読む）

【課題】ゲート電極膜に注入したイオンがチャネル領域に達してＭＩＳＦＥＴの電気特性に影響を与えていた。
【解決手段】半導体基板の主面上にゲート絶縁膜を介して形成されるとともに、第１導電型となる不純物を含んだシリコンを主体とする第１ゲート電極膜と、前記第１ゲート電極膜上に形成されるとともに、酸素及び窒素のうち一方又は両方を含んだシリコンを主体とする介在層と、前記第１ゲート電極膜上に前記介在層を介して形成されるとともに、前記第１導電型となる不純物を含んだシリコンを主体とする第２ゲート電極膜と、を含む電界効果トランジスタを有する。 （もっと読む）

【課題】ストローブ信号の変化によって基準電位に重畳するノイズを低減し、これにより、基準電位を用いる入力レシーバ回路の動作マージンの低下を防止する。
【解決手段】ストローブ信号ＩＤＱＳＴによって活性化され、入力信号ＤＱの電位と基準電位ＶＲＥＦとを比較することによって出力信号ＩＤＱＲを生成する入力レシーバ回路１７Ｒと、ストローブ信号ＩＤＱＳＴの変化によって基準電位ＶＲＥＦに生じるノイズをキャンセルするノイズキャンセラ１００Ｔとを備える。本発明によれば、ノイズキャンセラ１００Ｔによって基準電位ＶＲＥＦに生じるノイズがキャンセルされることから、入力レシーバ回路１７Ｒの動作マージンを十分に確保することができる。これにより、高速なデータ転送を行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】パリティエラーが発生した場合に適切な処理を実行する。
【解決手段】例えば、アクセスすべきメモリセルＭＣのアドレスを示すアドレス信号ＡＤＤ及びアクセスの種別を示すコマンド信号ＣＭＤを外部から受け、これらに基づいてメモリセルアレイ１１にアクセスするアクセス制御回路２０を備える。アクセス制御回路２０は、外部から供給される検証信号ＰＲＴＹに基づいてアドレス信号ＡＤＤ及びコマンド信号ＣＭＤを検証する検証回路９０を含む。検証回路９０は、アドレス信号ＡＤＤ又はコマンド信号ＣＭＤがエラーであると判定した場合、メモリセルアレイ１１へのアクセスを停止する。これにより、いわゆるパリティエラーなどの不良が検出された場合、誤ったコマンドの実行によってデータが破壊されたり、誤ったアドレスにデータを上書きしたりすることがない。 （もっと読む）

【課題】電流―電圧特性の向上およびオン電流を増大することが可能で、高速動作に優れた半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板１２の主面に形成され、第1の方向に延在する複数の活性領域と、活性領域を区画する素子分離領域と、半導体基板１２の主面に形成されたものであって、平面視して複数の活性領域に交差する方向に延在する複数のゲート溝と、ゲート溝のそれぞれに埋め込まれた複数のゲート電極２２と、を備えた半導体装置であって、ゲート溝のそれぞれの底面には、第１の方向に延在すると共に、上面７１ａが半導体基板１２の主面よりも低い位置に配置する一対の突起部７１が形成されており、ゲート電極２２は、ゲート絶縁膜２１を介して突起部７１の上面７１ａと内側面７１ｂと外側面７１ｃとを覆ってなる、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】相補の信号によりプルアップバッファ回路とプルダウンバッファ回路を制御し、レベルシフタ関連回路をコンパクトに構成する。
【解決手段】半導体装置１０は、プルアップバッファ回路１００とプルダウンバッファ回路２００を排他的にオン・オフ制御することによりデータ端子ＤＱからデータを出力する。シリアライザ３００は、相補な内部データ信号ＤＴ１／ＤＣ１を出力する。レベルシフタ３７０は、内部データ信号ＤＴ１／ＤＣ１の電圧レベルを変換し、相補な内部データ信号ＤＴ２／ＤＣ２を同時生成する。プルアップバッファ回路１００とプルダウンバッファ回路２００は、この変換後の内部データ信号ＤＴ２／ＤＣ２により制御される。 （もっと読む）