【課題】先行技術の諸問題を解決し且つ改善された品質を有するイオン伝導性の、特に酸素透過性の膜を製造することができる、プラズマスプレー法を提供すること。
【解決手段】イオン伝導性を有するイオン伝導膜を製造するためのプラズマスプレー法であって、この膜がプロセスチャンバー内で基材（１０）上に層（１１）として堆積され、出発材料（Ｐ）が、プロセスガス（Ｇ）を用いてプロセスビーム（２）の形で基材（１０）表面にスプレーされ、この出発材料は、最大で１０，０００Ｐａの低いプロセス圧力でプラズマに注入され、且つそこで部分的に又は完全に溶融される方法が提供される。酸素（Ｏ_２；２２）は、プロセスガスの全流量の少なくとも１％、好ましくは少なくとも２％になる流量で、スプレー中にプロセスチャンバー（１２）に供給される。 （もっと読む）

【課題】金属基材上に浸食防止層を作製する方法を提供する。
【解決手段】腐食防止材料は金属基材２上に溶接される。材料は、少なくとも０．１％の炭素と少なくとも１２％のクロムを含有する鋼である。材料は、レーザ堆積溶接によって基材２に適用される。これによって金属基材２及び基材２に適用された浸食防止層３を有するコンポーネント１が作製される。 （もっと読む）