本発明は、可変の光学／エネルギー反射または透過特性を有する電気制御可能なデバイスに関する。本発明はそのデバイスが自立型の膜の形態に形づくられ、この膜が少なくとも１種類の第１成分と少なくとも１種類の第２成分とを含むブレンドから形成され、該第１成分はこのブレンドに通電変色機能を与え、また第２成分は上記ブレンド内でのイオン電荷移動のための電解質機能を生み出す。
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本発明は、第一の硬質基板（Ｓ１）；第二の硬質基板（Ｓ２）；１つ以上の薄膜を含み、そして該基板（Ｓ１及びＳ２）の間に置かれている複層を含む、１つ以上の活性なシステム（３）；及び万一割れた場合に、該グレージングアセンブリの破片を保持する機能を有する１つ以上のポリマーフィルム（ｆ１）（該フィルムは、該基板（Ｓ１）と該基板（Ｓ２）との間に置かれている）：を引き続いて含むグレージングアセンブリであって、該活性なシステム（３）が、該基板（Ｓ１）の内部表面（２）上にあることを特徴とする該グレージングアセンブリに関するものである。
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本発明は、可変の透過または反射光学／エネルギー特性を有する電気的に制御可能な装置に関するものである。本発明の装置は、エレクトロクロミック機能を有する層のスタックを備える少なくとも１つの支持基板からなり、前記スタックは、電解質によって隔てられ、２つの電気リード間に配置される少なくとも２つの活性エレクトロクロミック層を含み、２つの電気リードは、支持基板に最も近いリードに対応する下部リードと、基板から最も遠いリードに対応する上部リードとである。本発明は、機能層のスタックが、少なくとも１つのポリマーフィルムに結合され、ポリマーフィルムが、０．６％から４％の間、好ましくは、０．６％から２％の間、より好ましくは０．８％から１．５％の間の収縮率を有することを特徴とする。
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本発明は、少なくとも一つの薄い誘電体層がコートされた基板（１）、例えばガラス基板、に関する。本発明によれば、誘電体層はカソード・スパッタリングによって、例えば、磁界によってたすけられる、好ましくは酸素および／または窒素の存在下で反応性であるカソード・スパッタリングによって、イオン源（４）からの少なくとも一つのイオンビーム（３）への曝露と、堆積される。本発明は、イオンビームに曝露された誘電体層が結晶化することを特徴とする。
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本発明は、使用者によって取り扱うことのできる、固体で耐久性のあるマトリックス中に分散された発光体を含む照明系に関する。当該照明系は、透過装置又は光拡散装置、特には一体の単一又は複合層のグレージングに適用される。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一つの薄い誘電体層がコートされた基板（１）、例えばガラス基板に関する。本発明によれば、誘電体層はカソード・スパッタリングによって、例えば、磁界によってたすけられる、好ましくは酸素および／または窒素の存在下で反応性であるカソード・スパッタリングによって、イオン源（４）からの少なくとも一つのイオンビーム（３）への曝露と、堆積される。本発明は、イオンビームに曝露された誘電体層がイオン源のパラメータに基づいて調整できる屈折率を有し、前記イオン源が線状源であることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明によれば、基板（４）のコーティングした面に向けられたプラズマの助けによって、コーティング、特に金属含有コーティングを備える基板（４）の一部の範囲、特に周辺ゾーン（１１）で層を除去する。プラズマヘッド（１０）を基板（４）に対してしかるべく位置合わせすること、及び／または対応する必要な数のプラズマヘッド（１０）を動作させて、１列の互いに隣接して配置したいくつかのプラズマヘッド（１０）または修正可能な断面を有する１つのプラズマヘッドから、望ましい層除去幅でプラズマを基板に向けることによって、層を除去するゾーン（１１）の幅を調整すればよい。層の厚さ全体にわたるコーティングを部分的にだけ除去することも可能である。
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本発明は、主ファーネスを含む主デバイスによって液体主ガラスの主フローを製造すること、浸漬バーナーを有する補助ファーネスを含む補助デバイスによって液体補助ガラスの補助フローを製造することを含み、２つのフローは次いで最終ガラスの単一の合計フローを形成するように混合される、ガラスの製造のためのデバイス及び方法に関する。最終ガラスが着色されたガラスであるように、補助ファーネスを用いて、主ガラスに着色剤を提供する。極端に均質でありかつその物質中に着色された板ガラスを、低遷移時間のシステムを用いて製造できる。
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